公开(公告)号：CN103229248A

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN201180056893.6

申请日：2011-09-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： R.弗赖曼 ,  N.贝尔 ,  G.林巴赫 ,  T.贝姆 ,  G.威蒂克

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061

Abstract: 本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%，以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’)，其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成，其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层，该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’)，其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外，本发明涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B)，用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm rms HSFR，和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%，及/或作为阻挡层，用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。

公开(公告)号：CN103229248B

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201180056893.6

申请日：2011-09-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： R.弗赖曼 ,  N.贝尔 ,  G.林巴赫 ,  T.贝姆 ,  G.威蒂克

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061

Abstract: 本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%，以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’)，其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成，其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层，该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’)，其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外，本发明涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B)，用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm rms HSFR，和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%，及/或作为阻挡层，用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。