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公开(公告)号：CN107003616B
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN201580064789.X
申请日：2015-04-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明关于一种写入至基板晶片(300)的光刻设备(100)，其包含：光产生装置(110)，包含产生光的一个或多个光源(111、112、113)；光传递装置(120)，包含将来自光产生装置(110)的光传递至写入装置(140)的多个光波导(121i‑121N)；写入装置(140)，包含多个单独可控的写入头(200i，j)，用于将来自一个或多个光源(111、112、113)的光投射在基板晶片(300)的不同区域；传输装置(150)，在预定传输方向(x)上相对写入装置(140)移动基板晶片(300)；以及控制装置(170)，控制在基板晶片(300)上的写入程序。
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公开(公告)号：CN106030412B
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201580009193.X
申请日：2015-02-10
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻投影曝光设备(12)的照明系统，其包括设置成产生光脉冲(42‑1至42‑3；42‑1,42‑2,52‑1,52‑2)序列的光源(LS；LS1,LS2)。该照明系统另外包括能够在两个切换位置之间进行数字切换的光学元件(32)的阵列(28)。控制器(34)这样控制光学元件(32)，使得这些光学元件仅在两个彼此相继的光脉冲之间改变它们的切换位置并且在光脉冲期间保持它们的切换位置。
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公开(公告)号：CN109212896A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201810729197.0
申请日：2018-07-05
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F1/84
Abstract: 本发明关于特征化微光刻的掩模的方法及装置。在根据本发明的方法中，预期用于微光刻投射曝光设备中的光刻工艺的掩模的结构由照明光学单元(610)照明，其中掩模(621)由成像光学单元(630)成像在检测器单元(640)上，其中由检测器单元(640)所记录的图像数据在评估单元(650)中被评估。在此情况下，为模拟针对在微光刻投射曝光设备中的光刻工艺所预定义的照明设定，在多个单独成像中进行掩模(621)到检测器单元(640)上的成像，其中多个单独成像在照明光学单元(610)中所设定的照明设定方面彼此不同或在成像光学单元(630)中所设定的偏振影响效应方面彼此不同。
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公开(公告)号：CN104769501A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380057059.8
申请日：2013-10-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70033 , G01B11/14 , G01M11/005 , G02B26/0833 , G02B27/62 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/7085
Abstract: 一种光学系统，包括：反射镜系统(19)，包括多个反射镜元件(23)，其中，所述反射镜元件的取向可以独立于彼此设定；以及监视系统(52)，构造成确定所述反射镜元件(23)的取向。所述监视系统包括：监视辐射源(57)，构造成以具有多个不同波长的光(55)照明所述多个反射镜元件；监视透镜(59)，具有物平面(61)、像平面(63)以及布置在所述物平面和所述像平面之间的光瞳平面(77)；滤色器(78)，在不同位置处具有彼此不同的依赖于波长的透射属性；以及空间解析和波长解析光检测器(67)，具有检测区(65)；其中，所述反射镜元件(23)布置在所述监视透镜(59)的物平面(61)的区域中；其中，所述光检测器(67)的检测区(65)布置在所述监视透镜(59)的像平面(63)的区域中；以及其中，所述滤色器(78)布置在所述监视透镜(59)的光瞳平面(77)的区域中。
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公开(公告)号：CN102301281B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201080005865.7
申请日：2010-01-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： A.肖尔茨 , F.施莱森纳 , N.哈弗坎普 , V.戴维登科 , M.格哈德 , G-W.齐格勒 , M.克恩 , T.比肖夫 , T.斯塔姆勒 , S.凯尔纳 , M.莫尔 , D.沃尔多夫 , I.休雷维科 , M.德冈瑟
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
