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公开(公告)号：CN114397025B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202011128754.7
申请日：2020-10-22
Applicant: 中国兵器工业试验测试研究院 , 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/53
Abstract: 本发明公开了一种用于外场目标特性校准的标准辐射源，包括：石墨腔、支撑端和温控装置；石墨腔的一端为辐射出口，且所述石墨腔内设置有腔底；支撑端包括固定端和滑动端，所述固定端设置在所述石墨腔外远离所述辐射出口的一端，所述滑动端设置在所述石墨腔外靠近所述辐射出口的一端且可沿所述石墨腔的轴向滑动；温控装置与所述石墨腔配合设置；滑动端的设置，可在石墨腔高温膨胀时消除热膨胀应力，确保石墨腔的性能稳定，提高发射率，保证外场工作时的发射准确性和稳定性。
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公开(公告)号：CN111006774B
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201911244111.6
申请日：2019-12-06
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本说明书提供一种测试采用MEMS工艺加工的定标黑体辐射源寿命的系统和方法，系统包括真空试验装置和高低温箱；真空试验装置包括真空试验箱、第一载物台、制冷机构和红外成像测温仪；第一载物台设置在真空试验箱的真空腔内；第一载物台上设置有第一电源接口；制冷机构的制冷部件用于使真空试验箱维持特定的低温环境；真空试验箱的箱体上开设有测量窗口；红外成像测温仪在设置在测量窗口处；高低温箱包括箱体和用于承载待测试的定标黑体辐射源第二载物台；第二载物台上设置有第二电源接口。因为前述系统能够模拟在轨星体工作环境，为定标黑体辐射源是否能够装载上星提供了有效的依据。
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公开(公告)号：CN110470385A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201810435084.X
申请日：2018-05-09
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及光学测试技术领域，公开了一种光阑式真空紫外辐射亮度计。其中，该亮度计包括依次设置在光路中的光阑、探测器、放大器和采集器，所述光阑用于获取待测光源发出的待测光的光辐射，所述探测器用于对所述光辐射进行光电转换后输出电信号，所述放大器用于对所述电信号进行放大，所述采集器用于对放大后的电信号进行采集，并根据采集的电信号计算待测光的光谱辐射亮度值。由此，能够获取例如真空紫外光源的光谱辐射亮度值，为真空紫外空间载荷的地面标定提供准确的输入量值。
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公开(公告)号：CN105371992B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201510929982.7
申请日：2015-12-15
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01K15/00
Abstract: 本发明涉及一种温度传感器响应一致性标定测试系统，包括：大功率二氧化碳激光器1、导光管2、光学反射金属碗3、光学平面反射镜4、测试平台机构5、真空仓6和待标定温度传感器7，所述真空仓6置于所述测试平台机构5上，所述真空仓6中设置有光学反射金属碗3、光学平面反射镜4及待标定温度传感器7，所述大功率二氧化碳激光器1与导光管2连接。本发明保证了对待测温度传感器的温度响应曲线的输入变量保持一致，进而绘制的温度响应曲线只收温度传感器本身的特性影响，排除了外界环境对其的影响。
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公开(公告)号：CN105371992A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510929982.7
申请日：2015-12-15
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01K15/00
CPC classification number: G01K15/005
Abstract: 本发明涉及一种温度传感器响应一致性标定测试系统，包括：大功率二氧化碳激光器1、导光管2、光学反射金属碗3、光学平面反射镜4、测试平台机构5、真空仓6和待标定温度传感器7，所述真空仓6置于所述测试平台机构5上，所述真空仓6中设置有光学反射金属碗3、光学平面反射镜4及待标定温度传感器7，所述大功率二氧化碳激光器1与导光管2连接。本发明保证了对待测温度传感器的温度响应曲线的输入变量保持一致，进而绘制的温度响应曲线只收温度传感器本身的特性影响，排除了外界环境对其的影响。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103018010B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201210499382.8
