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公开(公告)号：CN1523448A
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN200410001918.4
申请日：2004-01-15
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 谢尔曼·K·波尔特尼
CPC classification number: G01J9/0215 , G01J2009/0219 , G02B5/1838 , G03F7/70591 , G03F7/706 , G03F7/7085
Abstract: 一个波阵面测量系统，包括一个电磁射线源。一个成像系统将所述电磁射线均匀照在一个物平面上。一个第一光栅被置于所述物平面内以调节到达一个投射系统的所述入射光孔的射线。一个投射光学系统将所述第一光栅的一个像投射到所述焦平面上。一个第二光栅被置于所述焦平面以接收所述物平面的一个衍射像从而构成一个切变干涉仪。一个CCD检测器接收通过所述投射光学系统及所述第二光栅的该投射光学系统的所述光孔的所述像，若在所述投射光学系统中有色差则该像形成一个条纹图案。条纹图案的相移读出可以通过在一个横向方向上步进所述第一光栅并用所述CCD检测器读取每一帧来实现。
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公开(公告)号：CN109477708A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780041670.X
申请日：2017-06-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： U.维格曼
CPC classification number: G01M11/0264 , G01J9/0215 , G01J2009/0219 , G01M11/0271 , G03F7/706
Abstract: 构造一种用于干涉地测量光学成像系统的成像质量的测量方法及测量系统，通过相关联结构载体的测量结构的适配的设计，来在成像系统上执行波前测量，成像系统在第一方向上具有第一成像比例β1且在与该第一方向垂直的第二方向上具有第二成像比例β2，该第二成像比例以不等于1的比例率(β1/β2)与该第一成像比例不同(变形成像系统)。要配置在该成像系统的物侧上的第一结构载体上的第一测量结构(MS1)具有二维掩模结构，其适合用来塑造测量辐射的相干性。要配置在该成像系统的像侧上的第二结构载体上的第二测量结构(MS2)具有衍射光栅。该第一和该第二测量结构考虑到该比例率而彼此适配，使得在借助于该变形成像系统将该第一测量结构(MS1)成像至该第二测量结构(MS2)上时生成干涉图案。
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公开(公告)号：CN100476586C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200410001918.4
申请日：2004-01-15
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 谢尔曼·K·波尔特尼
CPC classification number: G01J9/0215 , G01J2009/0219 , G02B5/1838 , G03F7/70591 , G03F7/706 , G03F7/7085
Abstract: 一个波阵面测量系统，包括一个电磁射线源。一个成像系统将所述电磁射线均匀照在一个物平面上。一个第一光栅被置于所述物平面内以调节到达一个投射系统的所述入射光孔的射线。一个投射光学系统将所述第一光栅的一个像投射到所述焦平面上。一个第二光栅被置于所述焦平面以接收所述物平面的一个衍射像从而构成一个切变干涉仪。一个CCD检测器接收通过所述投射光学系统及所述第二光栅的该投射光学系统的所述光孔的所述像，若在所述投射光学系统中有色差则该像形成一个条纹图案。条纹图案的相移读出可以通过在一个横向方向上步进所述第一光栅并用所述CCD检测器读取每一帧来实现。
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公开(公告)号：CN103868596B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201410060561.0
申请日：2014-02-21
Applicant: 中国科学院光电研究院
CPC classification number: G01N21/45 , G01J9/02 , G01J2009/0219
Abstract: 本发明公开了一种大孔径空间外差干涉光谱成像方法及光谱仪，其中，所述方法包括：复合光经分束器后一部分被反射得到反射光，另一部分被透射得到透射光；反射光经反射镜组以及闪耀光栅组后再次经分束器反射到达成像镜，透射光沿着与反射光相反的光路经反射镜组以及闪耀光栅组后到达成像镜，其中，闪耀光栅组包括平行设置的第一闪耀光栅和第二闪耀光栅，入射闪耀光栅组的复合光被衍射成多束相互平行的出射光，且多束出射光与入射光平行；成像镜上得到具有横向剪切量的干涉光，从而在探测器得到干涉信息。加入一对平行的闪耀光栅实现外差的特性，实现采样点数减少以及信噪比提高。
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公开(公告)号：CN103868596A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201410060561.0
申请日：2014-02-21
Applicant: 中国科学院光电研究院
CPC classification number: G01N21/45 , G01J9/02 , G01J2009/0219
Abstract: 本发明公开了一种大孔径空间外差干涉光谱成像方法及光谱仪，其中，所述方法包括：复合光经分束器后一部分被反射得到反射光，另一部分被透射得到透射光；反射光经反射镜组以及闪耀光栅组后再次经分束器反射到达成像镜，透射光沿着与反射光相反的光路经反射镜组以及闪耀光栅组后到达成像镜，其中，闪耀光栅组包括平行设置的第一闪耀光栅和第二闪耀光栅，入射闪耀光栅组的复合光被衍射成多束相互平行的出射光，且多束出射光与入射光平行；成像镜上得到具有横向剪切量的干涉光，从而在探测器得到干涉信息。加入一对平行的闪耀光栅实现外差的特性，实现采样点数减少以及信噪比提高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：US09913579B2
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：US14899559
申请日：2014-06-20
Applicant: Cylite Pty Ltd
Inventor： Steven James Frisken , Grant Andrew Frisken
IPC: A61B3/10 , A61B3/00 , G01B9/02 , G01J9/02 , A61B3/117 , A61B3/107 , A61B3/14 , G02B27/10 , G02B27/28 , G02C7/02
CPC classification number: A61B3/1015 , A61B3/0025 , A61B3/1025 , A61B3/107 , A61B3/117 , A61B3/14 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02041 , G01B9/02044 , G01B9/02091 , G01B2290/70 , G01J9/02 , G01J2009/0219 , G01J2009/0238 , G02B27/1013 , G02B27/283 , G02C7/027 , G02C2202/24
