公开(公告)号：CN1938646B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200580002853.8

申请日：2005-01-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： A·埃尔曼 ,  U·韦格曼 ,  R·霍赫 ,  J·马尔曼 ,  K·H·舒斯特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70991

Abstract: 本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置，该装置包括为浸渍操作构造的投影透镜(20)。为此，将浸渍液(34)引入位于投影透镜(20)的图像侧的末级透镜(L5；54)与待曝光的感光层(26)之间的浸渍空间(44)内。为了减小由在浸渍液(34)内出现的温度梯度导致的折射率的波动，该投影曝光装置(10)包括传热元件(50；501；502；503；504)，通过该传热元件可以指定方式加热或冷却浸渍液(34)的区域。