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公开(公告)号：TWI698704B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW108103547
申请日：2019-01-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 史古登 伯特 德克 , SCHOLTEN, BERT DIRK , 艾堅達 薩帝許 , ACHANTA, SATISH , 阿克丘林 艾雅達爾 , AKCHURIN, AYDAR , 安東諾夫 比瓦多 , ANTONOV, PAVLO , 柏提斯 寇音 修伯特 邁修斯 , BALTIS, COEN HUBERTUS MATHEUS , 鮑克奈格特 傑羅伊恩 , BOUWKNEGT, JEROEN , 法爾 安 蘇菲 M , FARLE, ANN-SOPHIE M. , 梅森 克里斯多福 約翰 , MASON, CHRISTOPHER JOHN , 巴勒摩 羅夫 尼可拉斯 , PALERMO, RALPH NICHOLAS , 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 凡 迪 威弗 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL , 凡 迪 溫可 吉米 馬特斯 威哈幕斯 , VAN DE WINKEL, JIMMY MATHEUS WILHELMUS
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公开(公告)号：TWI679491B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW104137749
申请日：2015-11-16
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 可魯依寧嘉 馬提亞斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 , JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS , 阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 , AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 , BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA , 布魯吉 馬克 , BRUIJN, MARC , 布魯斯 理查 喬瑟夫 , BRULS, RICHARD JOSEPH , 戴克斯 傑洛恩 , DEKKERS, JEROEN , 簡森 保羅 , JANSSEN, PAUL , 卡馬利 莫哈瑪德 瑞莎 , KAMALI, MOHAMMAD REZA , 卡默 羅納 哈莫 剛瑟 , KRAMER, RONALD HARM GUNTHER , 蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 , 里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 , LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS , 里普森 馬修 , LIPSON, MATTHEW , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 黎昂斯 喬瑟夫H , LYONS, JOSEPH H , 露克司 史蒂芬 , ROUX, STEPHEN , 凡 登 波許 吉瑞特 , VAN DEN BOSCH, GERRIT , 凡 登 海吉坎特 山德 , VAN DEN HEIJKANT, SANDER , 凡 得 葛絡夫 珊卓拉 , VAN DER GRAAF, SANDRA , 凡 丹 慕蘭 佛利茲 , VAN DER MEULEN, FRITS , 凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 , 凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 , VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K
IPC: G03F1/62
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公开(公告)号：TW201921156A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133297
申请日：2018-09-21
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 薛瑪 葉伊慈 康斯坦那屈 , SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH , 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT
IPC: G03F7/20
Abstract: 本發明提供一種檢測裝置，其包括：一接物鏡，其經組態以自一度量衡目標接收具有正及負繞射階輻射的繞射輻射；一光學元件，其經組態以將該繞射輻射分離成單獨地對應於一或多個輻射特性之複數個不同值或類型中之每一者且單獨地對應於該正繞射階及該負繞射階之部分；及一偵測器系統，其經組態以單獨且同時地量測該等部分。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种检测设备，其包括：一接物镜，其经组态以自一度量衡目标接收具有正及负绕射阶辐射的绕射辐射；一光学组件，其经组态以将该绕射辐射分离成单独地对应于一或多个辐射特性之复数个不同值或类型中之每一者且单独地对应于该正绕射阶及该负绕射阶之部分；及一侦测器系统，其经组态以单独且同时地量测该等部分。
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公开(公告)号：TW201816519A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106125004
申请日：2017-07-26
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 艾伯特 雷納德 彼得 , ALBRIGHT, RONALD PETER , 貝克 羅威爾 蘭尼 , BAKER, LOWELL LANE , 波本克 丹尼爾 奈森 , BURBANK, DANIEL NATHAN
IPC: G03F7/20
Abstract: 本發明提供一種微粒捕捉器總成，其經組態以減小具有一較大範圍的大小、材料、行進速度及入射角之污染物微粒到達一微粒敏感環境之可能性。該微粒捕捉器可為位於微影裝置之一靜止零件與一可移動零件之間的一間隙幾何微粒捕捉器。該微粒捕捉器亦可為位於微影或度量衡裝置中之一微粒敏感環境之一表面上之一表面幾何微粒捕捉器。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种微粒捕捉器总成，其经组态以减小具有一较大范围的大小、材料、行进速度及入射角之污染物微粒到达一微粒敏感环境之可能性。该微粒捕捉器可为位于微影设备之一静止零件与一可移动零件之间的一间隙几何微粒捕捉器。该微粒捕捉器亦可为位于微影或度量衡设备中之一微粒敏感环境之一表面上之一表面几何微粒捕捉器。
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公开(公告)号：TW201812439A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106129646
申请日：2017-08-31
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡雷特 凱文 J , VIOLETTE, KEVIN J. , 亞堤司 依格 馬修斯 皮特尼拉 , AARTS, IGOR MATHEUS PETRONELLA , 庫克 海克 維克特 , KOK, HAICO VICTOR , 凱特 艾瑞克 布萊恩 , CATEY, ERIC BRIAN
CPC classification number: G03F9/7019 , G03F7/70516 , G03F7/70616 , G03F7/70683 , G03F9/708 , G03F9/7084
