公开(公告)号：CN108091534A

公开(公告)日：2018-05-29

申请号：CN201710945609.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 狩谷宏行 ,  森川英喜 ,  石川雅基

IPC: H01J37/304 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种离子注入方法及离子注入装置。本发明的课题在于以高精确度迅速调整离子束的能量。所述离子注入方法具备以下步骤：测定从根据暂定的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束的射束能量的步骤；基于测定出的射束能量调整高频参数的值的步骤；及使用从根据经调整的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束来进行离子注入的步骤。暂定的高频参数对至少包含最终级的一部分级的高频谐振器赋予与赋予设计上的最大加速的高频参数的值不同的值。调整步骤包括变更对至少包括最终级的一部分级的高频谐振器设定的电压振幅及相位中的至少一方的步骤。

公开(公告)号：CN112242287A

公开(公告)日：2021-01-19

申请号：CN202010551130.X

申请日：2020-06-15

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 狩谷宏行 ,  高桥裕二

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明的课题在于长期维持射束电流的测定精度。离子注入装置(10)具备：注入处理室(16)，进行向晶圆W照射离子束的注入工序；第1法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在注入工序之前进行的准备工序中测定离子束的射束电流；第2法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在用于校正第1法拉第杯的射束电流测定值的校正工序中测定离子束的射束电流；及屏蔽部件(43)，用于屏蔽朝向第2法拉第杯的离子束。屏蔽部件43构成为在注入工序及准备工序中离子束不能入射到第2法拉第杯，在校正工序中离子束能够入射到第2法拉第杯。

公开(公告)号：CN112242287B

公开(公告)日：2024-10-08

申请号：CN202010551130.X

申请日：2020-06-15

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 狩谷宏行 ,  高桥裕二

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明的课题在于长期维持射束电流的测定精度。离子注入装置(10)具备：注入处理室(16)，进行向晶圆W照射离子束的注入工序；第1法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在注入工序之前进行的准备工序中测定离子束的射束电流；第2法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在用于校正第1法拉第杯的射束电流测定值的校正工序中测定离子束的射束电流；及屏蔽部件(43)，用于屏蔽朝向第2法拉第杯的离子束。屏蔽部件43构成为在注入工序及准备工序中离子束不能入射到第2法拉第杯，在校正工序中离子束能够入射到第2法拉第杯。

公开(公告)号：CN110137067B

公开(公告)日：2022-12-02

申请号：CN201910102055.6

申请日：2019-02-01

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 井门德安 ,  狩谷宏行 ,  大浦正英

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/244

Abstract: 一种离子注入装置及测定装置。本发明实现离子束的角度分布的评价的高速化。本发明的测定装置(50)包括：多个狭缝(74a～74c)，使离子束入射；束电流测定部(54)，设置于从多个狭缝沿射束行进方向分离的位置；及测定控制部。束电流测定部(54)构成为能够在与射束行进方向正交的第1方向的位置不同的多个测定位置测定束电流。多个狭缝(74a～74c)以第1方向与狭缝宽度方向一致的方式沿第1方向隔着间隔配置，且以沿第1方向可移动的方式构成。测定控制部一边使多个狭缝沿第1方向移动，一边获取通过束电流测定部在第1方向的位置不同的多个测定位置测定的多个束电流值。

公开(公告)号：CN110137067A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910102055.6

申请日：2019-02-01

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 井门德安 ,  狩谷宏行 ,  大浦正英

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/244

Abstract: 一种离子注入装置及测定装置。本发明实现离子束的角度分布的评价的高速化。本发明的测定装置(50)包括：多个狭缝(74a～74c)，使离子束入射；束电流测定部(54)，设置于从多个狭缝沿射束行进方向分离的位置；及测定控制部。束电流测定部(54)构成为能够在与射束行进方向正交的第1方向的位置不同的多个测定位置测定束电流。多个狭缝(74a～74c)以第1方向与狭缝宽度方向一致的方式沿第1方向隔着间隔配置，且以沿第1方向可移动的方式构成。测定控制部一边使多个狭缝沿第1方向移动，一边获取通过束电流测定部在第1方向的位置不同的多个测定位置测定的多个束电流值。

公开(公告)号：CN108091534B

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201710945609.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 狩谷宏行 ,  森川英喜 ,  石川雅基

IPC: H01J37/304 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种离子注入方法及离子注入装置。本发明的课题在于以高精确度迅速调整离子束的能量。所述离子注入方法具备以下步骤：测定从根据暂定的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束的射束能量的步骤；基于测定出的射束能量调整高频参数的值的步骤；及使用从根据经调整的高频参数进行动作的高能量多级线性加速单元输出的离子束来进行离子注入的步骤。暂定的高频参数对至少包含最终级的一部分级的高频谐振器赋予与赋予设计上的最大加速的高频参数的值不同的值。调整步骤包括变更对至少包括最终级的一部分级的高频谐振器设定的电压振幅及相位中的至少一方的步骤。