Magnet Reißverschluss
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102014002264A1

    公开(公告)日:2015-08-20

    申请号:DE102014002264

    申请日:2014-02-20

    Applicant: SPECHT MICHAEL

    Inventor: SPECHT DAVID

    Abstract: Magnetischer Verschlußmechanismus für Textilien, (1) gekennzeichnet dadurch, dass er sich teilweise selbständig schließt und das Kleidungsstück bedingt geschlossen und flexibel halt. Befestigt wird der Verschluß an der Leiste (5), die üblicherweise für die Aufnahme eines herkömmlichen Verschlußmechanismus (z. B. Reißverschluß) vorgesehen ist, oder in einem Stoffkanal (5), wie er üblicherweise für das Durchziehen und Verschnüren mit einer Kordel verwendet wird.

    VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER SPEICHERZELLE, SPEICHERZELLE UND SPEICHERZELLEN-ANORDNUNG

    公开(公告)号:WO2003100841A3

    公开(公告)日:2003-12-04

    申请号:PCT/DE2003/001699

    申请日:2003-05-26

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Speicherzelle, eine Speicherzelle und eine Speicherzellen-Anordnung. Bei dem Verfahren zum Herstellen einer Speicherzelle wird auf einem Hilfs-Substrat eine erste Gate-isolierende Schicht ausgebildet und ein Floating-Gate auf der ersten Gate-isolierenden Schicht ausgebildet. Ferner wird eine elektrisch isolierende Schicht auf dem Floating-Gate ausgebildet und eine Speicher-Gateelektrode auf der elektrisch isolierenden Schicht ausgebildet. Ein Substrat wird an der Speicher-Gateelektrode befestigt, und das Hilfs-Substrat wird teilweise entfernt. Eine zweite Gate-isolierende Schicht wird auf einem Teil einer freiliegenden Oberfläche des Hilfs-Substrats ausgebildet und eine Lese-Gateelektrode wird auf der zweiten Gate-isolierenden Schicht ausgebildet. Auf einem freiliegenden Oberflächenbereich des verbleibenden Materials des Hilfs-Substrats werden zwei Source-/Drain-Bereiche zwischen einem Kanal-Bereich ausgebildet derart, dass der Kanal-Bereich mit dem Floating-Gate und mit der Lese-Gateelektrode jeweils zumindest teilweise lateral überlappt.

    SCHICHT-ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER SCHICHT-ANORDNUNG ALS DATENSPEICHER
    7.
    发明申请
    SCHICHT-ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER SCHICHT-ANORDNUNG ALS DATENSPEICHER 审中-公开
    层系统及其操作方法的层结构作为数据存储

    公开(公告)号:WO2003049195A1

    公开(公告)日:2003-06-12

    申请号:PCT/DE2002/003999

    申请日:2002-10-23

    CPC classification number: H01L29/7881 H01L29/155 H01L29/42324

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Schicht-Anordnung und ein Verfahren zum Betreiben einer Schicht-Anordnung als Datenspeicher. Die Schicht-Anordnung weist auf eine zwischen einem ersten und einem zweiten Elektroden-Bereich angeordnete Schichtstruktur mit einer auf dem ersten Elektroden-Bereich angeordneten elektrisch isolierenden Schicht, einer Mehrzahl von Potentialtopf-Schichten mit jeweils mindestens einem Energieniveau, wobei jede Potentialtopf-Schicht beidseitig von einer Tunnel-Schicht bedeckt ist und eine Ladungsspeicher-Schicht zwischen der elektrisch isolierenden Schicht und den Potentialtopf-Schichten. Die Potentialtopf-Schichten sind derart eingerichtet, dass deren Energieniveaus in Abwesenheit einer elektrischen Spannung zwischen dem ersten Elektroden-Bereich und dem zweiten Elektroden-Bereich derart gegeneinander verschoben sind, dass die Potentialtopf-Schichten elektrisch isolierend sind, und dass deren Energieniveaus bei einer angelegten vorgegebenen elektrischen Spannung zwischen dem ersten Elektroden-Bereich und dem zweiten Elektroden-Bereich derart verschoben sind, dass die Potentialtopf-Schichten elektrisch leitfähig sind.

    Abstract translation: 本发明涉及一种层排列和用于操作用于数据存储的层结构的方法。 层组件包括设置在第一和第二电极区域的层结构之间具有设置在第一电极部分上的两侧的电绝缘层,多个量子阱层的每一个具有至少一个能量水平,其中,每个量子阱层的装置 隧穿层被覆盖和电绝缘层和量子阱层之间的电荷存储层。 量子阱层被构造成使得在不存在所述第一电极区域和第二电极部分之间的电电压的能量水平被以这样的方式彼此抵靠,所述量子阱层是电绝缘的偏移,并且该指定他们的能量水平在所施加的 第一电极区域和第二电极部分之间的电电压被偏移,使得所述量子阱层是导电的。

    HALBLEITERSPEICHERELEMENT, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG UND VERFAHREN ZUM BETRIEB
    8.
    发明申请
    HALBLEITERSPEICHERELEMENT, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG UND VERFAHREN ZUM BETRIEB 审中-公开
    半导体存储元件,方法用于操作PRODUCING和方法

    公开(公告)号:WO2003026014A1

    公开(公告)日:2003-03-27

    申请号:PCT/DE2002/003220

    申请日:2002-09-02

    Abstract: Ein Halbleiterspeicherelement (200) weist ein Substrat auf, in welchem ein Source- (201) und ein Drain-Bereich (202) ausgebildet sind, ein von dem Substrat elektrisch isoliertes Floating Gate (203), eine Tunnelbarrieren-Anordnung (204), über die ein Auf- oder Entladen des Floating Gates (203) durchführbar ist, wobei durch Auf- oder Entladen des Floating Gates (203) die Leitfähigkeit eines Kanals zwischen Source- (201) und Drain-Bereich (202) veränderbar ist, und Mittel zum Steuern der Ladungstransmission der Tunnelbarrieren-Anordnung, welche eine mit dem Source-Bereich elektrisch leitend verbundene Sourceleitung (213) aufweisen.

    Abstract translation: 一种半导体存储元件(200)包括在其中一个源(201)和漏极区域(202)形成,一个从基板浮置栅极(203),隧道势垒组件(204)电绝缘的基板,通过 其中充电或放电的浮栅(203)中进行,其特征在于,通过充电或放电浮置栅极(203),源极(201)之间的沟道的导电性和漏极区(202)是可变的,以及用于 控制组件,它具有一个导电连接到所述源极线(213)的源极区域中的隧道势垒的电荷传输。

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