텅스텐 연마용 CMP 슬러리 조성물
    1.
    发明申请
    텅스텐 연마용 CMP 슬러리 조성물 审中-公开
    用于钨抛光的CMP浆料组合物

    公开(公告)号:WO2013024971A2

    公开(公告)日:2013-02-21

    申请号:PCT/KR2012/005397

    申请日:2012-07-06

    CPC classification number: H01L21/3212 C09G1/02 C09K3/1463 H01L21/7684

    Abstract: 본 발명은 연마제와 연마촉진체를 포함하는 텅스텐 연마용 CMP 슬러리 조성물로서, 상기 연마제는 초순수에 분산된 콜로이드 실리카를 포함하며, 상기 연마촉진제는 과산화수소수, 암모늄퍼설페이트 및 질산철을 포함하며, 상기 슬러리 조성물은 슬러리 변색 문제가 발생하지 않으며, 식각 선택비가 우수하여 CMP 공정에 적용할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明

    是一个钨抛光CMP浆料组合物包括研磨剂和抛光加速体,该浆料包含分散在去离子水中的胶态二氧化硅,其中该研磨促进剂是过氧化氢溶液,过硫酸铵 和硝酸铁,浆料组合物不会引起浆料变色,并且具有优异的蚀刻选择性,因此可以应用于CMP工艺。

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