公开(公告)号：WO2006036433A3

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：PCT/US2005030880

申请日：2005-08-30

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO ,  WU WEI ,  TONG WILLIAM M ,  GAO JUN ,  PICCIOTTO CARL E

Inventor： WU WEI ,  TONG WILLIAM M ,  GAO JUN ,  PICCIOTTO CARL E

IPC: G03F7/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: An imprint apparatus (100, 100', 200, 220) and method 300 employ an effective pressure P eff in imprint lithography. The imprint apparatus (100, 100', 200, 220) includes a compressible chamber (111) that encloses an imprint mold (120, 228a) having a mold pattern (122) and a sample (130, 228b) to be imprinted (300). The chamber (111) is compressed (330, 340, 350) to imprint (360) the mold pattern (122) on the sample (130, 228b). The mold (120, 228a) is pressed (350) against the sample (130, 228b) with the effective pressure P eff . The effective pressure P eff is controlled by a selected ratio A cavity /A contact of a cavity area A cavity of the chamber (111) to a contact area A contact between the mold (120, 228a) and the sample (130, 228b).

Abstract translation: 压印装置（100,100'，200,220）和方法300在压印光刻中采用有效压力P eff。 压印装置（100,100'，200,220）包括可压缩室（111），其包围具有模具图案（122）和要印刷的样品（130,228b）的压印模具（120,228a）（300 ）。 腔室（111）被压缩（330,340,350）以在样品（130,228b）上印模（360）模具图案（122）。 模具（120,228a）以有效压力P eff被压制（350）抵靠样品（130,228b）。 有效压力P eff通过空腔区域A腔的选定比例A / A 来控制， （111）的位置与模具（120,228a）和样品（130,228b）之间的接触区域A _接触。

公开(公告)号：WO2006058192A3

公开(公告)日：2006-08-03

申请号：PCT/US2005042694

申请日：2005-11-23

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO ,  PICCIOTTO CARL E ,  GAO JUN

Inventor： PICCIOTTO CARL E ,  GAO JUN

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F9/7038 ,  G03F9/7088

Abstract: Using an imaging system (104) in relation to a plurality of material layers (114, 116) is described, the material layers being separated by a distance greater than a depth of field of the imaging system. A focal plane (106) of the imaging system and a first (114) of the plurality of material layers are brought into correspondence. A first image including at least a portion of the first material layer (114) having a first feature of interest thereon (116) is stored. The focal plane (106) of the imaging system and a second (118) of the plurality of material layers are brought into correspondence. A second image including at least a portion of the second material layer (118) having a second feature of interest thereon (120) is acquired. The first and second images are processed for automatic computation of an alignment measurement between the first and second features of interest.

Abstract translation: 描述了关于多个材料层（114,116）使用成像系统（104），材料层以大于成像系统的景深的距离分开。 使成像系统的焦平面（106）和多个材料层中的第一个（114）对应。 存储包括其上具有第一感兴趣特征（116）的第一材料层（114）的至少一部分的第一图像。 成像系统的焦平面（106）和多个材料层中的第二个（118）对应。 获取包括其上具有第二感兴趣特征（120）的第二材料层（118）的至少一部分的第二图像。 处理第一和第二图像以自动计算第一和第二感兴趣特征之间的对准测量值。

公开(公告)号：WO2006026192A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：PCT/US2005/029555

申请日：2005-08-19

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. ,  PICCIOTTO, Carl E. ,  GAO, Jun

Inventor： PICCIOTTO, Carl E. ,  GAO, Jun

IPC: G06K9/64

CPC classification number: G06T7/20 ,  G06T7/70

Abstract: A system (100 / 700 / 900) comprising a data acquisition system (106) and a processing system (108) is provided. The data acquisition system is configured to capture an image (112) that includes a first instance of a pattern (104A) and a second instance of the pattern (104B) from at least a first substrate (102), and the processing system is configured to calculate a displacement between the first instance and the second instance using the image.

Abstract translation: 提供一种包括数据采集系统（106）和处理系统（108）的系统（100/700/900）。 数据采集​​系统被配置为从至少第一基板（102）捕获包括图案（104A）的第一实例和图案（104B）的第二实例的图像（112），并且处理系统被配置 以使用图像来计算第一实例和第二实例之间的位移。

公开(公告)号：WO2006058192A2

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：PCT/US2005/042694

申请日：2005-11-23

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. ,  PICCIOTTO, Carl, E. ,  GAO, Jun

Inventor： PICCIOTTO, Carl, E. ,  GAO, Jun

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F9/7038 ,  G03F9/7088

Abstract: Using an imaging system (104) in relation to a plurality of material layers (114, 116) is described, the material layers being separated by a distance greater than a depth of field of the imaging system. A focal plane (106) of the imaging system and a first (114) of the plurality of material layers are brought into correspondence. A first image including at least a portion of the first material layer (114) having a first feature of interest thereon (116) is stored. The focal plane (106) of the imaging system and a second (118) of the plurality of material layers are brought into correspondence. A second image including at least a portion of the second material layer (118) having a second feature of interest thereon (120) is acquired. The first and second images are processed for automatic computation of an alignment measurement between the first and second features of interest.

