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公开(公告)号：WO2023068696A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/KR2022/015710
申请日：2022-10-17
Applicant: (주)아이씨디
IPC: H01J37/32
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 원격 플라즈마와 활성종을 생성하는 원격 플라즈마 발생기; 상기 원격 플라즈마 발생기의 출력 포트에 연결되는 개구부를 가지고 상기 원격 플라즈마 발생기의 활성종을 제공받아 확산시키는 상부 챔버; 상기 상부 챔버에서 확산된 활성종을 제공받는 하부 챔버; 상기 상부 챔버와 상기 하부 챔버를 구획하고 상기 활성종을 투과시키는 메인 배플; 상기 하부 챔버에 배치된 기판을 지지하는 기판 홀더; 상기 기판 홀더에 RF 전력을 인가하여 메인 플라즈마를 형성하는 RF 전원; 및 상기 기판 홀더에 DC 펄스를 인가하는 DC 펄스 전원을 포함한다.
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公开(公告)号：WO2023068692A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/KR2022/015701
申请日：2022-10-17
Applicant: (주)아이씨디
IPC: H01J37/32
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 기판 처리 장치는, 플라즈마와 활성종을 생성하는 원격 플라즈마 발생기; 상기 원격 플라즈마 발생기의 출력 포트에 연결되는 개구부를 가지고 상기 원격 플라즈마 발생기의 활성종을 제공받아 확산시키는 상부 챔버; 상기 상부 챔버의 개구부에 배치된 제1 배플; 상기 상부 챔버에서 확산된 활성종을 제공받는 하부 챔버; 상기 상부 챔버와 상기 하부 챔버를 구획하고 상기 활성종을 투과시키는 제2 배플; 상기 하부 챔버에 배치된 기판을 지지하는 기판 홀더; 및 상기 기판 홀더에 RF 전력을 인가하는 RF 전원을 포함한다.
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公开(公告)号：WO2023068698A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/KR2022/015714
申请日：2022-10-17
Applicant: (주)아이씨디
IPC: H01J37/32
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 기판 처리 장치는, 공정 챔버; 상기 공정 챔버에 배치되는 상부 전극; 상기 상부 전극의 하부에 배치되고 상기 상부 전극을 마주보도록 배치되어 기판을 지지하는 기판 홀더; 및 상기 기판 홀더에 RF 전력을 인가하는 RF 전원;을 포함한다. 상기 상부 전극은, 위치에 따라 상기 기판 홀더로부터 높이가 서로 다른 하부면을 가지는 상부 전극 도전판; 및 상기 도전판의 하부에 결합되어 위치에 따른 높이 차이를 보상하도록 위치에 따라 다른 두께를 가지고 유전율을 가지는 보상판;을 포함한다. 상기 보상판의 하부면은 동일한 평면이다.
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