公开(公告)号：CN109477708B

公开(公告)日：2021-11-09

申请号：CN201780041670.X

申请日：2017-06-27

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.维格曼

IPC: G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G01M11/02 ,  G03F7/20 ,  G01J9/02

Abstract: 构造一种用于干涉地测量光学成像系统的成像质量的测量方法及测量系统，通过相关联结构载体的测量结构的适配的设计，来在成像系统上执行波前测量，成像系统在第一方向上具有第一成像比例β1且在与该第一方向垂直的第二方向上具有第二成像比例β2，该第二成像比例以不等于1的比例率(β1/β2)与该第一成像比例不同(变形成像系统)。要配置在该成像系统的物侧上的第一结构载体上的第一测量结构(MS1)具有二维掩模结构，其适合用来塑造测量辐射的相干性。要配置在该成像系统的像侧上的第二结构载体上的第二测量结构(MS2)具有衍射光栅。该第一和该第二测量结构考虑到该比例率而彼此适配，使得在借助于该变形成像系统将该第一测量结构(MS1)成像至该第二测量结构(MS2)上时生成干涉图案。

公开(公告)号：CN109477708A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780041670.X

申请日：2017-06-27

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.维格曼

IPC: G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G01M11/02 ,  G03F7/20 ,  G01J9/02

CPC classification number: G01M11/0264 ,  G01J9/0215 ,  G01J2009/0219 ,  G01M11/0271 ,  G03F7/706

Abstract: 构造一种用于干涉地测量光学成像系统的成像质量的测量方法及测量系统，通过相关联结构载体的测量结构的适配的设计，来在成像系统上执行波前测量，成像系统在第一方向上具有第一成像比例β1且在与该第一方向垂直的第二方向上具有第二成像比例β2，该第二成像比例以不等于1的比例率(β1/β2)与该第一成像比例不同(变形成像系统)。要配置在该成像系统的物侧上的第一结构载体上的第一测量结构(MS1)具有二维掩模结构，其适合用来塑造测量辐射的相干性。要配置在该成像系统的像侧上的第二结构载体上的第二测量结构(MS2)具有衍射光栅。该第一和该第二测量结构考虑到该比例率而彼此适配，使得在借助于该变形成像系统将该第一测量结构(MS1)成像至该第二测量结构(MS2)上时生成干涉图案。