Abstract translation: 描述了相对于多个材料层（114,116）使用成像系统（104），材料层被分离大于成像系统的景深的距离。 使成像系统的焦平面（106）和多个材料层中的第一（114）对应。 存储包括其上具有感兴趣的第一特征的第一材料层（114）的至少一部分的第一图像（116）。 使成像系统的焦平面（106）和多个材料层中的第二（118）对应。 获取包括其上具有感兴趣的第二特征的第二材料层（118）的至少一部分的第二图像（120）。 处理第一和第二图像以自动计算感兴趣的第一和第二特征之间的对准测量。

公开(公告)号：WO2006036433A2

公开(公告)日：2006-04-06

申请号：PCT/US2005/030880

申请日：2005-08-30

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P. ,  WU, Wei ,  TONG, William M, ,  GAO, Jun ,  PICCIOTTO, Carl E,

Inventor： WU, Wei ,  TONG, William M, ,  GAO, Jun ,  PICCIOTTO, Carl E,

IPC: G03F7/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: An imprint apparatus (100, 100', 200, 220) and method 300 employ an effective pressure P eff in imprint lithography. The imprint apparatus (100, 100', 200, 220) includes a compressible chamber (111) that encloses an imprint mold (120, 228a) having a mold pattern (122) and a sample (130, 228b) to be imprinted (300). The chamber (111) is compressed (330, 340, 350) to imprint (360) the mold pattern (122) on the sample (130, 228b). The mold (120, 228a) is pressed (350) against the sample (130, 228b) with the effective pressure P eff . The effective pressure P eff is controlled by a selected ratio A cavity /A contact of a cavity area A cavity of the chamber (111) to a contact area A contact between the mold (120, 228a) and the sample (130, 228b).

Abstract translation: 压印装置（100,100'，200,220）和方法300在压印光刻中使用有效压力P eff。 压印装置（100,100'，200,220）包括可压缩室（111），其包围具有模具图案（122）和待压印的样本（130,228b）的压印模具（120,228a） ）。 腔室（111）被压缩（330,340,350）以将模具图案（122）压印（360）在样本（130,228b）上。 将模具（120,228a）以有效压力P eff按压（350）在样品（130,228b）上。 有效压力P eff由空腔区域A cavity的选定比例A cavity / A sub contact控制， （111）向模具（120,228a）和样品（130,228b）之间的接触区域接触。

公开(公告)号：WO2006026214A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：PCT/US2005/029703

申请日：2005-08-19

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. ,  GAO, Jun ,  PICCIOTTO, Carl E.

Inventor： GAO, Jun ,  PICCIOTTO, Carl E.

IPC: G06T7/00

CPC classification number: G01B11/002 ,  G01D5/26 ,  G01D5/34776 ,  G06T7/32 ,  Y10T428/256

Abstract: Measurement systems (100) and methods (300) extend the use of optical navigation to measure displacements smaller than a wavelength of the light used to capture images of an object (110) measured. Nanometer-scale movements can thus be measured, for example, in equipment used for manufacture of integrated circuits or nanometer scale devices.

Abstract translation: 测量系统（100）和方法（300）扩展了光学导航的使用以测量小于用于捕获被测物体（110）的图像的光的波长的位移。 因此，可以例如在用于制造集成电路或纳米级装置的设备中测量纳米级的运动。

公开(公告)号：WO2006026213A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：PCT/US2005/029702

申请日：2005-08-19

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. ,  PICCIOTTO, Carl E. ,  GAO, Jun

Inventor： PICCIOTTO, Carl E. ,  GAO, Jun

IPC: G06K9/64

CPC classification number: G06T7/254

Abstract: A displacement estimation system (100 / 400 / 600) comprising a data acquisition system (106) and a processing system (108) is provided. The data acquisition system is configured to capture a first frame (112A) from a first substrate (102) including a first pattern (104) at a first time and capture a second frame (112B) from a second substrate (102) including a second pattern (104) at a second time subsequent to the first time. The first pattern and the second pattern are substantially identical. The processing system is configured to calculate a displacement (306) between the first pattern and the second pattern using the first frame and the second frame.

Abstract translation: 提供了包括数据采集系统（106）和处理系统（108）的位移估计系统（100/400/600）。 数据采集​​系统配置成在第一时间从包括第一图案（104）的第一基板（102）捕获第一框架（112A），并从第二基板（102）捕获包括第二框架（102）的第二框架（112B） 图案（104）在第一次之后的第二时间。 第一图案和第二图案基本相同。 处理系统被配置为使用第一帧和第二帧来计算第一图案和第二图案之间的位移（306）。

公开(公告)号：WO2006055796A1

公开(公告)日：2006-05-26

申请号：PCT/US2005/041855

申请日：2005-11-18

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. ,  PICCIOTTO, Carl E, ,  GAO, Jun ,  MEYER, Neal, W.

