KR20210029653A - Mask Sheet Push Module
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:KR20210029653A

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:KR1020200041950A

    申请日:2020-04-07

    CPC classification number: H01L51/56 H01L51/0011

    Abstract: 마스크 시트를 마스크 프레임 상에 정확히 안착되도록 하는 마스크 시트 푸시 모듈이 개시된다. 이는 다수의 푸시 모듈을 이용하여 마스크용 메탈 시트를 눌러 마스크 프레임에 안착시킴으로써 마스크용 메탈 시트와 마스크 프레임 상에 간극이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 마스크용 메탈 시트에 압력을 가하는 푸시 모듈의 헤드부를 둥근 원형 곡률을 갖도록 형성함으로써 푸시 모듈로 마스크용 메탈 시트에 압력을 가할 때 마스크용 메탈 시트가 변형되는 것을 최소화할 수 있다. 더 나아가, 푸시 모듈 내부에 완충부를 배치함으로써 마스크용 메탈 시트가 푸시 모듈에 의해 밀리는 현상을 방지할 수 있다.

    DC 펄스 플라즈마 기판 처리 장치
    5.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2023068696A1

    公开(公告)日:2023-04-27

    申请号:PCT/KR2022/015710

    申请日:2022-10-17

    Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 원격 플라즈마와 활성종을 생성하는 원격 플라즈마 발생기; 상기 원격 플라즈마 발생기의 출력 포트에 연결되는 개구부를 가지고 상기 원격 플라즈마 발생기의 활성종을 제공받아 확산시키는 상부 챔버; 상기 상부 챔버에서 확산된 활성종을 제공받는 하부 챔버; 상기 상부 챔버와 상기 하부 챔버를 구획하고 상기 활성종을 투과시키는 메인 배플; 상기 하부 챔버에 배치된 기판을 지지하는 기판 홀더; 상기 기판 홀더에 RF 전력을 인가하여 메인 플라즈마를 형성하는 RF 전원; 및 상기 기판 홀더에 DC 펄스를 인가하는 DC 펄스 전원을 포함한다.

    플라즈마 기판 처리 장치
    6.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2023068692A1

    公开(公告)日:2023-04-27

    申请号:PCT/KR2022/015701

    申请日:2022-10-17

    Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 기판 처리 장치는, 플라즈마와 활성종을 생성하는 원격 플라즈마 발생기; 상기 원격 플라즈마 발생기의 출력 포트에 연결되는 개구부를 가지고 상기 원격 플라즈마 발생기의 활성종을 제공받아 확산시키는 상부 챔버; 상기 상부 챔버의 개구부에 배치된 제1 배플; 상기 상부 챔버에서 확산된 활성종을 제공받는 하부 챔버; 상기 상부 챔버와 상기 하부 챔버를 구획하고 상기 활성종을 투과시키는 제2 배플; 상기 하부 챔버에 배치된 기판을 지지하는 기판 홀더; 및 상기 기판 홀더에 RF 전력을 인가하는 RF 전원을 포함한다.

    플라즈마 발생기를 포함하는 가습기

    公开(公告)号:WO2019177384A1

    公开(公告)日:2019-09-19

    申请号:PCT/KR2019/002936

    申请日:2019-03-14

    Inventor: 김철호 이승호

    Abstract: 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 발생기를 포함하는 가습기는, 물이 저장되는 물탱크; 에어 플라즈마를 발생시키기 위한 전극이 설치되는 플라즈마 발생기; 상기 물탱크에 저장된 물이 공급되면서, 상기 플라즈마 발생기를 통해 발생된 에어 플라즈마가 유입되어 물과 에어 플라즈마의 교환반응을 통해 액상 플라즈마를 생성하는 액상 플라즈마 생성기; 및 상기 전극에 전압을 인가하는 전원부 및 상기 액상 플라즈마 생성기를 통해 생성된 액상 플라즈마를 공급받아 수증기로 발산시키기 위한 진동자가 설치되는 하우징;을 포함한다.

    축전 결합 플라즈마 기판 처리 장치

    公开(公告)号:WO2023068698A1

    公开(公告)日:2023-04-27

    申请号:PCT/KR2022/015714

    申请日:2022-10-17

    Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 기판 처리 장치는, 공정 챔버; 상기 공정 챔버에 배치되는 상부 전극; 상기 상부 전극의 하부에 배치되고 상기 상부 전극을 마주보도록 배치되어 기판을 지지하는 기판 홀더; 및 상기 기판 홀더에 RF 전력을 인가하는 RF 전원;을 포함한다. 상기 상부 전극은, 위치에 따라 상기 기판 홀더로부터 높이가 서로 다른 하부면을 가지는 상부 전극 도전판; 및 상기 도전판의 하부에 결합되어 위치에 따른 높이 차이를 보상하도록 위치에 따라 다른 두께를 가지고 유전율을 가지는 보상판;을 포함한다. 상기 보상판의 하부면은 동일한 평면이다.

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