酰胺化合物的制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1279175C

    公开(公告)日:2006-10-11

    申请号:CN01110172.5

    申请日:2001-03-28

    CPC classification number: C12N9/88 C12P13/02

    Abstract: 本发明是有关酰胺化合物的制造方法,在将含有腈水合酶的微生物的菌体或其菌体处理物在水性媒质中同腈化合物反应而连续地制造酰胺化合物的方法中,其特征在于:将该菌体或其菌体处理物在水性媒质中同腈化合物接触反应后,将所得到的反应液在具有活塞式流动性流域的条件下再进行反应。使用本发明,腈化合物的转化率极高,无需浓缩工序,可容易地制得高纯度且高浓度的酰胺化合物溶液。

    酰胺化合物的制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1320705A

    公开(公告)日:2001-11-07

    申请号:CN01110172.5

    申请日:2001-03-28

    CPC classification number: C12N9/88 C12P13/02

    Abstract: 本发明是有关酰胺化合物的制造方法,在将含有腈水化酶的微生物的菌体或其菌体处理物在水性媒质中同腈化合物反应而连续地制造酰胺化合物的方法中,其特征在于:将该菌体或其菌体处理物在水性媒质中同腈化合物接触反应后,将所得到的反应液在具有活塞式流动性流域的条件下再进行反应。使用本发明,腈化合物的转化率极高,无需浓缩工序,可容易地制得高纯度且高浓度的酰胺化合物溶液。

    金属氧化物/光致抗蚀膜积层体的干蚀刻方法

    公开(公告)号:CN1213708A

    公开(公告)日:1999-04-14

    申请号:CN98117918.5

    申请日:1998-08-08

    CPC classification number: H01L31/1884 H01L21/32136 Y02E10/50

    Abstract: 使用由从氟气和氟化物气组和氮气和氮化合物气组中选出的至少1种气体与碘化氢混合的气体所形成的等离子体,对没有被光致抗蚀膜覆盖的暴露金属氧化物进行干蚀刻。接着,将该蚀膜暴露于氧等离子体中后,再使用由氟气和氟化物气组和氮气和氮化合物气组中选出的至少1种气体与氧气混合气体的等离子体,蚀刻去除残留的抗蚀膜。至少,规定从氟气和氟化物气组,氮气和氮化合物气组中选出的气体和碘化氢或氧气的流量条件,必须满足特定的范围。

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