公开(公告)号：CN101031625A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200580033321.0

申请日：2005-09-30

Applicant: 东洋油墨制造株式会社

Inventor： 薄井慎一 ,  绪方敬三

IPC: C09J4/00 ,  H05K3/20

CPC classification number: H05K3/20 ,  H05K3/061 ,  H05K2201/0355 ,  H05K2203/0156 ,  H05K2203/0264

Abstract: 本发明公开了一种活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂，该压敏粘合剂含有：耐蚀刻性光聚合引发剂、活性能量射线反应性化合物和固化剂；还公开了一种蚀刻化金属体的制造方法，该制造方法包括：(1)利用上述活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂将金属箔与基材膜进行贴附的工序；(2)通过对上述金属箔的选择性蚀刻形成蚀刻金属层的工序；(3)将由基材膜、活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂和蚀刻金属层形成的层合体的蚀刻金属层与绝缘性基板组合的工序；和(4)从上述蚀刻金属层上剥离上述基材膜的工序，在上述工序(1)之后和工序(4)之前的期间内至少进行一次活性能量射线照射。