公开(公告)号：CN101738873A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200910212111.8

申请日：2009-11-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  井上丰治

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

Abstract: 提供一种曝光装置，具备进行曝光处理的曝光处理部与进行对位的对准平台部，能够尽量使对准平台小型化、低成本化。将曝光光从光照射部(1)照射于光罩(M)，在准直显微镜(10)显像光罩标记(MAM)的投影像，求出其位置坐标并存储。一方面，在对准平台(AS)上载置工件(W)，以工件标记(WAM)所形成的间隔单步进给平台(AS)或准直显微镜(4)，利用准直显微镜(4)以排列的方式检测工件标记(WAM)，存储其位置坐标。顺便，工件搬运机构(23)将工件(W)搬运至曝光平台(WS)，进行对位以使光罩标记(MAM)与工件标记(WAM)的位置一致，一面移动曝光平台(WS)，一面依次曝光工件(W)上的各曝光区域。

公开(公告)号：CN101738873B

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN200910212111.8

申请日：2009-11-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  井上丰治

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

Abstract: 提供一种曝光装置，具备进行曝光处理的曝光处理部与进行对位的对准平台部，能够尽量使对准平台小型化、低成本化。将曝光光从光照射部(1)照射于光罩(M)，在准直显微镜(10)显像光罩标记(MAM)的投影像，求出其位置坐标并存储。一方面，在对准平台(AS)上载置工件(W)，以工件标记(WAM)所形成的间隔单步进给平台(AS)或准直显微镜(4)，利用准直显微镜(4)以排列的方式检测工件标记(WAM)，存储其位置坐标。顺便，工件搬运机构(23)将工件(W)搬运至曝光平台(WS)，进行对位以使光罩标记(MAM)与工件标记(WAM)的位置一致，一面移动曝光平台(WS)，一面依次曝光工件(W)上的各曝光区域。

公开(公告)号：CN102736445B

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：CN201210109339.6

申请日：2012-04-13

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 三盐亮一 ,  井上丰治

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 一种掩模与工件的对齐方法，即使工件发生伸缩变形，关于通过投影曝光形成在工件上的图案的位置，通过此前的曝光处理形成的图案的位置与在下一工序中进行的丝网印刷等的掩模图案的位置之间也不会产生大的偏移。在进行投影曝光装置的对齐时，调整将上述掩模(M)的图案放大或缩小投影的倍率，使得在掩模(M)的掩模标记(MAM1～4)与工件标记(WAM1～4)的偏移量(dR)的总和上加上掩模(M)的掩模标记(MAM1～4)的位置与在下一工序中使用的丝网掩模的掩模标记(SAM1～4)的基准位置的偏移量(dM)的总和而得到的值最小，并且使掩模(M)或工件(W)移动来进行掩模(M)与工件(W)的对齐。

公开(公告)号：CN102736445A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201210109339.6

申请日：2012-04-13

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 三盐亮一 ,  井上丰治

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 一种掩模与工件的对齐方法，即使工件发生伸缩变形，关于通过投影曝光形成在工件上的图案的位置，通过此前的曝光处理形成的图案的位置与在下一工序中进行的丝网印刷等的掩模图案的位置之间也不会产生大的偏移。在进行投影曝光装置的对齐时，调整将上述掩模(M)的图案放大或缩小投影的倍率，使得在掩模(M)的掩模标记(MAM1～4)与工件标记(WAM1～4)的偏移量(dR)的总和上加上掩模(M)的掩模标记(MAM1～4)的位置与在下一工序中使用的丝网掩模的掩模标记(SAM1～4)的基准位置的偏移量(dM)的总和而得到的值最小，并且使掩模(M)或工件(W)移动来进行掩模(M)与工件(W)的对齐。