绘画装置和物品的制造方法

    公开(公告)号:CN104122758A

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN201410164563.4

    申请日:2014-04-22

    Inventor: 森田知之

    Abstract: 本发明公开了一种绘画装置和物品的制造方法,该绘画装置包含:多个带电粒子光学系统,所述多个带电粒子光学系统沿第一方向以某个节距排列,每个带电粒子光学系统被配置为利用带电粒子束照射基板;台架,被配置为保持基板并且沿与所述第一方向正交的第二方向相对于所述带电粒子光学系统移动;以及控制器,被配置为针对每个带电粒子光学系统确定用于绘画的带电粒子束,以便满足由SW=Pc/α=Ps/β给出的关系,这里,Ps为射击区域沿第一方向的阵列节距,SW为通过每个带电粒子光学系统的每个绘画区域沿第一方向的宽度,Pc为绘画区域沿第一方向的阵列节距,α和β为自然数。

    绘画装置和物品的制造方法

    公开(公告)号:CN104122758B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201410164563.4

    申请日:2014-04-22

    Inventor: 森田知之

    Abstract: 本发明公开了一种绘画装置和物品的制造方法,该绘画装置包含:多个带电粒子光学系统,所述多个带电粒子光学系统沿第一方向以某个节距排列,每个带电粒子光学系统被配置为利用带电粒子束照射基板;台架,被配置为保持基板并且沿与所述第一方向正交的第二方向相对于所述带电粒子光学系统移动;以及控制器,被配置为针对每个带电粒子光学系统确定用于绘画的带电粒子束,以便满足由SW=Pc/α=Ps/β给出的关系,这里,Ps为射击区域沿第一方向的阵列节距,SW为通过每个带电粒子光学系统的每个绘画区域沿第一方向的宽度,Pc为绘画区域沿第一方向的阵列节距,α和β为自然数。

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