烧制炉
    1.
    发明公开
    烧制炉 审中-实审

    公开(公告)号:CN117029468A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310512398.6

    申请日:2023-05-08

    Abstract: 本公开提供一种烧制炉。所述烧制炉包括:烧制炉主体,具有从入口到出口的内部通道;第一加热部,设置在所述内部通道的上部;第二加热部,设置在所述内部通道的中央部;第三加热部,设置在所述内部通道的下部;第一输送辊,设置在所述第一加热部与所述第二加热部之间;以及第二输送辊,设置在所述第二加热部与所述第三加热部之间。所述第一加热部与所述第二加热部之间的距离大于所述第二加热部与所述第三加热部之间的距离。

    半导体封装件
    4.
    发明公开
    半导体封装件 审中-公开

    公开(公告)号:CN112086412A

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN201911224907.5

    申请日:2019-12-04

    Abstract: 本发明提供一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:半导体芯片,具有设置有连接垫的有效表面和设置为与所述有效表面背对的无效表面;散热构件,设置在所述半导体芯片的所述无效表面上,具有多个孔并且包括石墨基材料;包封剂,覆盖所述半导体芯片和所述散热构件中的每个的至少一部分;以及连接构件,设置在所述半导体芯片的所述有效表面上并且包括电连接到所述连接垫的重新分布层。0

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