公开(公告)号：CN102740963A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201180008029.9

申请日：2011-01-31

Applicant: ME.RO股份公司 ,  威尼托纳米科技股份合作公司

Inventor： 伊利亚·库尔克

IPC: B01J19/08 ,  D06M10/02

CPC classification number: B01J19/088 ,  B01J2219/0809 ,  B01J2219/0818 ,  B01J2219/083 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/0896 ,  B05D3/141 ,  B05D3/148 ,  B29C59/14 ,  C23C16/50 ,  D06B19/00 ,  D06M10/025 ,  H01J37/3277 ,  H01J37/32825 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/485

Abstract: 一种用于连续材料基底的常压等离子处理的机器，包括：用于进给基底（3）以沿着进给路径（A）移动其的装置（6）；至少两个电极（4），每个电极（4）定位在基底（3）的一个面（5）处，每个电极（4）面向基底（3）的相应的面（5），电势差可施加在两个电极（4）上，以产生放电；进给装置（6）包括至少一个第一辊（7）和一个第二辊（8），第一辊（7）和第二辊（8）与相应的电极（4）重合，并且每个辊作用于基底（3）的相应的面（5）上。