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公开(公告)号：CN100442435C
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200410083227.3
申请日：2004-09-29
Applicant: 株式会社日立高新技术 , 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/30 , G03F9/00
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3045 , H01J2237/2482
Abstract: 提供一种电子束描绘装置和电子束描绘方法，能够进行高精度吻合。该电子束描绘装置，具有：电子源；电子光学系统，该电子光学系统使从上述电子源发射的电子束在试样上照射和扫描，在上述试样上形成所希望的图形；安装上述试样的台；设置在上述台上的标记基板；发射照射上述标记基板的位置检测用的光束的单元，该单元在与上述电子束的照射方向同一侧；光检测单元，该单元在与发射上述光束的单元同一侧且接收被上述标记基板反射的反射光；以及电子检测单元，该单元在相对于上述标记基板与上述光检测单元相反的一侧，且接收通过上述电子束朝向上述标记基板的照射而得到的透射电子，且根据检测出的上述反射光和上述透射电子的信号，求出上述光束与上述电子束的相对的位置信息。
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公开(公告)号：CN104134605A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410169262.0
申请日：2014-04-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/3026 , H01J2237/31766
Abstract: 本发明提供一种绘制装置和物品的制造方法，所述绘制装置用于利用带电粒子束在基板上执行绘制，包括：台架，被配置为保持所述基板并且被移动；带电粒子光学系统，被配置为照射沿着第一轴排列的多个带电粒子束；以及控制器，被配置为控制绘制，以便利用所述多个带电粒子束对基板上的目标部分执行多次照射，其中，所述控制器被配置为控制绘制，使得相对于基板上沿着所述第一轴形成的多个区域所述台架沿着所述第一轴在一个方向上移动，并且相对于所述多个区域中的每一个上的绘制执行对于带电粒子束沿着所述第一轴的移位的带电粒子束的偏转。
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公开(公告)号：CN103295863A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310057029.9
申请日：2013-02-22
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J37/153
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/26 , H01J37/3045 , H01J37/3177
Abstract: 本发明涉及描绘设备以及制造物品的方法。一种利用多个带电粒子束在衬底上描绘图案的描绘设备包括：带电粒子光学系统，被配置为将多个带电粒子束发射到衬底上；以及控制器，被配置为控制带电粒子光学系统的操作。控制器被配置为控制所述操作以便补偿基于衬底的表面的起伏的第一数据和多个带电粒子束中的每一个带电粒子束相对于带电粒子光学系统的轴的倾斜的第二数据而确定的图案的畸变。
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公开(公告)号：CN103226292B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201310031183.9
申请日：2013-01-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01J37/317
CPC classification number: G03F7/20 , G03F7/203 , H01L21/268
Abstract: 本发明涉及一种描画方法和制造物品的方法。带电粒子束描画设备在多个第一线状图案上描画多个切割图案，所述多个第一线状图案被布置成沿着第一方向延伸，并且所述多个第一线状图案在垂直于第一方向的第二方向按预先确定的节距P对准。描画所述多个切割图案，以致在第二方向彼此相邻的每对切割图案的中心之间在第二方向的间隔Ai(i是指定切割图案对的编号)满足以下关系：Ai=m1X(m1=1,2,3,...)，其中X是通过节距P定义的尺寸。
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公开(公告)号：CN104253025A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201410282732.4
申请日：2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01J37/045 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435
Abstract: 公开了消隐装置、绘制装置和物品的制造方法。本发明提供一种消隐装置，该消隐装置包括：多个消隐器，被配置成相对于物体上的目标位置分别使多个射束消隐；和驱动设备，被配置成驱动多个消隐器，其中，驱动设备包括改变设备，该改变设备被配置成改变多个射束中的射束的组合和目标剂量之间的关系。
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公开(公告)号：CN100354757C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200410056333.2
申请日：2004-08-06
Applicant: 佳能株式会社 , 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/304 , H01J37/317
Abstract: 提供一种带电粒子束曝光装置和方法以及使用该装置的器件制造方法。该带电粒子束曝光装置使用多条带电粒子束对基板进行曝光，包括：计测上述多条带电粒子束的总电流值的第1计测单元；以及第2计测单元，包含与上述多条带电粒子束的各带电粒子束对应地配置的、把对应的各带电粒子束的电子进行倍增而计测上述各带电粒子束的电流相对值的多个检测器。
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公开(公告)号：CN1580955A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN200410056333.2
申请日：2004-08-06
Applicant: 佳能株式会社 , 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/304 , H01J37/317
Abstract: 提供一种带电粒子束曝光装置和方法以及使用该装置的器件制造方法。该带电粒子束曝光装置包括：使多条带电粒子束直接入射，计测其总电流的法拉第杯；以及具有使各带电粒子束直接入射、对入射电子进行倍增的功能，计测各带电粒子的电流的相对值的多检测器。
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公开(公告)号：CN104253011B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201410282724.X
申请日：2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3023 , H01J2237/31766
Abstract: 本发明涉及一种绘画装置和制造物品的方法。所述绘画装置用于利用带电粒子束在基板上执行绘画，包括：控制器，被配置为基于所述带电粒子束在所述基板上的多个位置中的每一个相对于与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置的位移的信息、以及与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置处的所述带电粒子束的目标剂量，来控制所述多个位置中的每一个处的所述带电粒子束的剂量。
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公开(公告)号：CN104253011A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201410282724.X
申请日：2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3023 , H01J2237/31766
Abstract: 本发明涉及一种绘画装置和制造物品的方法。所述绘画装置用于利用带电粒子束在基板上执行绘画，包括：控制器，被配置为基于所述带电粒子束在所述基板上的多个位置中的每一个相对于与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置的位移的信息、以及与所述多个位置中的每一个相对应的目标位置处的所述带电粒子束的目标剂量，来控制所述多个位置中的每一个处的所述带电粒子束的剂量。
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公开(公告)号：CN103365116A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310113921.4
申请日：2013-04-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G21K5/10 , H01J37/3026 , H01J37/304 , H01J37/317 , H01J37/3177 , H01J2237/30433 , H01J2237/31766
Abstract: 本公开内容涉及描绘设备、描绘方法和制造物品的方法。一种描绘设备基于构成描绘数据的多个描绘条带数据通过多个带电粒子射束执行与形成在基板上的压射区重叠的描绘。所述设备包括带电粒子光学系统和控制器，所述带电粒子光学系统被配置为产生多个带电粒子射束，所述控制器被配置为产生作为多个中间条带的数据的多个中间条带数据，所述多个中间条带中的相邻条带彼此重叠，获得关于压射区的变形的信息，并且基于关于变形的信息变换所述多个中间条带数据以产生所述多个描绘条带数据。
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