公开(公告)号：CN108345172A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201810064159.8

申请日：2018-01-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一 ,  簗濑优

IPC: G03F1/64

CPC classification number: G03F1/64 ,  C09J133/04

Abstract: 本发明的目的在于提供气泡混入少的粘合剂的成型方法和使用该成型方法的表膜构件的制造方法。氦气与现有的在大气开放下混入的空气、氮气相比，氦气分子的大小较小，氦气的脱泡性良好，因此，本发明的特征在于，使用在氦气气氛下调制的粘合剂来进行成型。并且，优选在该调制中包括保管、加压、搅拌或者脱泡中的任意几个工序。根据本发明，能抑制气泡混入粘合剂，因此能以高成品率制作粘合剂中气泡混入少的表膜构件。

公开(公告)号：CN108269735A

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：CN201711106323.9

申请日：2017-11-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/62 ,  G03F1/82

CPC classification number: C01B32/184 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/107 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/62 ,  Y10S977/734 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/892

Abstract: 本发明的目的在于提供用于得到石墨烯膜的有效的制造方法和对EUV光表现出高透射率的表膜构件的制造方法。本发明的特征在于，包括：准备设置在衬底上的石墨烯的工序；用保护膜覆盖石墨烯的工序；通过湿式蚀刻除去衬底的工序；以及使用表面张力比湿式蚀刻所使用的湿式蚀刻液小的溶剂将保护膜溶解而除去的工序。

公开(公告)号：CN107608175A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201710555994.7

申请日：2017-07-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优 ,  堀越淳

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/64

CPC classification number: G03F1/64 ,  C08F220/18 ,  C09J133/12 ,  C09J2433/00

Abstract: 提供：一种粘着剂，其基本上不包含表面改性剂，并且在薄膜组件分离后留下较少的残留物；一种薄膜组件；以及一种选择留下较少残留物的粘着剂的方法。更具体地说，提供：一种薄膜组件用粘着剂，该粘着剂的剥离强度与拉伸强度之比为0.10～0.33；一种薄膜组件，其包括薄膜组件框架、设置在所述薄膜组件框架的上端面上方的薄膜组件膜和粘附到所述薄膜组件框架的下端面的所述粘着剂；以及一种选择粘着剂的方法，包括以下步骤：测量粘着剂的剥离强度和拉伸强度，以及选择前者与后者之比为0.10至0.33的粘着剂作为所述薄膜组件用粘着剂。

公开(公告)号：CN109656095A

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201811175048.0

申请日：2018-10-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优

IPC: G03F1/64

Abstract: 本发明提供一种护层框架和护层。具体地，本发明提供一种护层框架，其特征在于，包括线性膨胀系数为10×10-6(1/K)以下且密度为4.6g/cm3以下的金属或合金，本发明还提供一种护层，其特征在于，包括所述护层框架作为元件。

公开(公告)号：CN109116676A

公开(公告)日：2019-01-01

申请号：CN201810641096.8

申请日：2018-06-21

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优

IPC: G03F1/62

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/62 ,  G03F1/80 ,  G03F7/70983

Abstract: 本发明涉及一种光刻用护层膜和护层。具体涉及这样的光刻用护层膜，其为在护层框的一个端面上方伸展的护层膜，并且特征在于，包括：聚合物膜、和在该聚合物膜的一侧或两侧上形成的不透气层；并且涉及设置有该护层膜的光刻用护层。

公开(公告)号：CN116179122A

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202310248085.4

申请日：2017-07-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优 ,  堀越淳

IPC: C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J133/12 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64

Abstract: 提供：一种粘着剂，其基本上不包含表面改性剂，并且在薄膜组件分离后留下较少的残留物；一种薄膜组件；以及一种选择留下较少残留物的粘着剂的方法。更具体地说，提供：一种薄膜组件用粘着剂，该粘着剂的剥离强度与拉伸强度之比为一种薄膜组件，其包括薄膜组件框架、设置在所述薄膜组件框架的上端面上方的薄膜组件膜和粘附到所述薄膜组件框架的下端面的所述粘着剂；以及一种选择粘着剂的方法，包括以下步骤：测量粘着剂的剥离强度和拉伸强度，以及选择前者与后者之比为0.10至0.33的粘着剂作为所述薄膜组件用粘着剂。

公开(公告)号：CN107608175B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201710555994.7

申请日：2017-07-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优 ,  堀越淳

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/64

Abstract: 提供：一种粘着剂，其基本上不包含表面改性剂，并且在薄膜组件分离后留下较少的残留物；一种薄膜组件；以及一种选择留下较少残留物的粘着剂的方法。更具体地说，提供：一种薄膜组件用粘着剂，该粘着剂的剥离强度与拉伸强度之比为0.10～0.33；一种薄膜组件，其包括薄膜组件框架、设置在所述薄膜组件框架的上端面上方的薄膜组件膜和粘附到所述薄膜组件框架的下端面的所述粘着剂；以及一种选择粘着剂的方法，包括以下步骤：测量粘着剂的剥离强度和拉伸强度，以及选择前者与后者之比为0.10至0.33的粘着剂作为所述薄膜组件用粘着剂。

公开(公告)号：CN109656096A

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201811175050.8

申请日：2018-10-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优

IPC: G03F1/64

Abstract: 本发明涉及一种护层框架、护层和剥离护层的方法。本发明的目的在于提供一种框架形状的护层框架，其具有上端面和下端面，所述上端面上配置有护层膜，所述下端面面对光掩模，其特征在于，从下端面的外侧面朝向内侧面设置有凹口部；包括护层框架作为元件的护层；以及用于从安装有护层的光掩模上剥离护层的方法，其特征在于，将剥离夹具从护层框架的侧面插入凹口部，并在这种状态下使剥离夹具在护层框架的上端面方向移动，以从光掩模上剥离护层。