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公开(公告)号：CN116564858A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310610468.1
申请日：2023-05-26
Applicant: 上海积塔半导体有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/265 , H01J37/317 , H01J37/30
Abstract: 本申请提供一种等离子注入机及等离子注入方法，等离子注入机包括电离腔室，用于将待电离气体电离呈电子；送气系统用于将待电离气体通过一供气管道输送至电离腔室；加热装置，设置于送气系统与电离腔室之间，用于给待电离气体提供热量。其中，在待电离气体进入电离腔室之前，加热装置使待电离气体的外层电子获得初始能量，以提高电离腔室电离电子的速率。本说明书实施例可以增加电离电子的速率，可以得到更多电子。相比于现有技术缩短了电离惰性气体的时间，增加相同时间内被电离出的电子数量，相应地可以减少为了达到电离电子数量而增加的惰性气体流量或灯丝电压，进而增加了离子注入脉冲电场的使用寿命。
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