公开(公告)号：CN112242287B

公开(公告)日：2024-10-08

申请号：CN202010551130.X

申请日：2020-06-15

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 狩谷宏行 ,  高桥裕二

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明的课题在于长期维持射束电流的测定精度。离子注入装置(10)具备：注入处理室(16)，进行向晶圆W照射离子束的注入工序；第1法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在注入工序之前进行的准备工序中测定离子束的射束电流；第2法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在用于校正第1法拉第杯的射束电流测定值的校正工序中测定离子束的射束电流；及屏蔽部件(43)，用于屏蔽朝向第2法拉第杯的离子束。屏蔽部件43构成为在注入工序及准备工序中离子束不能入射到第2法拉第杯，在校正工序中离子束能够入射到第2法拉第杯。

公开(公告)号：CN108695129B

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN201810256674.6

申请日：2018-03-27

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 越智秀太 ,  二宫史郎 ,  高桥裕二 ,  香川唯信

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/302

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置及离子注入方法，能够应对多种射束条件。离子注入装置具备构成为对向晶圆照射的离子束(B)供给电子的等离子体簇射装置(60)。等离子体簇射装置(60)包含：等离子体生成室(62)，具有引出向离子束(B)供给的电子的引出开口(64)；第1电极(71)，具有与引出开口(64)连通的开口(74)，并以等离子体生成室(62)的电位为基准而被施加第1电压；第2电极(72)，配置在隔着离子束(B)而与第1电极(71)相对置的位置，并以等离子体生成室(62)的电位为基准而被施加第2电压；以及控制部(86)，对第1电压及第2电压分别独立地进行控制并切换等离子体簇射装置(60)的动作模式。

公开(公告)号：CN108695129A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810256674.6

申请日：2018-03-27

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 越智秀太 ,  二宫史郎 ,  高桥裕二 ,  香川唯信

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/302

CPC classification number: H01J37/32412 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/3233 ,  H01J37/32422 ,  H01J2237/0045 ,  H01L21/2236 ,  H01J37/3023

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置及离子注入方法，能够应对多种射束条件。离子注入装置具备构成为对向晶圆照射的离子束(B)供给电子的等离子体簇射装置(60)。等离子体簇射装置(60)包含：等离子体生成室(62)，具有引出向离子束(B)供给的电子的引出开口(64)；第1电极(71)，具有与引出开口(64)连通的开口(74)，并以等离子体生成室(62)的电位为基准而被施加第1电压；第2电极(72)，配置在隔着离子束(B)而与第1电极(71)相对置的位置，并以等离子体生成室(62)的电位为基准而被施加第2电压；以及控制部(86)，对第1电压及第2电压分别独立地进行控制并切换等离子体簇射装置(60)的动作模式。

公开(公告)号：CN112242287A

公开(公告)日：2021-01-19

申请号：CN202010551130.X

申请日：2020-06-15

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 狩谷宏行 ,  高桥裕二

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明的课题在于长期维持射束电流的测定精度。离子注入装置(10)具备：注入处理室(16)，进行向晶圆W照射离子束的注入工序；第1法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在注入工序之前进行的准备工序中测定离子束的射束电流；第2法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在用于校正第1法拉第杯的射束电流测定值的校正工序中测定离子束的射束电流；及屏蔽部件(43)，用于屏蔽朝向第2法拉第杯的离子束。屏蔽部件43构成为在注入工序及准备工序中离子束不能入射到第2法拉第杯，在校正工序中离子束能够入射到第2法拉第杯。

公开(公告)号：CN305120307S

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201830563622.4

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的起弧室。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品作为离子注入装置的起弧室使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN305419270S

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201830563644.0

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的抑制电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置中的抑制电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN305371835S

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201830563661.4

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的抑制电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置的抑制电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图1。

公开(公告)号：CN305182412S

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201830563636.6

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的接地电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置中的接地电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN305371834S

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201830563637.0

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的接地电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置中的接地电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图1。

公开(公告)号：CN305125642S

公开(公告)日：2019-04-23

申请号：CN201830563621.X

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的起弧室。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品作为离子注入装置的起弧室使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。