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公开(公告)号：CN114674439A
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202011433400.3
申请日：2020-12-10
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/00
Abstract: 本发明公开了一种面源黑体装置及其制造方法，装置包括面源黑体，所述面源黑体包括呈矩阵排列的多个黑体单元，相邻的黑体单元之间通过凹凸结构进行拼接；解决现有技术中面源黑体口径较大导致原材料获取难、加工、安装难度大的问题；黑体单元采用凹凸结构进行拼接，解决了拼缝辐亮度不一致的问题。
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公开(公告)号：CN111006774B
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201911244111.6
申请日：2019-12-06
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本说明书提供一种测试采用MEMS工艺加工的定标黑体辐射源寿命的系统和方法，系统包括真空试验装置和高低温箱；真空试验装置包括真空试验箱、第一载物台、制冷机构和红外成像测温仪；第一载物台设置在真空试验箱的真空腔内；第一载物台上设置有第一电源接口；制冷机构的制冷部件用于使真空试验箱维持特定的低温环境；真空试验箱的箱体上开设有测量窗口；红外成像测温仪在设置在测量窗口处；高低温箱包括箱体和用于承载待测试的定标黑体辐射源第二载物台；第二载物台上设置有第二电源接口。因为前述系统能够模拟在轨星体工作环境，为定标黑体辐射源是否能够装载上星提供了有效的依据。
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公开(公告)号：CN110017900A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201810017158.8
申请日：2018-01-09
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种高低温红外成像系统检测装置，高低温红外成像系统检测装置包括平台支撑组件、目标黑体组件、背景黑体组件、靶标组件、高低温光学组件、第一消热差机构和第二消热差机构，目标黑体组件、背景黑体组件和靶标组件均可拆卸地设置在平台支撑组件上，目标黑体组件所产生的目标红外辐射和背景黑体组件所产生的背景红外辐射均通过靶标组件进入高低温光学组件以形成带有背景的红外目标，第一消热差机构用于保证靶标组件和次镜单元之间的距离不变，第二消热差机构用于保证次镜单元和主镜单元之间的距离不变。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中红外成像系统检测装置无法实现深空背景、复杂背景、宽温范围下的目标仿真测试的技术问题。
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公开(公告)号：CN105417491B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201510924564.9
申请日：2015-12-14
Applicant: 苏州诺联芯电子科技有限公司 , 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种定标黑体光源的制备方法，包括如下步骤：提供薄片衬底，并在衬底表面制作第一绝缘层；在第一绝缘层背离所述衬底的一侧的表面制作加热源，所述加热源具有可与外电路实现电性连接的引线区；在加热源背离第一绝缘层的一侧的表面制作第二绝缘层；在第一绝缘层或第二绝缘层背离衬底的一侧的表面制作温度传感器；使温度传感器与引线区背离所述衬底的一侧形成向外暴露以与外电路实现电性连接的引线通道；在第二绝缘层背离加热源的一侧的表面制作黑体薄膜。所述定标黑体光源升温、降温速度快，温度稳定时间仅需5‑10分钟，对于面积在5cm2的光源芯片，辐射温度达到500℃时，功耗仅在50W以下，并且体积小，易于集成在成像系统内部。
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公开(公告)号：CN103018010B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201210499382.8
