公开(公告)号：CN101738873A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200910212111.8

申请日：2009-11-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  井上丰治

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

Abstract: 提供一种曝光装置，具备进行曝光处理的曝光处理部与进行对位的对准平台部，能够尽量使对准平台小型化、低成本化。将曝光光从光照射部(1)照射于光罩(M)，在准直显微镜(10)显像光罩标记(MAM)的投影像，求出其位置坐标并存储。一方面，在对准平台(AS)上载置工件(W)，以工件标记(WAM)所形成的间隔单步进给平台(AS)或准直显微镜(4)，利用准直显微镜(4)以排列的方式检测工件标记(WAM)，存储其位置坐标。顺便，工件搬运机构(23)将工件(W)搬运至曝光平台(WS)，进行对位以使光罩标记(MAM)与工件标记(WAM)的位置一致，一面移动曝光平台(WS)，一面依次曝光工件(W)上的各曝光区域。

公开(公告)号：CN102004398A

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN201010250677.2

申请日：2010-08-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  友永竹彦

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬运至工件平台(4)，将形成于从掩模库(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的图案对工件(W)进行曝光。并且，在反转平台部(30)反转(翻转)工件(W)，并将工件(W)保管在工件保管部(40)。这样，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，将掩模更换成第2面(背面)曝光用的掩模，从工件保管部(40)取出第1面曝光结束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬运机构(50b)，被搬运到工件搬入搬出部(20)。

公开(公告)号：CN101738873B

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN200910212111.8

申请日：2009-11-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  井上丰治

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

Abstract: 提供一种曝光装置，具备进行曝光处理的曝光处理部与进行对位的对准平台部，能够尽量使对准平台小型化、低成本化。将曝光光从光照射部(1)照射于光罩(M)，在准直显微镜(10)显像光罩标记(MAM)的投影像，求出其位置坐标并存储。一方面，在对准平台(AS)上载置工件(W)，以工件标记(WAM)所形成的间隔单步进给平台(AS)或准直显微镜(4)，利用准直显微镜(4)以排列的方式检测工件标记(WAM)，存储其位置坐标。顺便，工件搬运机构(23)将工件(W)搬运至曝光平台(WS)，进行对位以使光罩标记(MAM)与工件标记(WAM)的位置一致，一面移动曝光平台(WS)，一面依次曝光工件(W)上的各曝光区域。

公开(公告)号：CN101840160A

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：CN201010143056.4

申请日：2010-03-19

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 小池雄辉 ,  冈野达广 ,  佐藤善彦

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，即使工件从工件搬运机构落下，也不会损伤工件本身或工件台的部件，并且，与现有技术相比，生产节拍不变长。本发明的曝光装置，将通过机械手所搬运的工件载置在工件台，对载置在该工件台的工件通过掩模来照射光，在上述工件上对形成在上述掩模的图案进行曝光，在机械手搬运工件的区域，即从机械手搬运工件的搬运高度(搬运位级)至工件台的吸附平台表面高度之间的空间，铺设横穿工件台的缆线。

公开(公告)号：CN101840160B

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201010143056.4

申请日：2010-03-19

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 小池雄辉 ,  冈野达广 ,  佐藤善彦

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，即使工件从工件搬运机构落下，也不会损伤工件本身或工件台的部件，并且，与现有技术相比，生产节拍不变长。本发明的曝光装置，将通过机械手所搬运的工件载置在工件台，对载置在该工件台的工件通过掩模来照射光，在上述工件上对形成在上述掩模的图案进行曝光，在机械手搬运工件的区域，即从机械手搬运工件的搬运高度(搬运位级)至工件台的吸附平台表面高度之间的空间，铺设横穿工件台的缆线。

公开(公告)号：CN102004398B

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN201010250677.2

申请日：2010-08-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  友永竹彦

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬运至工件平台(4)，将形成于从掩模库(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的图案对工件(W)进行曝光。并且，在反转平台部(30)反转(翻转)工件(W)，并将工件(W)保管在工件保管部(40)。这样，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，将掩模更换成第2面(背面)曝光用的掩模，从工件保管部(40)取出第1面曝光结束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬运机构(50b)，被搬运到工件搬入搬出部(20)。