Abstract: Method and systems are presented for analyzing a wavefront using a spectral wavefront analyzer to extract optical phase and spectral information at a two dimensional array of sampling points across the wavefront, wherein the relative phase information between the sampling points is maintained. Methods and systems are also presented for measuring an eye by reflecting a wavefront of an eye and measuring the wavefront at a plurality of angles to provide a map of the off-axis relative wavefront curvature and aberration of the eye. The phase accuracy between wavelengths and sample points over a beam aperture offered by these methods and systems have a number of ocular applications including corneal and anterior eye tomography, high resolution retinal imaging, and wavefront analysis as a function of probe beam incident angle for determining myopia progression and for designing and testing lenses for correcting myopia.
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公开(公告)号：US07602503B2
公开(公告)日：2009-10-13
申请号：US11708618
申请日：2007-02-21
Applicant: Sherman K. Poultney
Inventor： Sherman K. Poultney
IPC: G01B9/02
CPC classification number: G01J9/0215 , G01J2009/0219 , G02B5/1838 , G03F7/70591 , G03F7/706 , G03F7/7085
Abstract: A method for measuring a wavefront of an optical system. A first step of the method includes directing electromagnetic radiation uniformly at an object plane having a first grating positioned therein. Lines of the first grating comprise a plurality of dots. A second step of the method includes projecting an image of the first grating onto a focal plane having a second grating positioned therein. A third step of the method includes measuring the wavefront of the optical system based on a fringe pattern produced by the second grating.
Abstract translation: 一种用于测量光学系统的波前的方法。 该方法的第一步包括将电磁辐射均匀地引导到具有位于其中的第一光栅的物平面。 第一光栅的线包括多个点。 该方法的第二步骤包括将第一光栅的图像投影到具有定位在其中的第二光栅的焦平面上。 该方法的第三步骤包括基于由第二光栅产生的条纹图案来测量光学系统的波前。
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8.发明公开Wavelength shift measuring apparatus, optical source apparatus, interference measuring apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method 审中-公开Wellenlängenverschiebungsmessvorrichtung，optische Quellenvorrichtung，Störungsmessvorrichtung，Belichtungsvorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
公开(公告)号：EP2180301A2
公开(公告)日：2010-04-28
申请号：EP09173968.0
申请日：2009-10-23
Applicant: Canon Kabushiki Kaisha
Inventor： Ishizuka, Ko
IPC: G01J9/02
CPC classification number: G01J9/0246 , G01J2009/0219 , G01J2009/0261 , G03F7/70775
Abstract: A wavelength shift measuring apparatus of the present invention is a wavelength shift detector (WLCD1) which measures a shift of a wavelength of a light beam emitted from a light source, and includes a beam splitter (BS2) splitting the light beam emitted from the light source into a plurality of light beams and to synthesize two light beams among the plurality of light beams to generate an interference light, a spacer member (SP) provided so that an optical path length difference of the two light beams split by the beam splitter (PBS2) is constant, and a plurality of photoelectric sensors (PD) detecting the interference light generated by the beam splitter (BS2). The plurality of photoelectric sensors (PD) output a plurality of interference signals having phases shifted from one another based on the interference light to measure a wavelength shift using the plurality of interference signals.