Abstract: 一種方法，其包括：在一結構至少部分地在一裝置內時將一裝置標記印刷至該結構上，該結構與待由該裝置固持之一基板分離；及使用該裝置內之一感測器系統來量測該裝置標記。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其包括：在一结构至少部分地在一设备内时将一设备标记印刷至该结构上，该结构与待由该设备固持之一基板分离；及使用该设备内之一传感器系统来量测该设备标记。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW202011109A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108141013
申请日：2015-11-16
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 可魯依寧嘉 馬提亞斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 , JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS , 阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 , AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 , BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA , 布魯吉 馬克 , BRUIJN, MARC , 布魯斯 理查 喬瑟夫 , BRULS, RICHARD JOSEPH , 戴克斯 傑洛恩 , DEKKERS, JEROEN , 簡森 保羅 , JANSSEN, PAUL , 卡馬利 莫哈瑪德 瑞莎 , KAMALI, MOHAMMAD REZA , 卡默 羅納 哈莫 剛瑟 , KRAMER, RONALD HARM GUNTHER , 蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 , LANSBERGEN, ROBERT GABRIEL MARIA , 里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 , LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS , 里普森 馬修 , LIPSON, MATTHEW , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 黎昂斯 喬瑟夫 H , LYONS, JOSEPH H , 露克司 史蒂芬 , ROUX, STEPHEN , 凡 登 波許 吉瑞特 , VAN DEN BOSCH, GERRIT , 凡 登 海吉坎特 山德 , VAN DEN HEIJKANT, SANDER , 凡 得 葛絡夫 珊卓拉 , VAN DER GRAAF, SANDRA , 凡 丹 慕蘭 佛利茲 , VAN DER MEULEN, FRITS , 凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 , VAN LOO, JEROME FRANCOIS SYLVAIN VIRGILE , 凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉-喬瑟夫 凱翠恩 , VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH KATRIEN
IPC: G03F1/62
Abstract: 本發明係關於一種適合用於一微影製程中之遮罩總成，該遮罩總成包含：一圖案化器件；及一表膜框架，其經組態以支撐一表膜且藉由一安裝台安裝在該圖案化器件上；其中該安裝台經組態以相對於該圖案化器件懸置該表膜框架，使得該表膜框架與該圖案化器件之間存在一間隙；且其中該安裝台在該圖案化器件與該表膜框架之間提供一可釋放式可嚙合附著。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种适合用于一微影制程中之遮罩总成，该遮罩总成包含：一图案化器件；及一表膜框架，其经组态以支撑一表膜且借由一安装台安装在该图案化器件上；其中该安装台经组态以相对于该图案化器件悬置该表膜框架，使得该表膜框架与该图案化器件之间存在一间隙；且其中该安装台在该图案化器件与该表膜框架之间提供一可释放式可啮合附着。
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公开(公告)号：TW201812986A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106129243
申请日：2017-08-29
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 賈治 安德魯 , JUDGE, ANDREW
IPC: H01L21/683 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70991 , G03F7/70716 , G03F7/709 , G03F7/70916 , H01L21/68785
Abstract: 一種微影裝置，其可包括：一固定框架，其具有一第一電導體；及一支撐結構，其經組態以支撐一物件。該支撐結構以可移動方式耦接至該框架且具有一第二電導體。該微影裝置亦可包括一導電流體，該導電流體將該第一電導體電耦接至該第二電導體。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备，其可包括：一固定框架，其具有一第一电导体；及一支撑结构，其经组态以支撑一对象。该支撑结构以可移动方式耦接至该框架且具有一第二电导体。该微影设备亦可包括一导电流体，该导电流体将该第一电导体电耦接至该第二电导体。
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公开(公告)号：TW201809900A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106121881
申请日：2017-06-30
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 凱特 艾瑞克 布萊恩 , CATEY, ERIC BRIAN , 亞堤司 依格 馬修斯 皮特尼拉 , AARTS, IGOR MATHEUS PETRONELLA , 奧格利 羅伯特 安東尼 , AUGELLI, ROBERT ANTHONY , 莫亞克 謝爾蓋 , MALYK, SERGEY
CPC classification number: G03F7/70633 , G03F9/7049 , G03F9/7092
Abstract: 本發明提供一種應用一量測修正之方法，其包括：基於一第一係數及量測而計算一第一修正值；基於大於該第一係數的一第二係數及該量測而計算一第二修正值；及基於大於該第二係數的一第三係數及該量測而計算一第三修正值。該方法亦包括：若該第一修正值與該第三修正值之間的一差高於一第一臨限值，則將該第三修正值應用於該量測；若該第一修正值與該第二修正值之間的一差高於一第二臨限值，則將該第二修正值應用於該量測；及若該第一修正值與該第二修正值之間的該差低於或等於該第二臨限值，則將該第一修正值應用於該量測。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种应用一量测修正之方法，其包括：基于一第一系数及量测而计算一第一修正值；基于大于该第一系数的一第二系数及该量测而计算一第二修正值；及基于大于该第二系数的一第三系数及该量测而计算一第三修正值。该方法亦包括：若该第一修正值与该第三修正值之间的一差高于一第一临限值，则将该第三修正值应用于该量测；若该第一修正值与该第二修正值之间的一差高于一第二临限值，则将该第二修正值应用于该量测；及若该第一修正值与该第二修正值之间的该差低于或等于该第二临限值，则将该第一修正值应用于该量测。
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公开(公告)号：TWI651599B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106130211
申请日：2017-09-05
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 薛瑪 葉伊慈 康斯坦那屈 , SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH , 史莫諾夫 史塔尼拉夫 , SMIRNOV, STANISLAV
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公开(公告)号：TWI648602B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW106121881
申请日：2017-06-30
Applicant: 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
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