Abstract: 一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置(12)具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件(24)。第一光栅布置(12)用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传输叠加到照明场中。传输透镜具有第二光栅布置(15)，第二光栅布置(15)具有成束第二光栅元件(26)。第一光栅布置(12)的每个光栅元件(24)被与第二光栅布置(15)的光栅元件(26)之一相关，用于引导照明光的整个光束的部分光束(25)。例如，第一光栅布置(12)具有至少两个类型(I、II、III)的第一光栅元件(24)，它们具有不同的束影响效果。两个光栅布置(12、15)的光栅元件(24、26)相对于彼此布置，使得每个光栅元件类型(I至III)与至少一个单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)相关，所述单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)在此类型(I至III)的光栅元件(24)与第二光栅布置(15)的所相关的光栅元件(26)之间。结果是一种照明系统，利用该照明系统，可以影响特定的照明参数，从而最大可能地避免了对其它照明参数的不期望的影响。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102859440A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201080066365.4
申请日：2010-12-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70158 , G03F7/70058
Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，其包含：光源(30)，其构造为产生投射光束(34)；及第一和第二衍射光学元件(42、44；242、244)，其布置在所述光源(30)和光瞳平面(84)之间。由每个衍射光学元件产生的衍射效应取决于光场(110)的位置，该光场被所述投射光束(34)辐射在所述衍射光学元件(42、44；242、244)上。位移机械装置(54、64)改变所述衍射光学元件的相互空间布置。在可借助所述位移机械装置(54、64)而获得的相互空间布置的至少一个中，所述光场(110)在所述第一和所述第二衍射光学元件(42、44；242、244)二者上延伸。这使得可以简单的方式连续产生可变的照明设定。
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公开(公告)号：CN111936933B
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN201880085830.5
申请日：2018-11-26
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M.德冈瑟
Abstract: 本发明涉及投射光刻系统的光学系统，掩模母版上的投射光学系统的照明辐射的角度空间在第一方向上是照明光学单元的照明辐射的角度空间的两倍。
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公开(公告)号：CN109212896B
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN201810729197.0
申请日：2018-07-05
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F1/84
Abstract: 本发明关于特征化微光刻的掩模的方法及装置。在根据本发明的方法中，预期用于微光刻投射曝光设备中的光刻工艺的掩模的结构由照明光学单元(610)照明，其中掩模(621)由成像光学单元(630)成像在检测器单元(640)上，其中由检测器单元(640)所记录的图像数据在评估单元(650)中被评估。在此情况下，为模拟针对在微光刻投射曝光设备中的光刻工艺所预定义的照明设定，在多个单独成像中进行掩模(621)到检测器单元(640)上的成像，其中多个单独成像在照明光学单元(610)中所设定的照明设定方面彼此不同或在成像光学单元(630)中所设定的偏振影响效应方面彼此不同。
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公开(公告)号：CN105745580B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201480063069.7
申请日：2014-11-13
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70058 , G02B26/0833 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/70425
Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包含：光瞳形成单元(36)，其引导光至空间光调制器(52)上，该空间光调制器以空间解析方式透射或反射照射光。物镜(58)，将该空间光调制器(52)的光离开表面(57)成像于光学积分器(60)的光进入分面(75)上，如此该光离开表面(57)上物体区域(110)的像(110')与所述光进入分面中的一个光进入分面完全重合。该光瞳形成单元(36)以及该空间光调制器(52)受到控制，使得该物体区域(110)由该光瞳形成单元(36)完全照明，并且至少部分且可变地防止与所述物体区域(110)中的点关联的投射光照射至所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面上。
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公开(公告)号：CN106605175A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201580045812.0
申请日：2015-08-19
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种投射光刻的照明光学单元的分面反射镜(11)，包含多个使用分面(12)，其每个反射照明光部分光束。分面反射镜(11)具有至少一个变化子单元(161、162、163)，其具有在分面承载件上共同布置的多个变化分面(12；121、121′)，所述变化分面能够替代地位于精确的一个使用分面(12)的使用位置处。这导致分面反射镜能够用以在操作上可靠且稳定地设定不同的照明几何形状或照明设定。
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