Abstract:
Es wird eine Halbleiterlichtquelle mit einer Primärstrahlungsquelle (1), welche im Betrieb der Halbleiterlichtquelle elektromagnetische Primärstrahlung (5) in einem ersten Wellenlängenbereich emittiert, und mit einem Lumineszenzkonversionsmodul (2), in welches von der Primärstrahlungsquelle (1) emittierte Primärstrahlung (5) eingekoppelt wird, angegeben. Das Lumineszenzkonversionsmodul (2) enthält ein Lumineszenzkonversionselement (6), welches mittels eines Leuchtstoffs Primärstrahlung (5) aus dem ersten Wellenlängenbereich absorbiert und elektromagnetische Sekundärstrahlung (15) in einem zweiten Wellenlängenbereich emittiert. Das Lumineszenzkonversionselement (6) ist von der Primärstrahlungsquelle (1) beabstandet an einem Kühlkörper (3) angeordnet. Es weist eine Reflektorfläche (7, 71, 72) auf, die durch das Lumineszenzkonversionselement (6) tretende, von diesem nicht absorbierte Primärstrahlung (5) in das Lumineszenzkonversionselement (6) zurückreflektiert und/oder Sekundärstrahlung (15) in Richtung einer Lichtauskoppelfläche (601) des Lumineszenzkonversionselements (6) reflektiert.
Abstract:
The invention relates to an opto-electronic semiconductor chip, which has a radiation-emitting semiconductor layer sequence (1) with an active zone (120). The active zone comprises a first quantum well layer (3), a second quantum well layer (4), and two end barrier layers (51). The first quantum well layer and the second quantum well layer are disposed between the two end barrier layers. The active zone has a semiconductor material, which comprises at least one first and a second component. The fraction of the first component in the semiconductor material of the two end barrier layers is lower than in the first and second quantum well layers. Compared to the first quantum well layer, the second quantum well layer has either a lower layer thickness and a larger fraction of the first component of the semiconductor material, or a higher or the same layer thickness and a lower fraction of the first component of the semiconductor material.
Abstract:
Es wird ein Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Halbleiterkörper mit einer Halbleiterschichtenfolge (10), die einen aktiven Bereich (12) und eine p-leitende Halbleiterschicht (11) aufweist, umfasst. Der aktive Bereich (12) basiert vorzugsweise auf einem Verbindungshalbleiter und ist weiterhin bevorzugt zur Erzeugung von Strahlung vorgesehen. Auf einer dem aktiven Bereich (12) abgewandten Seite der p-leitenden Halbleiterschicht (11) ist ein nichtmetallischer Anschlussbereich (2) angeordnet, der elektrisch leitend mit der p-leitenden Halbleiterschicht (11) verbunden ist. Der nichtmetallische Anschlussbereich (2) ist für Wasserstoff durchlässig ausgebildet. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterchips angegeben.
Abstract:
Es wird ein optisches Projektionsgerät angegeben, mit: einer Lichtquelle (1) umfassend zumindest zwei Leuchtdiodenchips (20), wobei die Lichtquelle (1) eine Leuchtfläche (22) aufweist, die sich aus den Strahlungsaustrittsflächen (2) der im Betrieb der Lichtquelle (1) bestromten Leuchtdiodenchips (20) der Lichtquelle (1) und den optischen Abständen (D1, D2) zwischen den Strahlungsaustrittsflächen (2) der bestromten Leuchtdiodenchips (20) zusammensetzt und bei der die Leuchtfläche (22) ein erstes Seitenverhältnis aus der Länge (L1) der Leuchtfläche (22) zur Breite (B1) der Leuchtfläche (22) aufweist, wobei: das Projektionsgerät zur Darstellung eines Bildes (200) mit einem zweiten Seitenverhältnis aus der Länge (L2) des Bildes zur Breite (B2) des Bildes vorgesehen ist, und das erste (L1: B1) und das zweite Seitenverhältnis (L2: B2) aneinander angepasst sind.
Abstract:
Disclosed is a composite substrate (1) comprising a substrate member (2) and a wear layer (31) that is attached to the substrate member (2). A planarizing layer (4) is disposed between the wear layer (31) and the substrate member (2). Also disclosed is a method for producing a composite substrate (1), in which a planarizing layer (4) is applied to a previously provided wear substrate (3). The wear substrate (3) is attached to a substrate member (2) for the composite substrate (1). The wear substrate (3) is then separated such that a wear layer (31) of the wear substrate (3) for the composite substrate (1) remains on the substrate member (2).
Abstract:
Eine Ausführungsform der Erfindung schlägt eine lichtemittierende Vorrichtung, die eine - Strahlung erster Wellenlänge emittierende Strahlungsquelle (5), - einen Lichtleiter (10), in den die von der Strahlungsquelle emittierte Strahlung eingekoppelt wird, und - ein Konvertermaterial (15), das die durch den Lichtleiter (10) transportierte Strahlung in Licht (20) zweiter, längerer Wellenlänge konvertiert, umfasst, vor. Eine derartige lichtemittierende Vorrichtung kann eine verbesserte Effizienz der Lichtkonversion aufweisen.
Abstract:
Es wird ein Verbundsubstrat (1) mit einem Substratkörper (2) und einer auf dem Substratkörper (2) befestigten Nutzschicht (31) angegeben, wobei zwischen der Nutzschicht (31) und dem Substratkörper (2) eine Planarisierungsschicht (4) angeordnet ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines Verbundsubstrats (1) angegeben, bei dem auf einem bereitgestellten Nutzsubstrat (3) eine Planarisierungsschicht (4) aufgebracht wird. Das Nutzsubstrat (3) wird auf einem Substratkörper (2) für das Verbundsubstrat (1) befestigt. Nachfolgend wird das Nutzsubstrat (3) abgetrennt, wobei eine Nutzschicht (31) des Nutzsubstrats (3) für das Verbundsubstrat (1) auf dem Substratkörper (2) verbleibt.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (1) mit einer Halbleiterschichtenfolge (2), die einen zur Strahlungserzeugung geeigneten aktiven Bereich (3) umfasst und eine laterale Haupterstreckungsrichtung aufweist, angegeben, wobei die Halbleiterschichtenfolge auf einem Substrat (4) angeordnet ist, das eine Seitenfläche (17) aufweist, die Seitenfläche einen bezüglich der Haupterstreckungsrichtung angeschrägten Seitenflächenbereich (18) und/oder eine Ausnehmung (21) aufweist, und der Halbleiterchip eine strahlungsdurchlässige und elektrisch leitfähige Kontaktschicht (5) aufweist.
Abstract:
Die Erfindung beschreibt ein Nitrid-basierendes Halbleiterbauelement, das einen Halbleiterkörper (1) mit einer darauf aufgebrachten Kontaktmetallisierung (4) aufweist. Der Halbleiterkörper (1) ist mit einer Schutzschicht versehen, die gegebenenfalls auch Teilbereiche der Kontaktmetallisierung (4) bedeckt und die eine Mehrzahl von nebeneinander angeordneten Ausnehmungen (5) aufweist.
Abstract:
An edge-emitting semiconductor laser (1001) is specified, having: - a semiconductor body (1) which comprises an active zone (5) suitable for producing electromagnetic radiation; - at least two facets (7) on the active zone (5), which form a resonator (55); - at least two contact points (2) which are spaced apart from one another in a lateral direction (100) by at least one intermediate region (22) and which are mounted on an outer face (11) of the semiconductor body (1).