公开(公告)号：CN103155113B

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201180036016.2

申请日：2011-07-21

Applicant: 仓敷纺织株式会社 ,  株式会社化学工艺技术

Inventor： 清濑浩巳 ,  平木哲 ,  渡部博

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/308

CPC classification number: B44C1/227 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67109

Abstract: 提供一种由于能够直接检测处理液的浓度，因而能够几乎不受处理液温度影响地进行独立的浓度控制，从而能够精度良好地对基板进行药液处理的基板处理装置。在将基板浸渍在将药液和稀释液混合而成的处理液中进行处理的基板处理装置中，包括：处理槽（1），贮留处理液；加热单元（2、3），加热处理液；温度检测单元（4），检测处理液的温度；温度控制单元（5），操作所述加热单元（2、3）以使检测温度接近设定温度；补充单元（6），将稀释液补充到处理液中；浓度检测单元（7），通过测量处理液的吸光特性来检测处理液的浓度；以及浓度控制单元（8），操作所述补充单元（6）以使检测浓度接近设定浓度。

公开(公告)号：CN103155113A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180036016.2

申请日：2011-07-21

Applicant: 仓敷纺织株式会社 ,  株式会社化学工艺技术

Inventor： 清濑浩巳 ,  平木哲 ,  渡部博

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/308

CPC classification number: B44C1/227 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67109

Abstract: 提供一种由于能够直接检测处理液的浓度，因而能够几乎不受处理液温度影响地进行独立的浓度控制，从而能够精度良好地对基板进行药液处理的基板处理装置。在将基板浸渍在将药液和稀释液混合而成的处理液中进行处理的基板处理装置中，包括：处理槽（1），贮留处理液；加热单元（2、3），加热处理液；温度检测单元（4），检测处理液的温度；温度控制单元（5），操作所述加热单元（2、3）以使检测温度接近设定温度；补充单元（6），将稀释液补充到处理液中；浓度检测单元（7），通过测量处理液的吸光特性来检测处理液的浓度；以及浓度控制单元（8），操作所述补充单元（6）以使检测浓度接近设定浓度。