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公开(公告)号：CN1742118A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200480002699.X
申请日：2004-01-22
Applicant: 石原药品株式会社 , 株式会社大和化成研究所 , 三菱综合材料株式会社
IPC: C25D3/60
Abstract: 本发明提供的含锡镀浴，其特征在于，在含有：(a)可溶性亚锡盐、或选自铜盐、铋盐、银盐、铟盐、锌盐、镍盐、钴盐和锑盐中的至少1种可溶性盐与可溶性亚锡盐的混合物，及(b)选自链烷磺酸和烷醇磺酸中的至少1种的脂肪族磺酸的含锡镀浴中，该脂肪族磺酸是，由分子内具有氧化数为+4以下的硫原子的化合物、和分子内具有硫原子和氯原子的化合物组成的作为杂质的硫化合物含量在微量以下的精制脂肪族磺酸。如果利用本发明的镀浴，可以形成再流平性(reflowability)、镀膜外观等优异的锡镀膜或锡合金镀膜。
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公开(公告)号：CN1275636A
公开(公告)日：2000-12-06
申请号：CN00108886.6
申请日：2000-04-06
Applicant: 株式会社大和化成研究所 , 住友电气工业株式会社
IPC: C23C18/52
CPC classification number: C23C18/1617 , C23C18/34 , Y10S428/935 , Y10T428/12681 , Y10T428/12701 , Y10T428/12708 , Y10T428/12792 , Y10T428/12819 , Y10T428/12826 , Y10T428/12847 , Y10T428/12861 , Y10T428/12875 , Y10T428/12889 , Y10T428/12896 , Y10T428/12903 , Y10T428/12944 , Y10T428/12951
Abstract: 提供一种电镀方法,该方法在工业上能广泛使用具有优良性能的氧化还原体系无电电镀方法,和提供一种电镀浴前体,该前体是优选用于电镀方法。该电镀方法包括将电镀浴的氧化还原体系的第一种金属离子从较低氧化态氧化成较高氧化态,和将所说氧化还原体系的第二种金属离子还原并沉积在待电镀的物体表面上,其中提供了一种给电镀浴供应电流的处理步骤,将第一种金属离子从所说较低氧化态还原,由此活化该电镀浴。形成电镀浴前体使电镀浴稳定以便实质上不会发生第二种金属离子的还原和沉积,以改进其储存性能。
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公开(公告)号：CN1200136C
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN00108886.6
申请日：2000-04-06
Applicant: 株式会社大和化成研究所 , 住友电气工业株式会社
IPC: C23C18/52
CPC classification number: C23C18/1617 , C23C18/34 , Y10S428/935 , Y10T428/12681 , Y10T428/12701 , Y10T428/12708 , Y10T428/12792 , Y10T428/12819 , Y10T428/12826 , Y10T428/12847 , Y10T428/12861 , Y10T428/12875 , Y10T428/12889 , Y10T428/12896 , Y10T428/12903 , Y10T428/12944 , Y10T428/12951
Abstract: 提供一种电镀方法，该方法在工业上能广泛使用具有优良性能的氧化还原体系无电电镀方法，和提供一种电镀浴前体，该前体是优选用于电镀方法。该电镀方法包括将电镀浴的氧化还原体系的第一种金属离子从较低氧化态氧化成较高氧化态，和将所说氧化还原体系的第二种金属离子还原并沉积在待电镀的物体表面上，其中提供了一种给电镀浴供应电流的处理步骤，将第一种金属离子从所说较低氧化态还原，由此活化该电镀浴。形成电镀浴前体使电镀浴稳定以便实质上不会发生第二种金属离子的还原和沉积，以改进其储存性能。
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公开(公告)号：JP2018039199A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016175506
申请日：2016-09-08
Applicant: 東新油脂株式会社 , ケミプロ化成株式会社 , 株式会社大和化成研究所
IPC: B27K3/34 , A01N25/00 , A01N53/06 , A01N55/00 , A01N43/653 , A01N47/12 , A01N43/78 , C09D167/00 , C09D167/06 , C09D175/04 , C09D7/40 , C09D5/14 , B27K3/40
Abstract: 【課題】木質建造物や木質物品において、長期にわたって変色を抑制するとともに光沢を保持するための方法を提供する。 【解決手段】 (式中、Xは、直接結合、炭素数1〜6のアルキレン基、−O−基、又は、−NH−基を示す。R 1 及びR 2 は独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数4〜12の芳香族基、又は、ハロゲン原子を示し、環構造にそれぞれ4個結合している。R 3 及びR 4 は独立に、炭素数1〜6のアルキレン基を示す。)で表されるビスベンゾトリアゾールフェノール化合物に由来する構造を有する樹脂を含む。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6243523B2
公开(公告)日：2017-12-06
申请号：JP2016519124
申请日：2015-05-15
Applicant: 新日鐵住金株式会社 , バローレック・オイル・アンド・ガス・フランス , 株式会社大和化成研究所
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公开(公告)号：JP2017172032A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016172358
申请日：2016-09-05
Applicant: 株式会社トーテック , 株式会社大和化成研究所
Abstract: 【課題】より信頼性が高く、コストを抑えることのできる隙間腐食を抑制する方法、及び、この隙間腐食を抑制する方法を用いて隙間腐食耐性を向上させた接続構造物の提供。 【解決手段】チタンを含む第一の部材と、この第一の部材に、第一部材の表面の1%以上の面積を有する貴金属膜を介して固定される第二の部材と、を備えている耐隙間腐食性を備えた接続構造物。チタンを含む第一の部材と、第二の部材を、少なくとも一部に貴金属を介して接触しつつ固定させる隙間腐食を抑制する方法。また前記貴金属は、ルテニウム、イリジウム、ロジウム、白金、及び、パラジウムニッケル合金の少なくともいずれかを含む接続構造部材。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JPWO2015174097A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016519124
申请日：2015-05-15
Applicant: 新日鐵住金株式会社 , バローレック・オイル・アンド・ガス・フランス , 株式会社大和化成研究所
Inventor： 雅也 木本 , 雅也 木本 , 石井 一也 , 一也 石井 , 後藤 邦夫 , 邦夫 後藤 , 山本 達也 , 達也 山本 , 真宏 大島 , 真宏 大島 , 中尾 誠一郎 , 誠一郎 中尾 , 大輔 山口 , 大輔 山口
Abstract: 耐焼付き性、耐隙間腐食性及び耐暴露腐食性に優れためっき皮膜を形成するための管用ねじ継手用めっき液を提供する。本実施形態の管用ねじ継手用のめっき液は、シアン化合物を含有せず、水溶性銅塩と、水溶性スズ塩と、水溶性ビスマス塩と、遊離酸と、化学式(1)で表される、10g/L以下(0を含まない)のチオ尿素系化合物とを含有する。X1X2N−C(=S)−NX3X4(1)ここで、X1、X2、X3及びX4は、水素、アルキル基、アリル基、トリル基又は化学式(2)で表される基のいずれかである。ただし、X1、X2、X3及びX4の全てが水素であることはない。−CH2−CH2−S−CH2−CH2−X5(2)ここで、X5は、OH又はNH2である。
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9.发明专利
公开(公告)号：JP5591758B2
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：JP2011106433
申请日：2011-05-11
Applicant: 株式会社大和化成研究所
IPC: C23C22/34
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10.发明专利
公开(公告)号：JP5396583B2
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：JP2008028078
申请日：2008-02-07
Applicant: 石原ケミカル株式会社 , 株式会社大和化成研究所
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