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公开(公告)号：WO2018221951A1
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：PCT/KR2018/006133
申请日：2018-05-30
Applicant: (주)아모레퍼시픽 , 성균관대학교산학협력단
IPC: C01B33/18
Abstract: 본 명세서는 a) 무기 전구체 및 극성용매를 포함하는 에멀전을 제조하는 단계; b) 상기 a)의 에멀전에 유기용매를 첨가하여 유화 입자를 팽윤시키는 단계; c) 상기 b)의 팽윤된 에멀전과 표면에 양전하를 갖는 고분자 입자를 혼합하는 단계; d) c)의 혼합물에 계면활성제 첨가 및 유기용매를 제거하는 단계; e) d)의 결과물에 개시제를 첨가하여 중합하는 단계; 및 f) e)의 결과물을 소성하여 상기 고분자 입자를 제거하여 매크로기공(macropore)을 형성하는 단계; 를 포함하는 다공성 무기 입자의 제조 방법에 관하여 기술한다.
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公开(公告)号：WO2019209071A1
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：PCT/KR2019/005077
申请日：2019-04-26
Applicant: ㈜아모레퍼시픽 , 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본 명세서는 a) 가교된 고분자 입자를 형성하는 단계; b) 무기 전구체를 이용하여 상기 a)의 입자에 쉘을 형성시켜 코어-쉘(Core-shell) 입자를 형성하는 단계; c) 상기 복수의 코어-쉘 입자 및 유기용매를 내상에 포함하는 에멀전을 형성하는 단계; d) 상기 에멀전으로부터 유기용매를 제거하는 단계; 및 e) 상기 d)의 결과물을 소성하여 다공성 무기 입자를 형성하는 단계;를 포함하는 다공성 무기 입자의 제조방법 및 다공성 무기 입자를 포함하는 광반사성 조성물에 관하여 기술한다.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1020150035598A
公开(公告)日：2015-04-06
申请号：KR1020147034868
申请日：2012-12-28
Applicant: 엘지전자 주식회사 , 성균관대학교산학협력단
IPC: H04J11/00
CPC classification number: H04J11/0056 , H04W72/042 , H04W72/082 , H04J11/005 , H04J2211/001 , H04J2211/005
Abstract: 매크로셀과펨토셀이혼재되어있는 HetNet(Heterogeneous Network) 시스템에서의셀 간간섭제어방법및 장치가제공된다. 셀간 간섭제어장치는상기매크로셀의제어채널을오버히어(overhear)한다. 상기제어장치는상기제어채널에기반하여셀 간간섭제어의대상이되는간섭후보자원을결정한다. 상기제어장치는상기간섭후보자원에관한정보를포함하는간섭제어메시지를전송한다.
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公开(公告)号：KR102171941B1
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：KR1020180114820
申请日：2018-09-27
Applicant: 주식회사 엘지화학 , 성균관대학교산학협력단
IPC: C07D403/14 , C07D209/82 , C09K11/06 , H01L51/00 , H01L51/50
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