동적 웨이퍼 스트레스 관리 시스템
    81.
    发明公开
    동적 웨이퍼 스트레스 관리 시스템 无效
    动态应变管理系统

    公开(公告)号:KR1020080069120A

    公开(公告)日:2008-07-25

    申请号:KR1020080003844

    申请日:2008-01-14

    Inventor: 유우식 강기택

    Abstract: A dynamic wafer stress managing system is provided to obtain accurate information of a blanket wafer and a wafer that has a pattern without a damage of the wafer. A dynamic wafer stress managing system comprises a sample holder, a light source(120), and a detection system(115). The sample holder is configured to analyze features of a sample. The light source generates a beam pattern to be directed toward a first region of the sample. The detection system receives a reflected beam from the sample. The reflected beam is used to determine one or more surface features of the first region of the sample.

    Abstract translation: 提供动态晶片应力管理系统以获得具有图案而不损坏晶片的覆盖晶片和晶片的精确信息。 动态晶片应力管理系统包括样品架,光源(120)和检测系统(115)。 样品架被配置为分析样品的特征。 光源产生指向样品的第一区域的光束图案。 检测系统从样品接收反射光束。 反射光束用于确定样品的第一区域的一个或多个表面特征。

    表面形状測定装置、および欠陥判定装置
    82.
    发明专利
    表面形状測定装置、および欠陥判定装置 审中-公开
    表面形状测量装置和缺陷确定装置

    公开(公告)号:JP2016114602A

    公开(公告)日:2016-06-23

    申请号:JP2015236519

    申请日:2015-12-03

    Inventor: 西脇 正行

    Abstract: 【課題】簡単安価な構成により、光センサを用いて対象物の微細な表面形状を確実に測定できるようにする。 【解決手段】走査ユニット1で対象物2を走査照明光により照明し、対象物2の被測定面で反射された反射光を受光する検出ユニット4で受光し、対象物2の形状を測定する。検出ユニット4は、その長手面が対象物2の長手方向と沿うように隣接して配置された複数の導光部材と、各導光部材の入射面を構成する長手面から入射され導光部材の出射面から出射される光を受光する光センサ410、411を備える。結像素子3により、検出ユニット4の入射面の近傍に対象物2からの反射光を結像する。各導光部材の出射面に対向してそれぞれ配置された光センサ410、411の出力分布に応じて対象物2の反射光が反射された部位の表面形状を測定する。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:通过廉价且简单的结构可靠地测量使用光学传感器的物体的精细表面形状。解决方案:用扫描单元1对物体2进行扫描照射,在表面反射的反射光 物体2的被测量被检测单元4接收,从而测量物体2的形状。检测单元4包括:多个导光构件,其相对地沿着物体2的纵向方向布置 纵向表面; 以及用于接收从导光构件的发射表面发射并从构成每个导光构件的入射表面的纵向表面入射的光的光学传感器410,411。 通过图像形成元件3在检测单元4的入射面附近形成来自物体2的反射光。由物体2的反射光反射的区域的表面形状根据输出 布置成面对每个导光构件的发光表面的光学传感器410,411的分布。图1:

    画像取得装置及び画像取得方法
    83.
    发明专利
    画像取得装置及び画像取得方法 审中-公开
    图像获取装置和图像采集方法

    公开(公告)号:JP2015114420A

    公开(公告)日:2015-06-22

    申请号:JP2013255066

    申请日:2013-12-10

    Abstract: 【課題】サンプルの励起波長が変化する状況下においても、コントラストの高い画像を、簡便な方法で得ることが可能な画像取得装置及び画像取得方法を提供する。 【解決手段】レーザー光を出射し、当該レーザー光の波長を制御可能に構成された光源2と、レーザー光によりサンプルSを走査し、当該レーザー光を受けてサンプルSからの測定対象光の強度を測定する測定部53と、測定された測定対象光の強度分布に基づき、当該サンプルSの画像を生成する制御部6aと、を備え、制御部6aは、測定された測定対象光の強度分布に基づき、レーザー光の波長を制御する。 【選択図】図28

    Abstract translation: 要解决的问题:提供即使在样品的激发波长变化的情况下也能够使用更容易的方法来获得具有高对比度的图像的图像获取装置和图像获取方法。解决方案:提供了一种 图像获取装置,包括被配置为发射激光并能够控制激光的波长的光源2;测量单元53,被配置为使用激光扫描样本S,并且测量来自 通过接收激光的样品S,以及被配置为基于测量的测量目标光的强度分布产生样品S的图像的控制单元6a。 控制单元6a基于测量的测量目标光的强度分布来控制激光的波长。

    Device for detecting foreign matter
    90.
    发明专利
    Device for detecting foreign matter 失效
    用于检测外部事项的设备

    公开(公告)号:JPS59152626A

    公开(公告)日:1984-08-31

    申请号:JP2615683

    申请日:1983-02-21

    Applicant: Hitachi Ltd

    Abstract: PURPOSE:To enable to eliminate the influence by the back surface of a substrate or a pellicle film, etc. on the detection of obstacles by setting up a slit which shields a scattered light, placing the slit in inclination against the optical axis of a condenser lens, and thus shielding the light in the state of image formation. CONSTITUTION:The slit 13 is set up between the condenser lens 12 and a light receiving element 14, and the scattered light obtained from the part other than above the substrate is shielded, thus enabling to detect only the foreign matter existent on the substrate. The ratio of discrimination is secured by inclining the slit so as to lay along an image formation surface 18, and it is enough to deform the shape of the slit in order to increase the allowable value for the staggering of spots in the direction of X. The slit is provided between the condenser lens 12 and the light receiving element 14, but, actually it is better to further provide a condensing field lens 25 between the slit 23 and the light receiving element 14.

    Abstract translation: 目的:为了通过设置屏蔽散射光的狭缝来消除基板或防护薄膜等的背面对障碍物的检测的影响,将狭缝倾斜抵靠冷凝器的光轴 透镜,因此在形成图像的状态下遮蔽光。 构成:将狭缝13设置在聚光透镜12和受光元件14之间,并且从基板以上的部分得到的散射光被遮蔽,从而能够仅检测基板上存在的异物。 通过使狭缝倾斜以沿着图像形成表面18放置来确定辨别率,并且足以使狭缝的形状变形,以增加在X方向上交错的点的容许值。 狭缝设置在聚光透镜12和光接收元件14之间,实际上最好在狭缝23和光接收元件14之间进一步提供聚光场透镜25。

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