申请日：2012-11-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 一种光源光谱调制装置，包括光源、第一汇聚光学单元、色散单元、数字微镜阵列、第二汇聚光学单元和均匀混光单元；其中，第一汇聚光学单元，汇聚光源的光辐射；色散单元，将经所述第一汇聚光学单元汇聚的光辐射色散成像；数字微镜阵列，位于所述色散单元的焦面处，通过对每个微小反射镜的翻转状态的控制从而对不同光谱位置和光谱带宽进行选择；第二汇聚光学单元，将经所述数字微镜阵列反射的光辐射再次汇聚使其进入均匀混光单元；均匀混光单元，将分离的单色光辐射再次混合重组。本发明通过对光源光谱重新分布，能够对光源的光谱分布特性进行更改，可以应用到光学仪器校准和仿真测试领域，该技术可以提升光学仪器的校准精度和仿真测试能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103017899B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210478694.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种汇聚摆镜，包括摆镜和旋转位移平台，其中，摆镜包括两块非反射面贴合的凹面反射镜，两块反射镜中心轴线重合，所述凹面反射镜曲面半径范围为50mm～5000mm，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm高反射膜，另一块反射面B镀60nm～200nm高反射膜，低于60nm光谱反射率较低。所述摆镜通过旋转位移平台进行平移和旋转运动。本发明可实现标准光源与待测光源的快速切换；并且可实现在光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中高级次光谱杂散辐射的有效滤除，减少测量误差，提升测量精度。
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公开(公告)号：CN107655833B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201710853728.2
申请日：2017-09-20
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及一种低导热率非导体材料高温半球发射率测量方法与系统。该方法利用材料常温、高温、法向、半球发射率的关系，通过测量常温半球发射率、常温法向发射率及高温法向发射率，导出材料高温半球发射率。测量系统包括常温半球发射率测量装置、常温法向发射率测量装置及高温法向发射率测量装置。本发明通过间接测量的方式，得出高温半球发射率，实现了低导热率非导体材料高温半球发射率测量途径，测量过程科学，结果准确可靠。
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公开(公告)号：CN110470400A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201810435108.1
申请日：2018-05-09
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/00
Abstract: 本发明涉及光学测试设备技术领域，公开了一种光谱辐射亮度响应度测量系统。该系统包括发出真空紫外光辐射的真空紫外光源、对入射的真空紫外光辐射进行分光处理后输出预定波长的光辐射的真空紫外单色分光装置、对输出的预定波长的光辐射进行均匀处理的真空紫外匀光装置、参考辐射亮度计、在参考辐射亮度计对准真空紫外匀光装置和待校准辐射计对准真空紫外匀光装置之间切换的切换装置、根据所述参考辐射亮度计和所述待校准辐射计分别测量得到的辐射亮度值计算所述待校准辐射计的光谱辐射亮度响应度控制器和提供真空环境的无油真空仓。由此，可以准确获得待校辐射计的光谱辐射亮度响应度。
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公开(公告)号：CN105562307B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201510965014.1
申请日：2015-12-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及一种辐射板、制备工艺及红外标准辐射装置，所述辐射板包括紫铜板基板和基板上喷涂的以掺杂6～10％碳纳米管的SiO2溶胶为底层，以掺杂6～10％碳纳米管的SiO2‑PbO溶胶为顶层的双层涂层；所述辐射板制备方法包括：1)将紫铜板表面加工成粗糙表面并喷砂；2)在紫铜板的粗糙表面上喷涂溶胶底层至完全覆盖紫铜板表面；3)在底层涂层的基础上喷涂顶层涂层，4)在常温下稳定24h；所述红外标准辐射装置使用所述辐射板。该装置具有较高的发射率、较好的温度均匀性和稳定性。
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公开(公告)号：CN107870049B
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201610851188.X
申请日：2016-09-26
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01K19/00
Abstract: 本发明实施例公开的一种高温热流传感器校准系统，涉及高温热流传感器校准技术，能够解决高温热流传感器动态响应特性的校准问题。包括：二氧化碳激光器，提供激光辐照热流激励；激光功率整型匀化衰减模块，用于激光器输出激光光斑整型匀化并进行功率衰减；激光分光光路，将激光光束分为两束，一路用于被校准热流传感器热流激励，另一路由红外光子型探测器接收；真空仓，提供真空校准环境；吸收补偿装置，补偿传感器表面激光辐射吸收；传感器校准夹具，固定被校准传感器；红外光子型探测器，用于实时检测记录激光辐照功率，该系统主要用于高温热流传感器校准。
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