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公开(公告)号：CN102438390B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201110272056.9
申请日：2011-09-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够生成与矩形基板正对的状态的等离子体的天线单元，和能够使用该天线单元对矩形基板进行均匀的等离子体处理的感应耦合等离子体处理装置。在具有轮廓呈矩形的平面型天线(13a)的天线单元中，天线(13a)通过将多个天线导线(61、62、63、64)在同一平面内以角部的匝数比边的中央部的匝数多的方式卷绕而整体呈螺旋状地构成，天线导线的配置区域呈边框状，按照由天线(13a)的外廓线(65)和内廓线(66)围成的边框区域(67)相对于将天线(13a)的相对的2个边贯穿的中心线成为线对称的方式，在各天线导线形成有弯曲部(68)。
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公开(公告)号：CN103247510A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310047105.8
申请日：2013-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 通过以期望的处理分布进行感应耦合等离子体处理。利用具备高频天线的感应耦合等离子体处理装置，在不同的时间实施第一处理和第二处理，使得在处理结束的时刻对基板得到所期望的处理分布，其中，上述高频天线具有供给有高频电力而形成外侧感应电场的形成为螺旋状的外侧天线、和在外侧天线的内侧同心状地设置、供给有高频电力而形成内侧感应电场的形成为螺旋状的内侧天线，第一处理为使在内侧天线中流动相对较大的电流值的电流，利用在与内侧天线对应的部分形成的内侧感应电场生成局部的等离子体进行处理，第二处理为使在外侧天线中流动相对较大的电流值的电流，利用在与上述外侧天线对应的部分形成的外侧感应电场生成局部的等离子体进行处理。
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公开(公告)号：CN101740303B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200910208723.X
申请日：2009-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。其对被处理体进行面内均匀性高的等离子体处理。以隔着电介质窗部件(3)与载置台(27)相对的方式设置天线(5)。该天线(5)，由各个长度相等、相互横向平行排列的直线状的多个天线部件(51)构成。该天线(5)的一端侧通过电源侧电路(61)连接至高频电源部(6)，并且其另一端侧通过接地侧电路(62)连接至接地点。在上述电源侧电路(61)和接地侧电路(62)的至少一方，设置有用于调整天线(5)的电位分布的电位分布调整用的电容器(7)，从所述高频电源部(6)通过各天线部件(51)至接地点的各高频路径的阻抗被设定为相互相等。
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公开(公告)号：CN101974735A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN201010557565.1
申请日：2008-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , H01L21/306 , H01L21/205 , H01J37/32 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种感应耦合等离子体处理装置和等离子体处理方法，该感应耦合等离子体处理装置能够不提高装置成本和电力成本地在等离子体处理的过程中进行等离子体状态的控制。在处理室(4)的上方，隔着电介质壁(2)配置有通过被供给高频电力在处理室(4)内形成感应电场的高频天线(13)，通过等离子体发光状态检测部(40)检测通过感应电场在所述处理室内形成的感应耦合等离子体的发光状态，根据该等离子体发光状态检测部(40)的检测信息，控制单元(50)控制调节包括高频天线的天线电路的特性的调节单元(21)，由此控制等离子体状态。
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公开(公告)号：CN101969016A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN201010508856.1
申请日：2008-12-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种不会因异常放电产生问题，并且能够解决因附着在电极上的反应生成物而引起的问题的平行平板型等离子体处理装置以及等离子体处理方法。等离子体处理装置(1)包括：收容基板(G)的处理腔室(2)；在处理腔室(2)内相对设置的下部电极(3)以及上部电极(20)；向上部电极(20)施加频率为10MHz以上的第一高频电功率的第一高频电源(14)；向下部电极(3)施加频率为2MHz以上小于10MHz的第二高频电功率的第二高频电源(17)；向上部电极(20)施加频率为400KHz以上1.6MHz以下的高频电功率的第三高频电源(33)；向处理腔室(2)内供给用于生成等离子体的处理气体的气体供给机构(28)；和对处理腔室(2)进行排气的排气机构(41)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101740303A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200910208723.X
申请日：2009-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。其对被处理体进行面内均匀性高的等离子体处理。以隔着电介质窗部件(3)与载置台(27)相对的方式设置天线(5)。该天线(5)，由各个长度相等、相互横向平行排列的直线状的多个天线部件(51)构成。该天线(5)的一端侧通过电源侧电路(61)连接至高频电源部(6)，并且其另一端侧通过接地侧电路(62)连接至接地点。在上述电源侧电路(61)和接地侧电路(62)的至少一方，设置有用于调整天线(5)的电位分布的电位分布调整用的电容器(7)，从所述高频电源部(6)通过各天线部件(51)至接地点的各高频路径的阻抗被设定为相互相等。
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公开(公告)号：CN101440484A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810181115.X
申请日：2008-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , H01L21/3065 , H01L21/205 , H01J37/32 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种感应耦合等离子体处理装置和等离子体处理方法，该感应耦合等离子体处理装置能够不提高装置成本和电力成本地在等离子体处理的过程中进行等离子体状态的控制。在处理室(4)的上方，隔着电介质壁(2)配置有通过被供给高频电力在处理室(4)内形成感应电场的高频天线(13)，通过等离子体发光状态检测部(40)检测通过感应电场在所述处理室内形成的感应耦合等离子体的发光状态，根据该等离子体发光状态检测部(40)的检测信息，控制单元(50)控制调节包括高频天线的天线电路的特性的调节单元(21)，由此控制等离子体状态。
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公开(公告)号：CN101154565A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200710154403.1
申请日：2007-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/67 , C23F4/00 , C23C16/46 , H05H1/00 , H01J37/32 , F17D1/04
Abstract: 本发明涉及传热气体供给机构、供给方法及基板处理装置、处理方法。其能在短时间内供给使载置台与玻璃基板间的空间变成设定压力的量的传热气体，并能将该空间正确保持在设定压力。传热气体供给机构(3)包括：用于向基座与基板间的空间(D)供给传热气体的传热气体供给源(30)；用于暂时贮存来自该传热气体供给源的传热气体的传热气体罐(31)；一端与该传热气体供给源连接，另一端与该空间连接着的第一传热气体流路(34)；及从该第一传热气体流路分支并与该传热气体罐连接着的第二传热气体流路(35)，经由该第一及第二传热气体流路，传热气体从传热气体供给源暂时贮存在该传热气体罐，贮存在该传热气体罐的传热气体被供给该空间。
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公开(公告)号：CN111192838B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201911096333.8
申请日：2019-11-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/3065 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，抑制不稳定的放电。等离子体处理装置具有：处理室，其在内部设置有用于载置基板的载置台，对基板实施等离子体处理；高频电源，其对载置台施加偏压用的高频电力；以及多个板状构件，其由导电性材料形成，与接地电位连接，配置到处理室的内表面。
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公开(公告)号：CN114496701A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202111292961.0
申请日：2021-11-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置及其制造方法和等离子体处理方法，即使在等离子体处理装置大型化的情况下，也能够使放电稳定。等离子体处理装置在生成有等离子体的处理容器的处理室中对基片进行处理，并包括：等离子体生成用高频电源；能够载置上述基片并与偏置用高频电源电连接的载置台；金属制的保护部件，其覆盖被接地的上述处理容器中的、与上述处理室连通的露出面的至少一部分；第一接地电位部件，其利用金属制的第一紧固部件与上述保护部件的一端紧固，并与上述处理容器的一部分接触而具有接地电位；和第二接地电位部件，其利用金属制的第二紧固部件与上述保护部件的另一端紧固，并与上述处理容器的另一部分接触而具有接地电位。
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