ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材

    公开(公告)号:JPWO2013081003A1

    公开(公告)日:2015-04-27

    申请号:JP2013547185

    申请日:2012-11-28

    CPC classification number: C23C14/48 B05D3/148 B05D7/04 C23C18/122 C23C28/00

    Abstract: 本発明は、合成樹脂からなる基材と、該基材上に形成されたガスバリア層を少なくとも有するガスバリア性フィルムの製造方法であって、下記工程1、2を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法、及び、この製造方法により得られるガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材である。本発明により得られるガスバリア性フィルムは、高温・高湿条件下でも、ガスバリア層と基材との密着不良の問題が生じないものである。(工程1)前記基材上に、ケイ素系高分子化合物と有機溶媒を含有するケイ素系高分子化合物溶液を塗工し、得られたケイ素系高分子化合物溶液の塗膜を加熱乾燥することにより、ケイ素系高分子化合物を含む層を形成する工程であって、前記基材と有機溶媒の組合せが、前記基材を該有機溶媒中に23℃で72時間浸漬したときに計測される、前記基材のゲル分率が70%以上98%未満のものである工程(工程2)形成したケイ素系高分子化合物を含む層にプラズマ処理を行うことにより、ガスバリア層を形成する工程

Patent Agency Ranking