Abstract translation: 本发明的波长偏移测量装置是测量从光源发射的光束的波长偏移的波长偏移检测器（WLCD1），并且包括分离从光发射的光束的分束器（BS2） 源多个光束并且在多个光束中合成两个光束以产生干涉光;隔离部件（SP），其被设置成使得由分束器分离的两个光束的光程长度差 PBS2）和多个光电传感器（PD），用于检测由分束器（BS2）产生的干涉光。 多个光电传感器（PD）基于干涉光输出具有彼此相移的多个干涉信号，以使用多个干涉信号测量波长偏移。
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9.发明公开
公开(公告)号：EP3011288A4
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：EP14813615
申请日：2014-06-20
Applicant: CYLITE PTY LTD
Inventor： FRISKEN STEVEN JAMES , FRISKEN GRANT ANDREW
IPC: G01B9/02 , A61B3/00 , A61B3/10 , A61B3/107 , A61B3/117 , A61B3/14 , G01J9/02 , G02B27/10 , G02B27/28 , G02C7/02
CPC classification number: A61B3/1015 , A61B3/0025 , A61B3/1025 , A61B3/107 , A61B3/117 , A61B3/14 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02041 , G01B9/02044 , G01B9/02091 , G01B2290/70 , G01J9/02 , G01J2009/0219 , G01J2009/0238 , G02B27/1013 , G02B27/283 , G02C7/027 , G02C2202/24
Abstract: Method and systems are presented for analyzing a wavefront using a spectral wavefront analyzer to extract optical phase and spectral information at a two dimensional array of sampling points across the wavefront, wherein the relative phase information between the sampling points is maintained. Methods and systems are also presented for measuring an eye by reflecting a wavefront of an eye and measuring the wavefront at a plurality of angles to provide a map of the off-axis relative wavefront curvature and aberration of the eye. The phase accuracy between wavelengths and sample points over a beam aperture offered by these methods and systems have a number of ocular applications including corneal and anterior eye tomography, high resolution retinal imaging, and wavefront analysis as a function of probe beam incident angle for determining myopia progression and for designing and testing lenses for correcting myopia.
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10.发明公开Interferometer and phase shift amount measuring apparatus 审中-公开干涉仪和Phasenverschiebungsmessvorrichtung
公开(公告)号：EP2899495A1
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：EP14197869.2
申请日：2014-12-15
Applicant: Lasertec Corporation
Inventor： Kusunose, Haruhiko , Takehisa, Kiwamu
CPC classification number: G01J9/02 , G01B9/02041 , G01B9/02049 , G01B9/02098 , G01B2290/30 , G01J9/0215 , G01J2009/0219 , G01N21/45 , G03F1/26 , G03F1/84
Abstract: The present invention is directed to the provision of an interferometer and a phase shift amount measuring apparatus that can precisely operate in the EUV region. The interferometer according to the invention comprises an illumination source for generating an illumination beam, an illumination system for projecting the illumination beam emitted from the illumination source onto a sample, and an imaging system for directing the reflected beam by the sample onto a detector. The illumination system includes a first diffraction grating for producing a first and second diffraction beams which respectively illuminate two areas on the sample where are shifted from each other by a given distance, and the imaging system includes a second grating for diffracting the first and second diffraction beams reflected by the sample to produce a third and fourth diffraction beams which are shifted from each other by a given distance.
Abstract translation: 本发明旨在提供一种能够在EUV区域中精确地操作的干涉仪和相移量测量装置。 根据本发明的干涉仪包括用于产生照明光束的照明源，用于将从照明源发射的照射光束投射到样本上的照明系统，以及用于将样品的反射光束引导到检测器上的成像系统。 照明系统包括：第一衍射光栅，用于产生第一和第二衍射光束，其分别照射样品上彼此偏移给定距离的两个区域，并且成像系统包括用于衍射第一和第二衍射的第二光栅 由样品反射的光束以产生彼此偏移给定距离的第三和第四衍射光束。
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