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公开(公告)号：CN1361918A
公开(公告)日：2002-07-31
申请号：CN00810176.0
申请日：2000-06-13
Applicant: 光实验室股份公司
CPC classification number: B82Y10/00 , H01J9/025 , H01J61/067 , H01J63/04 , H01J2201/30469
Abstract: 一种生产用于一个光源、且包括至少一个带有一个场致发射表面的场致发射本体的场致发射阴极的方法,其中该方法包括改性所述发射表面,以便提供在在每个所述表面中的至少一个电场发射不规则体。该方法的不同之外在于,把至少一个激光束引入以成形本体并且同时接触场致发射表面,及由此提供对于本体表面的改性处理。本发明也涉及一种如此生产的场致发射阴极和一种包括这样一个场致发射阴极的光源。
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