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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117957282A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202280061759.3
申请日：2022-09-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种相分离结构形成用树脂组合物，含有：具有第1a嵌段与第1b嵌段的第1嵌段共聚物、具有第2a嵌段与第2b嵌段的第2嵌段共聚物、能够与第1a嵌段及第2a嵌段相溶的均聚物A、能够与第1b嵌段及第2b嵌段相溶的均聚物B，构成第1a嵌段及第2a嵌段的结构单元相同，构成第1b嵌段及第2b嵌段的结构单元相同，第2嵌段共聚物的数均分子量大于第1嵌段共聚物。
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公开(公告)号：CN109790312B
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN201780059252.3
申请日：2017-09-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08J7/00 , B05D3/00 , B05D5/00 , C09D153/00
Abstract: 一种包含相分离结构的结构体的制造方法，其具有：使用含有嵌段共聚物和离子液体的相分离结构形成用树脂组合物在基板(1)上形成包含嵌段共聚物的层(BCP层)(3)的工序，其中，所述离子液体包含具有阳离子部和阴离子部的化合物(IL)；和使化合物(IL)的至少一部分气化、并且使BCP层(3)发生相分离而得到包含相分离结构的结构体(3’)的工序。
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公开(公告)号：CN113396412A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202080012429.6
申请日：2020-01-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于以低成本容易且正确地进行认证，提出一种作为由认证系统进行认证的对象的被认证物(C1)，包含与由相分离结构形成用树脂组合物形成在基板上的相分离结构的一部分的图案相关的特征，具备具有由所述认证系统所具备的获取装置获取的认证信息的认证用介质(M1)。
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公开(公告)号：CN109790312A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780059252.3
申请日：2017-09-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08J7/00 , B05D3/00 , B05D5/00 , C09D153/00
Abstract: 一种包含相分离结构的结构体的制造方法，其具有：使用含有嵌段共聚物和离子液体的相分离结构形成用树脂组合物在基板(1)上形成包含嵌段共聚物的层(BCP层)(3)的工序，其中，所述离子液体包含具有阳离子部和阴离子部的化合物(IL)；和使化合物(IL)的至少一部分气化、并且使BCP层(3)发生相分离而得到包含相分离结构的结构体(3’)的工序。
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公开(公告)号：CN101515112A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910006470.8
申请日：2009-02-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , C08F220/10 , C08L33/08
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/124 , Y10S430/125 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物，它是含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性增大的基材成分(A)和通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其特征在于，上述基材成分(A)含有高分子化合物(A1)，该高分子化合物(A1)具有下述通式(a0－1)表示的结构单元(a0)，式中，R1是氢原子、低级烷基或卤代低级烷基，A是2价的连接基团，B是2价的连接基团，R2是酸解离性溶解抑制基团。
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