公开(公告)号：CN101454720B

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN200780019759.2

申请日：2007-05-15

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： S·E·飞利普 ,  T·J·崔威尔 ,  L·W·塔特 ,  G·T·皮尔斯 ,  K·恩古颜 ,  R·M·威克勒

IPC: G03F1/54

CPC classification number: G03F1/00 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146

Abstract: 通过将第一层抗蚀剂(12)涂覆在基板(10)上制造微结构器件的方法。通过该抗蚀剂的辐射引发的热去除在该基板上产生图案。

公开(公告)号：CN101454720A

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：CN200780019759.2

申请日：2007-05-15

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： S·E·飞利普 ,  T·J·崔威尔 ,  L·W·塔特 ,  G·T·皮尔斯 ,  K·恩古颜 ,  R·M·威克勒

IPC: G03F1/00 ,  B23K26/40

CPC classification number: G03F1/00 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146

Abstract: 通过将第一层抗蚀剂(12)涂覆在基板(10)上制造微结构器件的方法。通过该抗蚀剂的辐射引发的热去除在该基板上产生图案。