公开(公告)号：CN119663233A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411257190.5

申请日：2024-09-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽地淳 ,  石原田幸太 ,  药师寺秀明 ,  佐藤好保 ,  森北信也 ,  吉村正太 ,  鹤田俊宽 ,  鹰合一祥

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/515 ,  C23C16/52 ,  C23C16/50

Abstract: 本发明提供一种气体供给系统、气体控制系统、等离子体处理装置以及气体控制方法。气体供给系统具有：多个气体供给流路，其能够独立地供给气体；流量控制器，其配置于气体供给流路；一次侧阀，其配置于流量控制器的上游侧；一次侧气体排气流路，其在流量控制器与一次侧阀之间的位置分支出来，连接于一次侧排气机构；一次侧排气阀，其配置于一次侧气体排气流路；二次侧阀，其配置于流量控制器的下游侧；二次侧气体排气流路，其在流量控制器与二次侧阀之间的位置分支出来，连接于二次侧排气机构；二次侧排气阀，其配置于二次侧气体排气流路，流量控制器具有：控制阀，其与一次侧阀及二次侧阀连接；以及控制侧节流孔，其配置于控制阀与二次侧阀之间。

公开(公告)号：CN117813677A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202280053234.5

申请日：2022-07-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽地淳 ,  石原田幸太 ,  药师寺秀明 ,  佐藤好保 ,  森北信也 ,  吉村正太 ,  鹤田俊宽

IPC: H01L21/3065 ,  G05D7/06 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31

Abstract: 一种向处理腔室内供给气体的气体供给系统，具有：多个气体供给流路，所述多个气体供给流路构成为能够各自独立地向所述处理腔室供给气体；流量控制器，在多个所述气体供给流路的各所述气体供给流路配置所述流量控制器；一次侧阀，其配置于所述气体供给流路中的比所述流量控制器靠上游侧的位置；一次侧气体排气流路，其在所述气体供给流路中的所述流量控制器与所述一次侧阀之间分支出来并连接于一次侧排气机构；一次侧排气阀，其配置于所述一次侧气体排气流路；二次侧阀，其配置于所述气体供给流路中的比所述流量控制器靠下游侧的位置；二次侧气体排气流路，其在所述气体供给流路中的所述流量控制器与所述二次侧阀之间分支出来并连接于二次侧排气机构；以及二次侧排气阀，其配置于所述二次侧气体排气流路，其中，所述流量控制器具有：控制阀，其与所述一次侧阀及所述二次侧阀连接；以及控制侧节流孔，其配置于所述控制阀与所述二次侧阀之间。