公开(公告)号：CN105723282A

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201480062219.2

申请日：2014-08-18

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.贝克尔 ,  U.米勒 ,  O.阿普

IPC: G03F7/20 ,  B08B7/00 ,  B24C1/00 ,  B24C7/00 ,  B24C11/00 ,  C01B31/22 ,  G01N21/88 ,  G21K1/06 ,  H01J65/04 ,  H05G2/00 ,  G02B27/00 ,  G01N21/94

CPC classification number: B08B7/0092 ,  B08B5/04 ,  B24C1/003 ,  B24C7/0053 ,  C01B32/55 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/94 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70975 ,  H01J65/048 ,  H05G2/001

Abstract: 本发明涉及光学组件，尤其是等离子体光源(1′)或EUV光刻系统，包含：壳体(2)，其包围内壳空间(3)；真空生成单元，用于在上述壳体(2)中产生真空；至少一个表面(13)，布置在所述内壳空间(3)中；清洁装置(15)，用于移除沉积在所述表面(13)上的污染物质(14)；以及观察装置(25)，用于观察所述表面(13)，其中，所述观察装置(25)具有能够朝着所述表面(13)取向的观察光学单元(26)。所述清洁装置(15)设计为通过释放CO2颗粒(17)形式的CO2移除沉积的污染物质(14)。

公开(公告)号：CN105723282B

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201480062219.2

申请日：2014-08-18

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.贝克尔 ,  U.米勒 ,  O.阿普

IPC: G03F7/20 ,  B08B7/00 ,  B24C1/00 ,  B24C7/00 ,  B24C11/00 ,  C01B32/55 ,  G01N21/88 ,  G21K1/06 ,  H01J65/04 ,  H05G2/00 ,  G02B27/00 ,  G01N21/94

Abstract: 本发明涉及光学组件，尤其是等离子体光源(1′)或EUV光刻系统，包含：壳体(2)，其包围内壳空间(3)；真空生成单元，用于在上述壳体(2)中产生真空；至少一个表面(13)，布置在所述内壳空间(3)中；清洁装置(15)，用于移除沉积在所述表面(13)上的污染物质(14)；以及观察装置(25)，用于观察所述表面(13)，其中，所述观察装置(25)具有能够朝着所述表面(13)取向的观察光学单元(26)。所述清洁装置(15)设计为通过释放CO2颗粒(17)形式的CO2移除沉积的污染物质(14)。