公开(公告)号：KR1020140023629A

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：KR1020120089727

申请日：2012-08-16

Applicant: (재)한국나노기술원

Inventor： 황선용 ,  강세민 ,  신현범 ,  강호관 ,  고철기

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/26 ,  H01J9/20 ,  C08J5/18

CPC classification number: H01L21/0274 ,  B82B1/001 ,  B82B3/0019 ,  C08J5/18 ,  G03F7/265 ,  H01J9/205

Abstract: The present invention relates to a fabrication method of a nanopatterned film using photolithography and plating. According to the present invention, a fabrication method, in a method for fabricating a sheet or a film having nanopatterns, includes a first step of spraying photoresist on a substrate, a second step of forming a photoresist pattern where a residual layer of predetermined thickness remains by performing an exposure and development process on the photoresist, a third step of performing a seed layer deposition and a plating process on the photoresist pattern, and a forth step of fabricating the sheet or the film having nanopatterns by removing the photoresist pattern using a solvent. Therefore, the sheet or the film having nanopatterns can be obtained by using a simple process.

Abstract translation: 本发明涉及使用光刻和电镀的纳米图案化薄膜的制造方法。 根据本发明，在制造具有纳米图案的片材或膜的方法中的制造方法包括在基片上喷涂光致抗蚀剂的第一步骤，形成光刻胶图案的第二步骤，其中剩余的预定厚度的层保留 通过对光致抗蚀剂进行曝光和显影处理，在光致抗蚀剂图案上进行种子层沉积和电镀处理的第三步骤，以及使用溶剂除去光刻胶图案来制造具有纳米图案的片材或膜的第四步骤 。 因此，可以通过使用简单的方法获得具有纳米图案的片材或膜。

公开(公告)号：KR101508185B1

公开(公告)日：2015-04-07

申请号：KR1020130137855

申请日：2013-11-13

Applicant: (재)한국나노기술원

Inventor： 김서연 ,  박형호 ,  허은진 ,  장민철 ,  강세민 ,  신현범 ,  강호관

IPC: G03F7/00 ,  B29C59/02

CPC classification number: G03F7/0037 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045

Abstract: 본발명에따르면기판또는박막의상부에감광성금속-유기물전구체층을형성하는감광층형성단계; 상기감광성금속-유기물전구체층을 1차광을사용하여포토리소그래피하며, 상기 1차광은완전경화도즈(Dose) 보다낮고임계도즈보다높은강도로조사하는메타-포토리소그래피단계; 상기감광성금속-유기물전구체층에패턴이형성된임프린트용스탬프로가압하여패턴을형성하는임프린팅단계; 상기감광성금속-유기물전구체층에완전경화도즈이상으로 2차광또는열을조사하여금속산화박막패턴층을형성하는포토리소그래피완료단계; 상기임프린트용스탬프를상기금속산화박막패턴층으로부터제거하고현상(Developing)하는단계를포함하는것을특징으로하는 3차원금속산화물구조체제조방법을제공한다. 이를통해일회의현상공정을통해두 가지패턴을함께새길수 있고, 임프린팅단계에서압력의집중이일어나지않아서공정을단순화하고패턴을정밀하게새길수 있다.

Abstract translation: 根据本发明，提供了一种三维金属氧化物结构体的制造方法。 该方法包括在基板或薄膜的上侧形成感光金属 - 有机材料前体层的感光层形成步骤; 使用以强度低于完全固化剂量并高于阈值剂量发射的第一光进行感光金属 - 有机材料前体层上的光刻的元光刻步骤; 通过用感光金属 - 有机材料前体层压印印模来形成图案的压印步骤; 通过用强度为全固化剂量或更高的第二光照射感光金属 - 有机材料前体层或通过向感光金属 - 有机材料前体层提供热量来形成金属氧化物薄膜图案层的光刻精加工步骤; 以及从感光金属氧化物薄膜图案层去除印模的印模并显影感光金属氧化物薄膜图案层的显影步骤。 通过本发明的方法，可以通过一个显影步骤将两个图案印刷在一起，并且在印刷步骤期间压力不集中在一个区域上。 因此，可以简化处理，并且可以精确地印刷图案。