电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备

    公开(公告)号:CN110554584A

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201910467058.X

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。提供一种抑制由于重复使用导致的电位变动的电子照相感光构件。所述电子照相感光构件为依次包括支承体,感光层和保护层的电子照相感光构件,其中所述保护层包含:含有由通式(1)表示的结构和由通式(2)表示的结构的树脂;以及由通式(3)表示的化合物,在树脂中由通式(2)表示的结构的比例与由通式(1)表示的结构的比例的摩尔比为0.0002-0.1000,在保护层中由通式(3)表示的化合物的含量与树脂中的由通式(1)表示的结构的含量的摩尔比为0.0002-0.1000。

    电摄影设备及处理盒
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1174291C

    公开(公告)日:2004-11-03

    申请号:CN02123747.6

    申请日:2002-06-21

    CPC classification number: G03G5/14704 G03G5/147 G03G2215/021

    Abstract: 一种电摄影设备,包括:电摄影光敏部件和充电装置。该充电装置包括具有导电性和弹性表面的导体颗粒携带部件以及颗粒尺寸为10nm-10μm的导体颗粒,导体颗粒被携带在携带部件上以便被布设成与光敏部件接触,从而向光敏部件直接注入电荷以使光敏部件充电。光敏部件包括依次设置在一支承体上的光敏层和作为表面层的电荷注入层,电荷注入层具有厚度d(μm)及弹性变形百分率We(OCL)(%),它们与光敏层的弹性变形百分率We(CTL)(%)满足下式(1)的关系:-0.71×d+We(CTL)≤We(OCL)≤0.03×d3-0.89×d2+8.43×d+We(CTL)...(1)。

    电子照相感光构件和各自包括该电子照相感光构件的电子照相设备和处理盒

    公开(公告)号:CN116068867A

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202211327545.4

    申请日:2022-10-27

    Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件和各自包括该电子照相感光构件的电子照相设备和处理盒。提供包括支承体、电荷产生层、第一空穴输送层和第二空穴输送层的电子照相感光构件,第二空穴输送层含式(1)的空穴输送性化合物(质量:W1,最高占据分子轨道的能量值:CTM1HOMO)、式(2)的空穴输送性化合物(质量:W2)和/或式(3)的空穴输送性化合物(质量:W3,最高占据分子轨道的能量值:CTM2HOMO),式(I)的值为0.05‑5.0质量%,且满足式(II):(W2+W3)/(W1+W2+W3)×100%(I);0.05(eV)≤|CTM2HOMO|‑|CTM1HOMO|≤0.30(eV)(II)。

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