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公开(公告)号：KR1020180076042A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：KR1020160180119
申请日：2016-12-27
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
CPC classification number: F27B7/06 , F27B7/22 , F27B7/28 , F27B7/33 , F27B7/42 , F27D1/0006 , F27D7/02
Abstract: 본발명은소성가공에사용되는로터리킬른및 이의제어방법에관한것으로, 더욱상세하게는소성공정을수행하는소성장치가, 내부에소성장치의회전방향과반대방향으로회전하는내부회전장치를더 포함하여구성되어산화물분말을소성할때 회전튜브내벽에분말이달라붙는현상을방지할 수있는로터리킬른및 소성원료의투입에서부터배출까지전 작업을자동으로수행할수 있는로터리킬른제어방법이다.
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公开(公告)号：KR1020160048471A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：KR1020140145151
申请日：2014-10-24
Applicant: (주) 엠에스머트리얼즈
Inventor： 김석수
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , C01F17/00 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/321 , C01B33/12 , C01F7/02 , C01G25/02 , C01G23/04
CPC classification number: C09G1/02 , C01B33/12 , C01F7/02 , C01F17/0043 , C01G23/04 , C01G25/02 , C09K3/1463 , H01L21/304 , H01L21/30625 , H01L21/3212
Abstract: 본발명은산화세륨연마재와이를포함하는슬러리및 그제조방법에관한것으로서, 본발명에따라산화세륨연마재의입도분포중 입자크기가작은영역을제어함으로써슬러리제조시에산화세륨연마재의입도분포및 산포를줄일수 있다. 또한, 거대입자를포함하지않는연마재를신속하게얻는것이가능하고, 상기산화세륨연마재를이용하여, 적절한연마속도를유지하면서, 스크래치및 결함의발생을감소시키고, 반도체표면을정밀하게연마가능한슬러리를제공할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及氧化铈研磨剂，含有该氧化铈研磨剂及其制造方法。 通过根据本发明的氧化铈研磨剂的粒度分布控制具有小粒径的区域，当制造浆料时，可以减少氧化铈研磨剂的粒度分布和散射。 此外，可以迅速获得不含大颗粒的研磨剂，并且可以提供能够通过使用氧化铈研磨剂，同时保持适当的研磨速度并减少产生划痕和缺陷的方法，对半导体表面进行微细抛光的浆料。
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公开(公告)号：KR1020180075347A
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：KR1020160179579
申请日：2016-12-26
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1454
Abstract: 본발명의연마슬러리조성물은기존의화학-기계적연마슬러리조성물에비해연마효율및 분산안정성이우수하고피연마면의스크래치를최소화할수 있으며, 다양한종류의웨이퍼에서우수한연마효율을달성할수 있다. 또한본 발명은연마제로입자의크기가서로다른제1입자및 제2입자를사용하고, 연마보조제로개질말레인산공중합체를사용함으로써피연마면의결함및 스크래치를최소화할수 있어반도체웨이퍼공정용연마제및 바이오메디컬, 의약, 화장품응용분야등의생화학, 에너지, 촉매, 구조재료응용등의에너지환경재료쪽에폭넓게사용될수 있다.
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公开(公告)号：KR101884459B1
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：KR1020160180119
申请日：2016-12-27
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
Abstract: 본발명은소성가공에사용되는로터리킬른및 이의제어방법에관한것으로, 더욱상세하게는소성공정을수행하는소성장치가, 내부에소성장치의회전방향과반대방향으로회전하는내부회전장치를더 포함하여구성되어산화물분말을소성할때 회전튜브내벽에분말이달라붙는현상을방지할 수있는로터리킬른및 소성원료의투입에서부터배출까지전 작업을자동으로수행할수 있는로터리킬른제어방법이다.
