公开(公告)号：CN105745580B

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201480063069.7

申请日：2014-11-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.德冈瑟 ,  V.戴维登科 ,  T.科布 ,  F.施莱塞纳 ,  S.希尔特 ,  W.霍格勒

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包含：光瞳形成单元(36)，其引导光至空间光调制器(52)上，该空间光调制器以空间解析方式透射或反射照射光。物镜(58)，将该空间光调制器(52)的光离开表面(57)成像于光学积分器(60)的光进入分面(75)上，如此该光离开表面(57)上物体区域(110)的像(110')与所述光进入分面中的一个光进入分面完全重合。该光瞳形成单元(36)以及该空间光调制器(52)受到控制，使得该物体区域(110)由该光瞳形成单元(36)完全照明，并且至少部分且可变地防止与所述物体区域(110)中的点关联的投射光照射至所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面上。

公开(公告)号：CN105745580A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201480063069.7

申请日：2014-11-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.德冈瑟 ,  V.戴维登科 ,  T.科布 ,  F.施莱塞纳 ,  S.希尔特 ,  W.霍格勒

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包含：光瞳形成单元(36)，其引导光至空间光调制器(52)上，该空间光调制器以空间解析方式透射或反射照射光。物镜(58)，将该空间光调制器(52)的光离开表面(57)成像于光学积分器(60)的光进入分面(75)上，如此该光离开表面(57)上物体区域(110)的像(110')与所述光进入分面中的一个光进入分面完全重合。该光瞳形成单元(36)以及该空间光调制器(52)受到控制，使得该物体区域(110)由该光瞳形成单元(36)完全照明，并且至少部分且可变地防止与所述物体区域(110)中的点关联的投射光照射至所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面上。