公开(公告)号：KR1020100124789A

公开(公告)日：2010-11-29

申请号：KR1020107021537

申请日：2009-02-24

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 소어,보우터안톤 ,  바니네,바딤예프겐예비치 ,  무어스,요한네스후베르투스요제피나 ,  반헤르펜,마르텐마리누스요한네스빌헬무스 ,  야쿠린,안드레이미카일로비치

IPC: G02B5/20 ,  G03F7/20 ,  G02B5/22 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/208 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 광학 요소는, 제 1 재료를 포함하며 제 1 파장의 방사선에 대해 실질적으로 반사적이고, 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 투과적으로 구성되는 제 1 층(4)을 포함한다. 광학 요소는, 제 2 재료를 포함하며 상기 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 흡수적 또는 투과적으로 구성되는 제 2 층(2)을 포함한다. 광학 요소는, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이의 제 3 재료를 포함하며 상기 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 투과적이고 상기 제 1 층과 대향되는 상기 제 2 층의 최상부 표면으로부터 상기 제 2 파장의 방사선의 반사를 저감시키도록 구성되는 제 3 층(3)을 포함한다. 상기 제 1 층은 상기 제 2 층에 대한 입사 방사선의 광학 경로에서 상류에 배치되어 상기 제 1 파장의 방사선의 스펙트럼 순도를 향상시킨다.

公开(公告)号：KR1020070023694A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：KR1020067023544

申请日：2005-06-22

Applicant: 가부시키가이샤 니콘

Inventor： 무라카미가츠히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70033 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  G03F7/70008

Abstract: A liquid in which fine solid Sn particles are dispersed in a resin is accommodated inside the heated tank 4. The resin pressurized by a pressurizing pump is conducted to a nozzle 1, so that a liquid-form resin is caused to jet from the tip end of the nozzle 1 that is disposed inside a vacuum chamber 7. The liquid-form resin which is caused to jet from the nozzle 1 assumes a spherical shape as a result of surface tension, and is solidified by being cooled in a vacuum, so that a solid-form target 2 is formed. A laser introduction window 10 used for the introduction of laser light is formed in the vacuum chamber 7, and laser light generated from a laser light source 8 disposed on the outside of the vacuum chamber 7 is focused by a lens 9 and conducted into the vacuum chamber 7, so that the target is converted into a plasma, thus generating EUV light.

公开(公告)号：KR1020040004384A

公开(公告)日：2004-01-13

申请号：KR1020037004516

申请日：2001-09-28

Applicant: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하

Inventor： 안토니,마틴 ,  싱어,볼프강 ,  방글러,요하네스

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/708 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/064

Abstract: 본 발명은 주요 광원; 제 1 광학부; 제 2 광학부; 이미지면과 출사 동공으로 구성되고, 상기 제 1 광학부가 주요 광원을 상기 출사 동공 내 상기 제 2 광학부에 의해 상형성된 다수의 제 2 광원으로 변형시킨다는 점, 상기 제 1 광학부가 상기 이미지면 내의 필드 상에 적어도 부분적으로 겹쳐진 다수의 상을 형성하는 상기 이미지면 내로 상이 형성되는 다수의 제 1 래스터 요소를 가진 제 1 광학적 요소를 포함한다는 점, 상기 다수의 제 1 래스터 요소가 사각형이라는 점, 상기 제 2 광학부는 상기 환형 구획에 상기 필드를 형성하는 음의 광학적 힘을 가진 제 1 필드 거울과 양의 광학적 힘을 가진 제 2 필드 거울을 포함한다는 점, 다수의 광선 각각이 70°이상의 입사각을 가진 상기 제 1 필드 거울을 가로지른다는 점, 다수의 광선 각각이 25°이상의 입사각을 가진 상기 제 2 필드 거울을 가로지른다는 점을 특� �으로 하는 특히 파장 193 nm 이하의 마이크로리소그래피를 위한 조명 시스템에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1019920003955B1

公开(公告)日：1992-05-18

申请号：KR1019890005629

申请日：1989-04-28

Applicant: 가부시끼가이샤 도시바

Inventor： 우에다가쯔노부 ,  스미야미쯔오 ,  바바미치오

IPC: G02B27/00 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR101808341B1

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：KR1020110023821

申请日：2011-03-17

Applicant: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하

Inventor： 만,한스-위르겐

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0875 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064

Abstract: UV 또는 EUV 리소그래피에대한조명시스템및 투영노광장치에이용하기위해, 자외선내지극자외선파장범위내의동작파장에대한반사형광학소자가제시되며, 이반사형광학소자는, 기판상에, 동작파장에서서로다른실수부의굴절률을가진 2 이상의교호물질층(41, 42)을가진다층시스템을갖는반사면을포함하며, 특정입사각대역폭분포의동작파장의방사는반사형광학소자에닿을수 있고, 반사면은, 층(41, 42)이제1 주기두께(P1)의교호물질을가진하나이상의제1 부분(A1), 및교호물질층(41, 42)이제1 (P1) 및하나이상의추가주기두께(P2)를가진하나이상의추가부분(A2)을포함하며, 반사면에걸친제1 (A1) 및추가부분(A2)의배치는입사각대역폭분포에적응된다. 더욱이, 이와같은반사형광학소자를포함하는투영시스템및 투영노광장치가제시된다.

公开(公告)号：KR1020130096231A

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：KR1020137002566

申请日：2011-07-28

Applicant: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 ,  에이에스엠엘 네덜란드 비.브이.

