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公开(公告)号:CN104253025B
公开(公告)日:2017-07-07
申请号:CN201410282732.4
申请日:2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01J37/045 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435
Abstract: 公开了消隐装置、绘制装置和物品的制造方法。本发明提供一种消隐装置,该消隐装置包括:多个消隐器,被配置成相对于物体上的目标位置分别使多个射束消隐;和驱动设备,被配置成驱动多个消隐器,其中,驱动设备包括改变设备,该改变设备被配置成改变多个射束中的射束的组合和目标剂量之间的关系。
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公开(公告)号:CN104253025A
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201410282732.4
申请日:2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01J37/045 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435
Abstract: 公开了消隐装置、绘制装置和物品的制造方法。本发明提供一种消隐装置,该消隐装置包括:多个消隐器,被配置成相对于物体上的目标位置分别使多个射束消隐;和驱动设备,被配置成驱动多个消隐器,其中,驱动设备包括改变设备,该改变设备被配置成改变多个射束中的射束的组合和目标剂量之间的关系。
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公开(公告)号:CN104122758A
公开(公告)日:2014-10-29
申请号:CN201410164563.4
申请日:2014-04-22
Applicant: 佳能株式会社
Inventor: 森田知之
IPC: G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3174 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3177 , H01J2237/20292 , H01J2237/31761 , H01L21/268
Abstract: 本发明公开了一种绘画装置和物品的制造方法,该绘画装置包含:多个带电粒子光学系统,所述多个带电粒子光学系统沿第一方向以某个节距排列,每个带电粒子光学系统被配置为利用带电粒子束照射基板;台架,被配置为保持基板并且沿与所述第一方向正交的第二方向相对于所述带电粒子光学系统移动;以及控制器,被配置为针对每个带电粒子光学系统确定用于绘画的带电粒子束,以便满足由SW=Pc/α=Ps/β给出的关系,这里,Ps为射击区域沿第一方向的阵列节距,SW为通过每个带电粒子光学系统的每个绘画区域沿第一方向的宽度,Pc为绘画区域沿第一方向的阵列节距,α和β为自然数。
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公开(公告)号:CN104253011B
公开(公告)日:2018-04-03
申请号:CN201410282724.X
申请日:2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3023 , H01J2237/31766
Abstract: 本发明涉及一种绘画装置和制造物品的方法。所述绘画装置用于利用带电粒子束在基板上执行绘画,包括:控制器,被配置为基于所述带电粒子束在所述基板上的多个位置中的每一个相对于与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置的位移的信息、以及与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置处的所述带电粒子束的目标剂量,来控制所述多个位置中的每一个处的所述带电粒子束的剂量。
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公开(公告)号:CN104122758B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201410164563.4
申请日:2014-04-22
Applicant: 佳能株式会社
Inventor: 森田知之
IPC: G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3174 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3177 , H01J2237/20292 , H01J2237/31761 , H01L21/268
Abstract: 本发明公开了一种绘画装置和物品的制造方法,该绘画装置包含:多个带电粒子光学系统,所述多个带电粒子光学系统沿第一方向以某个节距排列,每个带电粒子光学系统被配置为利用带电粒子束照射基板;台架,被配置为保持基板并且沿与所述第一方向正交的第二方向相对于所述带电粒子光学系统移动;以及控制器,被配置为针对每个带电粒子光学系统确定用于绘画的带电粒子束,以便满足由SW=Pc/α=Ps/β给出的关系,这里,Ps为射击区域沿第一方向的阵列节距,SW为通过每个带电粒子光学系统的每个绘画区域沿第一方向的宽度,Pc为绘画区域沿第一方向的阵列节距,α和β为自然数。
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公开(公告)号:CN104253011A
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201410282724.X
申请日:2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3023 , H01J2237/31766
Abstract: 本发明涉及一种绘画装置和制造物品的方法。所述绘画装置用于利用带电粒子束在基板上执行绘画,包括:控制器,被配置为基于所述带电粒子束在所述基板上的多个位置中的每一个相对于与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置的位移的信息、以及与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置处的所述带电粒子束的目标剂量,来控制所述多个位置中的每一个处的所述带电粒子束的剂量。
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公开(公告)号:CN103365116A
公开(公告)日:2013-10-23
申请号:CN201310113921.4
申请日:2013-04-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G21K5/10 , H01J37/3026 , H01J37/304 , H01J37/317 , H01J37/3177 , H01J2237/30433 , H01J2237/31766
Abstract: 本公开内容涉及描绘设备、描绘方法和制造物品的方法。一种描绘设备基于构成描绘数据的多个描绘条带数据通过多个带电粒子射束执行与形成在基板上的压射区重叠的描绘。所述设备包括带电粒子光学系统和控制器,所述带电粒子光学系统被配置为产生多个带电粒子射束,所述控制器被配置为产生作为多个中间条带的数据的多个中间条带数据,所述多个中间条带中的相邻条带彼此重叠,获得关于压射区的变形的信息,并且基于关于变形的信息变换所述多个中间条带数据以产生所述多个描绘条带数据。
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