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公开(公告)号：KR101790625B1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020160031688
申请日：2016-03-16
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은진공챔버내에서개구부를사이에두고일 측에기재가위치하고타 측에성막재료를보유한재료보유부가구비되며플라즈마빔으로상기성막재료를기상으로비산시켜상기기재의표면에성막하는성막장치에관한것으로서, 상기개구부의개구면적을증감시키는방향으로왕복이동가능하도록배열되는다수의막두께조절판; 상기진공챔버외부에서상기막두께조절판들각각을구동조작가능하게하는구동부를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 진공유지상태에서기재와성막재료사이의개구면적을증감시켜서성막두께를균일하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 더불어기재와성막재료사이의개구면적증감을정밀하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 또한성막두께의균일도를장시간동안유지할수 있도록하여생산성을극대화할수 있는성막장치가제공된다.
Abstract translation: 本发明被提供有额外的保持材料位于所述一个保持在另一侧上的沉积材料被分散在气相中的膜的衬底的表面上的等离子束蒸镀装置形成材料沉积在真空室中的开口之间的侧的基 多个膜厚度调节板，其被布置成在增大或减小开口部的开口面积的方向上往复运动; 以及用于驱动真空室外部的每个膜厚控制板的驱动单元。 由此，提供一种能够在真空保持状态下通过增加或减小基板与成膜材料之间的开口面积来均匀地调节膜厚度的成膜设备。 另外，提供了一种能够精确地控制衬底和成膜材料之间的开口面积的增大和减小的成膜设备。 此外，提供了一种能够通过长时间保持膜厚均匀性而使生产率最大化的成膜设备。
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公开(公告)号：KR1020160115731A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：KR1020160031688
申请日：2016-03-16
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은진공챔버내에서개구부를사이에두고일 측에기재가위치하고타 측에성막재료를보유한재료보유부가구비되며플라즈마빔으로상기성막재료를기상으로비산시켜상기기재의표면에성막하는성막장치에관한것으로서, 상기개구부의개구면적을증감시키는방향으로왕복이동가능하도록배열되는다수의막두께조절판; 상기진공챔버외부에서상기막두께조절판들각각을구동조작가능하게하는구동부를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 진공유지상태에서기재와성막재료사이의개구면적을증감시켜서성막두께를균일하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 더불어기재와성막재료사이의개구면적증감을정밀하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 또한성막두께의균일도를장시간동안유지할수 있도록하여생산성을극대화할수 있는성막장치가제공된다.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1020180120011A
公开(公告)日：2018-11-05
申请号：KR1020170053900
申请日：2017-04-26
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은전원공급장치및 그전원공급장치를갖는증착장치에관한것으로, 보다구체적으로는회전하는원통형캐소드에전원을공급할때, 원통형캐소드의구동축과원활한접촉을유지하여전원공급이차단되지않고지속적으로유지될수 있어증착품질을향상시킬수 있는전원공급장치및 그전원공급장치를갖는증착장치에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101918561B1
公开(公告)日：2018-11-14
申请号：KR1020170053900
申请日：2017-04-26
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은전원공급장치및 그전원공급장치를갖는증착장치에관한것으로, 보다구체적으로는회전하는원통형캐소드에전원을공급할때, 원통형캐소드의구동축과원활한접촉을유지하여전원공급이차단되지않고지속적으로유지될수 있어증착품질을향상시킬수 있는전원공급장치및 그전원공급장치를갖는증착장치에관한것이다.
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