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公开(公告)号:CN101408728A
公开(公告)日:2009-04-15
申请号:CN200810212866.3
申请日:2008-09-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中,涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物[式中,X是-O-、-S-、-O-R3-或-S-R4-,R3和R4分别独立地是碳原子数为1~5的亚烷基;R2是碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为1~6的烷氧基、碳原子数为1~6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1~6的羟烷基、羟基或氰基;a是0~2的整数;Q1是碳原子数为1~12的亚烷基或单键;Y1是碳原子数为1~4的亚烷基或氟代亚烷基;M+是碱金属离子;A+是有机阳离子。
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公开(公告)号:CN101408728B
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN200810212866.3
申请日:2008-09-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中,涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物式,其中,X是-O-、-S-、-O-R3-或-S-R4-,R3和R4分别独立地是碳原子数为1~5的亚烷基;R2是碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为1~6的烷氧基、碳原子数为1~6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1~6的羟烷基、羟基或氰基;a是0~2的整数;Q1是碳原子数为1~12的亚烷基或单键;Y1是碳原子数为1~4的亚烷基或氟代亚烷基;M+是碱金属离子;A+是有机阳离子。
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公开(公告)号:CN113396412A
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN202080012429.6
申请日:2020-01-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于以低成本容易且正确地进行认证,提出一种作为由认证系统进行认证的对象的被认证物(C1),包含与由相分离结构形成用树脂组合物形成在基板上的相分离结构的一部分的图案相关的特征,具备具有由所述认证系统所具备的获取装置获取的认证信息的认证用介质(M1)。
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