表面处理剂和表面处理体的制造方法

    公开(公告)号:CN111512418A

    公开(公告)日:2020-08-07

    申请号:CN201880083226.9

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明提供一种在配液时能够以短时间溶解原料且能够表现出优异拒水性赋予效果的表面处理剂、以及使用该表面处理剂来制造表面处理体的方法。本发明的表面处理剂是被处理体的表面处理中使用的表面处理剂,其包含:(I)下述通式[1]、[2]和[3]所示的硅化合物之中的至少1种;(II)下述通式[4]所示的含氮杂环化合物、下述通式[5]所示的含氮杂环化合物和咪唑之中的至少1种;以及(III)有机溶剂。(R1)a(H)bSi[N(R2)C(=O)R3]4-a-b[1](R4)c(H)dSi[OC(=O)R5]4-c-d[2](R6)e(H)fSi[OC(R7)=NSi(R8)g(H)3-g]4-e-f[3]

    晶片的清洗方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103283004B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201180063349.4

    申请日:2011-12-20

    CPC classification number: H01L21/02057 C11D3/162 C11D11/0047

    Abstract: [课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法,其至少具有以下工序:用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序;用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序;干燥晶片(1)的工序,上述清洗液(8)包含80质量%以上的沸点为55~200℃的溶剂,通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点,从而至少使上述凹部表面拒水化。

    晶片的清洗方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103283004A

    公开(公告)日:2013-09-04

    申请号:CN201180063349.4

    申请日:2011-12-20

    CPC classification number: H01L21/02057 C11D3/162 C11D11/0047

    Abstract: [课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法,其至少具有以下工序:用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序;用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序;干燥晶片(1)的工序,上述清洗液(8)包含80质量%以上的沸点为55~200℃的溶剂,通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点,从而至少使上述凹部表面拒水化。

    保护膜形成用化学溶液及晶圆的清洗方法

    公开(公告)号:CN114762087A

    公开(公告)日:2022-07-15

    申请号:CN202080082684.8

    申请日:2020-11-11

    Abstract: 提供一种保护膜形成用化学溶液以及晶圆的清洗方法,所述保护膜形成用化学溶液用于晶圆的表面处理,所述晶圆在表面具有凹凸图案、且前述凹凸图案的至少一部分包含选自由Si元素及金属元素组成的组中的至少1者,前述保护膜形成用化学溶液包含保护膜形成剂和具有氟原子的溶剂,前述保护膜形成剂为特定的化合物。

    晶圆的清洗方法及该清洗方法中使用的化学溶液

    公开(公告)号:CN107078041A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201580050387.4

    申请日:2015-09-11

    Abstract: 本发明提供在使用含有氯乙烯树脂作为液体接触构件的晶圆的清洗装置的晶圆的清洗中,在晶圆的凹凸图案表面形成拒水性保护膜而不使上述氯乙烯树脂劣化的拒水性保护膜形成用化学溶液、及使用该化学溶液的晶圆的清洗方法。一种晶圆的清洗方法,其是利用含有氯乙烯树脂作为液体接触构件的晶圆的清洗装置对表面具有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少一部分含有硅元素的晶圆进行清洗的方法,其中,将拒水性保护膜形成用化学溶液保持在前述凹凸图案的至少凹部,从而在该凹部表面形成拒水性保护膜,所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含下述通式[1]所示的单烷氧基硅烷、下述通式[2]所示的磺酸、及稀释溶剂,该稀释溶剂相对于稀释溶剂的总量100质量%包含80~100质量%的醇。(R1)aSi(H)3‑a(OR2) [1][式[1]中,R1各自独立地为选自一部分或全部的氢元素任选被氟元素取代的碳数1~18的一价烃基中的至少1种基团,R2为一部分或全部的氢元素任选被氟元素取代的碳数1~18的一价烃基,a为1~3的整数。]R3‑S(=O)2OH [2][式[2]中,R3为选自由一部分或全部的氢元素任选被氟元素取代的碳数1~8的一价烃基、及羟基组成的组中的基团。]。

    加压输送容器、使用了其的保管方法以及移液方法

    公开(公告)号:CN104176393A

    公开(公告)日:2014-12-03

    申请号:CN201410214947.2

    申请日:2014-05-20

    CPC classification number: B65B31/00 H01L21/67017

    Abstract: 本发明提供一种即使在长时间保管保护膜形成用化学溶液、用于配制该化学溶液的保护膜形成用化学溶液组合试剂后,也能够确保该化学溶液或该化学溶液组合试剂等液体的洁净性,且能够抑制该液体的带电的加压输送容器、使用了其的保管方法以及移液方法。一种加压输送容器,其特征在于,其为以保管保护膜形成用化学溶液或保护膜形成用化学溶液组合试剂、且能够通过对内部进行加压来移液的方式构成的加压输送容器,所述保护膜形成用化学溶液用于在表面具有凹凸图案且该凹凸图案的至少一部分包含硅元素的晶圆的该凹凸图案的至少凹部表面形成拒水性保护膜,所述保护膜形成用化学溶液组合试剂通过混合而形成上述保护膜形成用化学溶液。

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