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公开(公告)号：KR101875002B1
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：KR1020160154483
申请日：2016-11-18
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
Abstract: 본발명에따른슬러리는기존의화학-기계적연마(chemical-mechanical polishing, CMP) 슬러리에비해연마제의입경크기를일정하게유지시켜웨이퍼의스크래치발생을억제할수 있으며, PE-TEOS(Plasma Enhanced-Tetra Ethylene Ortho Silicate), 폴리실리콘막, 실리콘질화막등 다양한종류의웨이퍼에서우수한연마효율을달성할수 있다. 또한연마제의분산안정성이우수하고높은열안정성을가져반도체웨이퍼공정용연마제및 각종관련분야에폭넓게사용할수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020180056327A
公开(公告)日：2018-05-28
申请号：KR1020160154483
申请日：2016-11-18
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1454
Abstract: 본발명에따른슬러리는기존의화학-기계적연마(chemical-mechanical polishing, CMP) 슬러리에비해연마제의입경크기를일정하게유지시켜웨이퍼의스크래치발생을억제할수 있으며, PE-TEOS(Plasma Enhanced-Tetra Ethylene Ortho Silicate), 폴리실리콘막, 실리콘질화막등 다양한종류의웨이퍼에서우수한연마효율을달성할수 있다. 또한연마제의분산안정성이우수하고높은열안정성을가져반도체웨이퍼공정용연마제및 각종관련분야에폭넓게사용할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020160073648A
公开(公告)日：2016-06-27
申请号：KR1020140182205
申请日：2014-12-17
Applicant: (주) 엠에스머트리얼즈 , 주식회사 한국열기술
CPC classification number: F27B7/20 , C01B33/12 , C01F7/02 , C01F17/0043 , C01G23/04 , C01G25/02 , F27B7/06
Abstract: 본발명은로타리킬른에관한것으로서, 본발명에따라회전튜브와회전튜브내의내부회전튜브를설치함으로써산화물분말을소성할때 회전튜브내면에분말이달라붙는현상을방지할 수가있고, 소성하고자하는분말의균일소성을이룰수 있어소성분말의품질향상을할 수가있다. 또한회전튜브내의분위기를제어할 수있는장치를추가함으로써회전튜브내의분위기형성에도움이되고, 상기로타리킬른에서소성한산화세륨연마제를이용하여, 슬러리제조한후 CMP 시적절한연마속도를유지하면서, 스크래치및 결함의발생을감소시키고, 반도체표면을정밀하게연마가능한슬러리를제공할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及回转窑。 根据本发明，回转窑能够防止当氧化物粉末作为旋转管而塑性变形并且旋转管内的内旋转管被安装时，灰尘粘附到旋转管的内表面; 并且回转窑能够通过使粉末均匀地变形塑性变形来提高塑料粉末的质量。 此外，回转窑还包括一种用于控制旋转管中的气氛以在旋转管中形成气氛的装置，在制造浆料之后在保持适当的研磨速度的同时在使用二氧化铈研磨塑料的情况下产生刮擦和缺陷 在回转窑中变形。 旋转体能够进一步提供能够精确研磨半导体表面的浆料。 回转窑成型粉末包括：旋转管，原料储存装置，原料转移装置和原料混合单元。
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公开(公告)号：KR101874999B1
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：KR1020160179579
申请日：2016-12-26
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
Abstract: 본발명의연마슬러리조성물은기존의화학-기계적연마슬러리조성물에비해연마효율및 분산안정성이우수하고피연마면의스크래치를최소화할수 있으며, 다양한종류의웨이퍼에서우수한연마효율을달성할수 있다. 또한본 발명은연마제로입자의크기가서로다른제1입자및 제2입자를사용하고, 연마보조제로개질말레인산공중합체를사용함으로써피연마면의결함및 스크래치를최소화할수 있어반도체웨이퍼공정용연마제및 바이오메디컬, 의약, 화장품응용분야등의생화학, 에너지, 촉매, 구조재료응용등의에너지환경재료쪽에폭넓게사용될수 있다.
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公开(公告)号：KR101874996B1
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：KR1020160179621
申请日：2016-12-27
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1454
Abstract: 본발명에따른연마슬러리는기존의화학-기계적연마슬러리에비해연마제의입경크기를일정하게유지시켜웨이퍼의스크래치발생을억제할수 있으며, PE-TEOS(Plasma Enhanced-Tetra Ethylene Ortho Silicate), 폴리실리콘막, 실리콘질화막등 다양한종류의웨이퍼에서우수한연마효율을달성할수 있다. 또한본 발명은연마제표면에결합하는연마보조제의흡착력을증가시켜사용중에연마보조제의탈리를방지할수 있고, 분산안정성과연마효율이우수한연마슬러리를제공할수 있으며, 반도체웨이퍼공정용연마제및 바이오메디컬, 의약, 화장품응용분야등의생화학, 에너지, 촉매, 구조재료응용등의에너지환경재료쪽에폭넓게사용할수 있다.
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公开(公告)号：KR101861246B1
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：KR1020170045965
申请日：2017-04-10
Applicant: 한남대학교 산학협력단 , (주) 엠에스머트리얼즈
CPC classification number: C09K3/32 , C11D3/0047 , C11D3/046 , C11D3/222 , C11D3/43
Abstract: 본발명에따른유막제거조성물은기존의메탄올을포함하는유막제거조성물에비해세정성및 시인성이우수하며, 유막제거제로사용되는산화세륨의분산안정성을높임으로써우수한장기보존안정성을달성할수 있다. 또한맹독성물질인메탄올을포함하지않아사용자의건강에영향을주지않으며, 급격한점도변화에의한유막제거제의유막제거효과저하를방지할수 있으며, 재활용된유막제거제를사용할수 있어원가절감의효과를달성할수 있다.
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