公开(公告)号：CN102004398B

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN201010250677.2

申请日：2010-08-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  友永竹彦

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬运至工件平台(4)，将形成于从掩模库(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的图案对工件(W)进行曝光。并且，在反转平台部(30)反转(翻转)工件(W)，并将工件(W)保管在工件保管部(40)。这样，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，将掩模更换成第2面(背面)曝光用的掩模，从工件保管部(40)取出第1面曝光结束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬运机构(50b)，被搬运到工件搬入搬出部(20)。

公开(公告)号：CN102004398A

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN201010250677.2

申请日：2010-08-10

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤善彦 ,  友永竹彦

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬运至工件平台(4)，将形成于从掩模库(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的图案对工件(W)进行曝光。并且，在反转平台部(30)反转(翻转)工件(W)，并将工件(W)保管在工件保管部(40)。这样，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，将掩模更换成第2面(背面)曝光用的掩模，从工件保管部(40)取出第1面曝光结束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬运机构(50b)，被搬运到工件搬入搬出部(20)。