公开(公告)号：CN101836163A

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：CN200780101177.9

申请日：2007-08-20

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： 丹尼·陈 ,  汉斯-于尔根·曼 ,  萨斯查·米古拉

IPC: G03F7/20 ,  G02B17/06 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70308 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70233 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种光学系统包括所布置的用以将波长λ的辐射从物面中的物场成像到像面中的像场的多个元件。所述多个元件包括布置在辐射路径中的多个镜元件，镜元件具有由反射涂层形成的反射表面。至少一个镜元件具有在一个或多个位置从最佳拟合旋转对称反射表面偏离约λ以上的非旋转反射表面。该元件包括切趾校正元件，相对于不具有切趾校正元件的光学系统，该切趾校正元件有效地校正光学系统的出瞳中的空间强度分布。优选地，相对于不具有切趾校正元件的光学系统，该切趾校正元件有效地增加出瞳中的空间强度分布的对称性。