Inventor： PICCIOTTO, Carl E, ,  GAO, Jun ,  MEYER, Neal, W.

IPC: G06T7/00 ,  G06T7/20

CPC classification number: G01D5/347 ,  G06T7/246 ,  G06T7/70

Abstract: Determining a displacement of a substantially rigid item (106) relative to a frame of reference (110) between a first time and a second time is described. At the first time, a first set of pointwise measurements of a physical property of the item taken at a plurality of fixed locations relative to the frame of reference (110) is acquired (202). At the second time, a second set of pointwise measurements of the physical property taken at the plurality of fixed locations is acquired (208). A first matrix derived from the first set of pointwise measurements is compared (212) to a second matrix derived from the second set of pointwise measurements to determine the displacement.

Abstract translation: 描述在第一时间和第二时间之间相对于参考系（110）确定基本上刚性物品（106）的位移。 在第一时间，获取在相对于参考系（110）的多个固定位置拍摄的物品的物理属性的第一组点测量（202）。 在第二时间，获取在多个固定位置处取得的物理属性的第二组点测量值（208）。 将从第一组点测量得到的第一矩阵（212）与从第二组点测量导出的第二矩阵进行比较，以确定位移。

公开(公告)号：WO2006026212A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：PCT/US2005/029701

申请日：2005-08-19

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. ,  PICCIOTTO, Carl E. ,  GAO, Jun ,  WU, Wei

Inventor： PICCIOTTO, Carl E. ,  GAO, Jun ,  WU, Wei

IPC: G06K9/64

CPC classification number: G06T7/20 ,  G06T7/70

Abstract: A displacement estimation system (100 / 400 / 600) comprising a data acquisition system (106) and a processing system (108) is provided. The data acquisition system is configured to capture a first frame (112A) from a first substrate (102A) including a first pattern (104A) and a second substrate (102B) including a second pattern (104B) at a first time and capture a second frame (112B) from a third substrate (102A) including a third pattern (104A) and a fourth substrate (102B) including a fourth pattern (104B) at a second time subsequent to the first time. The first pattern and the third pattern are substantially identical, and the second pattern and the fourth pattern are substantially identical. The processing system is configured to calculate a first displacement (312) between the first pattern and the third pattern using the first frame and the second frame and calculate a second displacement (314) between the second pattern and the fourth pattern using the first frame and the second frame.

Abstract translation: 提供了包括数据采集系统（106）和处理系统（108）的位移估计系统（100/400/600）。 数据采集​​系统被配置为从第一基板（102A）捕获包括第一图案（104A）的第一框架（112A）和包括第二图案（104B）的第二基板（102B），并且捕获第二框架 在第一时间之后的第二时间从包括第三图案（104A）的第三基板（102A）和包括第四图案（104B）的第四基板（102B）的框架（112B）。 第一图案和第三图案基本相同，第二图案和第四图案基本相同。 处理系统被配置为使用第一帧和第二帧来计算第一图案和第三图案之间的第一位移（312），并使用第一帧计算第二图案和第四图案之间的第二位移（314），并且 第二帧。

公开(公告)号：WO2006026211A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：PCT/US2005/029700

申请日：2005-08-19

Applicant: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. ,  GAO, Jun ,  PICCIOTTO, Carl E.

Inventor： GAO, Jun ,  PICCIOTTO, Carl E.

IPC: G01B11/00

CPC classification number: G01B11/002 ,  G06T7/262 ,  G06T7/37

Abstract: A measurement process (300) or system (100) transforms image data corresponding to images of an object (110) to the frequency domain and analyzes the frequency domain data to determine a displacement of the object (110) occurring between first and second images. Analysis in the frequency domain simplifies identification and handling of data expected to be noisy. In particular, frequencies corresponding to modes of vibration, lighting variation, or sensor error characteristic of a measurement system (136) or frequencies corresponding to small magnitude frequency-domain data can be given little or no weighting in analysis that provides the displacement measurement. In one embodiment, Fourier transforms of shifted and unshifted images (200 and 250) differ by a phase delay. A least square fit slope of the phase values associated with the phase delay can indicate displacements to accuracies less than 1% of a pixel width, thereby providing nanometer scale precision using imaging systems (130) having a pixel width of about 1 µm.

Abstract translation: 测量处理（300）或系统（100）将对应于对象（110）的图像的图像数据变换到频域，并分析频域数据以确定在第一和第二图像之间发生的对象（110）的位移。 频域分析简化了预计嘈杂的数据的识别和处理。 特别地，对于提供测量系统（136）的振动模式，照明变化或传感器误差特性的频率或对应于小幅度频域数据的频率，分析中可以给予很少或没有提供位移测量的加权的频率。 在一个实施例中，移位和未移位图像（200和250）的傅里叶变换相位延迟。 与相位延迟相关联的相位值的最小平方拟合斜率可以指示小于像素宽度的1％的精度位移，从而使用具有约1μm的像素宽度的成像系统（130）提供纳米级精度。