申请日：2012-11-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 一种光源光谱调制装置，包括光源、第一汇聚光学单元、色散单元、数字微镜阵列、第二汇聚光学单元和均匀混光单元；其中，第一汇聚光学单元，汇聚光源的光辐射；色散单元，将经所述第一汇聚光学单元汇聚的光辐射色散成像；数字微镜阵列，位于所述色散单元的焦面处，通过对每个微小反射镜的翻转状态的控制从而对不同光谱位置和光谱带宽进行选择；第二汇聚光学单元，将经所述数字微镜阵列反射的光辐射再次汇聚使其进入均匀混光单元；均匀混光单元，将分离的单色光辐射再次混合重组。本发明通过对光源光谱重新分布，能够对光源的光谱分布特性进行更改，可以应用到光学仪器校准和仿真测试领域，该技术可以提升光学仪器的校准精度和仿真测试能力。
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公开(公告)号：CN103148939B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201310062603.X
申请日：2013-02-28
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明涉及光学测试技术领域，具体的讲是一种抑制二级光谱的紫外光谱测量方法及系统，其中包括当进行110nm-200nm波段的紫外光谱测量时，将真空仓抽真空，紫外辐射透过所述真空仓的氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述氟化镁窗口用于吸收波段在110nm以下的紫外辐射；当进行200nm-400nm波段的紫外光谱测量时，向所述真空仓中注入气体，所述紫外辐射通过所述真空仓中的空气和所述氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述空气吸收波段在200nm以下的紫外辐射。通过本发明的实施例，在紫外光谱测量时光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中，将二级光谱的杂散辐射有效滤除，减少测量误差，提升测量精度。
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公开(公告)号：CN103017899B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210478694.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种汇聚摆镜，包括摆镜和旋转位移平台，其中，摆镜包括两块非反射面贴合的凹面反射镜，两块反射镜中心轴线重合，所述凹面反射镜曲面半径范围为50mm～5000mm，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm高反射膜，另一块反射面B镀60nm～200nm高反射膜，低于60nm光谱反射率较低。所述摆镜通过旋转位移平台进行平移和旋转运动。本发明可实现标准光源与待测光源的快速切换；并且可实现在光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中高级次光谱杂散辐射的有效滤除，减少测量误差，提升测量精度。
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公开(公告)号：CN103175677A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201310065833.1
申请日：2013-03-04
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及紫外光参数校准技术领域，具体的讲是一种紫外多参数校准装置，旋转平台内置于所述真空仓内，单色仪与真空仓相连接，紫外探测器通过单色仪测量真空仓内的紫外光源的辐射，或者紫外光源通过单色仪向真空仓提供紫外光源的辐射；标准紫外光源，待校准光源，标准紫外探测器，待校准探测器，紫外成像器和紫外成像参数校准系统均置于所述旋转平台之上，所述旋转平台根据控制信号沿着所述旋转平台的圆心旋转，其中，所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于同一光路。通过上述实施例，能够在一个共用校准装置上实现紫外光源光谱辐射度校准、紫外探测器光谱响应度和紫外成像器参数的校准，节省了试验成本，提高了试验效率。
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公开(公告)号：CN103148939A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310062603.X
申请日：2013-02-28
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明涉及光学测试技术领域，具体的讲是一种抑制二级光谱的紫外光谱测量方法及系统，其中包括当进行110nm-200nm波段的紫外光谱测量时，将真空仓抽真空，紫外辐射透过所述真空仓的氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述氟化镁窗口用于吸收波段在110nm以下的紫外辐射；当进行200nm-400nm波段的紫外光谱测量时，向所述真空仓中注入气体，所述紫外辐射通过所述真空仓中的空气和所述氟化镁窗口进入到检测设备，其中所述空气吸收波段在200nm以下的紫外辐射。通过本发明的实施例，在紫外光谱测量时光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中，将二级光谱的杂散辐射有效滤除，减少测量误差，提升测量精度。
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