Inventor： 바에르,노르만 ,  로에링,울리히 ,  나트,올리버 ,  뷔티히,게로 ,  라우퍼,티모 ,  퀘르쯔,페테르 ,  림바흐,귀도 ,  헴바허,슈테판 ,  발터,홀거 ,  콴,임-분-패트릭 ,  하우프,마르쿠스 ,  스티켈,프란쯔-요세프 ,  판슈트,얀

IPC: G02B27/18 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G02B27/18

Abstract: 투영 렌즈가 EUV 광의 노광 파워로 노광되면, 레티클 상의 오브젝트 필드를 기판 상의 이미지 필드로 투영하는 바디 및 반사면을 각각 포함하는 적어도 2개의 반사 광학 소자를 포함하고, 적어도 2개의 반사 광학 소자의 바디는 각각의 제로 크로스 온도에서 제로인 열 팽창의 온도 종속 계수를 갖는 재료를 포함하고, 제로 크로스 온도 사이의 차이의 절대 값은 6K보다 큰, EUV 리소그래피 투영 노광 시스템의 투영 렌즈가 제공된다.

公开(公告)号：KR101172924B1

公开(公告)日：2012-08-14

申请号：KR1020067023544

申请日：2005-06-22

Applicant: 가부시키가이샤 니콘

Inventor： 무라카미가츠히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70033 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: A liquid in which fine solid Sn particles are dispersed in a resin is accommodated inside the heated tank 4. The resin pressurized by a pressurizing pump is conducted to a nozzle 1, so that a liquid-form resin is caused to jet from the tip end of the nozzle 1 that is disposed inside a vacuum chamber 7. The liquid-form resin which is caused to jet from the nozzle 1 assumes a spherical shape as a result of surface tension, and is solidified by being cooled in a vacuum, so that a solid-form target 2 is formed. A laser introduction window 10 used for the introduction of laser light is formed in the vacuum chamber 7, and laser light generated from a laser light source 8 disposed on the outside of the vacuum chamber 7 is focused by a lens 9 and conducted into the vacuum chamber 7, so that the target is converted into a plasma, thus generating EUV light.

公开(公告)号：KR1020120048032A

公开(公告)日：2012-05-14

申请号：KR1020127008097

申请日：2010-09-27

Applicant: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하

Inventor： 피올카다미안 ,  슈튀츨레랄프

IPC: G02B27/18 ,  G02B5/30 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70233 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0977 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70566 ,  G21K1/06 ,  G21K1/16 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 조명 광학 유닛은 조명 광학 유닛의 작동 중에 제1 파셋 광학 요소에 적용되는 편광 분포를 생성시키는 집광 거울을 포함하고, 상이한 편광을 구비하는 방사선이 적용되는 적어도 2개의 제1 파셋 요소가 있으며, 또한 제1 파셋 광학 요소는 적어도 하나의 제1 상태를 구비하며, 여기서 제1 파셋 요소의 반사 표면의 수직 벡터는 미리결정된 제1 편광 분포가 조명 광학 유닛의 작동 중에 물체 영역의 위치로 되도록 선택된다.

公开(公告)号：KR1020100017443A

公开(公告)日：2010-02-16

申请号：KR1020097024793

申请日：2008-05-29

Applicant: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하

Inventor： 딩거우도 ,  빙겔울리히 ,  에륵스마이어제프리 ,  에르친에랄 ,  바이글베른하르트 ,  브루이노게슈테파네

IPC: C25D1/06 ,  C25D7/08 ,  G02B17/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: C25D1/06 ,  B82Y10/00 ,  C23C14/0005 ,  C23C28/023 ,  C23C28/322 ,  C23C28/345 ,  C23C28/42 ,  C25D7/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  Y10T29/49812

Abstract: Disclosed is a method for producing an optical element or part of an optical element having a base. Said method comprises the following steps:-a mold (21, 1000, 2000) is provided that has a surface corresponding to the geometry of the optical element;-a layer system (7) encompassing at least one separation layer system (15, 1010, 2010) is deposited on the surface of the mold (21, 1000, 2000);-a base (4, 1030, 2030) is electroformed on the layer system (7);-at least the base on the separation layer system (15, 1010, 2010) is detached from the mold (21, 1000, 2000).

Abstract translation: 公开了一种用于制造具有基底的光学元件或光学元件的一部分的方法。 所述方法包括以下步骤：提供具有对应于光学元件的几何形状的表面的模具（21,1000,2000）; - 包括至少一个分离层系统（15,1010）的层系统（7） ，2010）沉积在模具的表面上（21,1000,2000）; - 在层系统（7）上电铸基座（4,1030,2030）; - 至少在分离层系统上的基座 15,1010,2010）与模具分离（21,1000,2000）。

公开(公告)号：KR1020080096660A

公开(公告)日：2008-10-31

申请号：KR1020087019398

申请日：2007-01-24

Applicant: 프라운호퍼-게젤샤프트 츄어 푀르더룽 데어 안게반텐 포르슝에.파우.

Inventor： 파이클,토르스텐 ,  베르노이트,니콜라스 ,  율린,제르기 ,  카이저,노베르트

IPC: G02B5/08 ,  G02B5/00 ,  G02B6/08 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: In a multilayer mirror (6) for EUV radiation, which contains a layer sequence (7), arranged on a substrate (3), of a multiplicity of layer pairs (5) of in each case a first layer (1) composed of a first material and a second layer (2), applied thereon, composed of a second material, the first layers (1) and the second layers (2), according to the invention, each have a thickness of more than 2 nm, and the first material or the second material is a silicon boride or a molybdenum nitride.

Abstract translation: 在用于EUV辐射的多层反射镜（6）中，其包含布置在基板（3）上的层序列（7），多层层对（5）在每种情况下由第一层（1）组成， 第一材料和第二层（2），其上施加有第二材料，根据本发明的第一层（1）和第二层（2）各自具有大于2nm的厚度，并且 第一材料或第二材料是硼化硅或氮化钼。