公开(公告)号：CN101223459A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200680018511.X

申请日：2006-05-23

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： U·韦格曼

IPC: G02B5/02 ,  G02B3/12 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B5/0278 ,  G01J1/04 ,  G01J1/0474 ,  G01J9/0215 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0294 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/706

Abstract: 1.光学散射盘、用途以及波阵面测量设备。2.1.本发明涉及一种光学散射盘，包括透明基底(1)和邻接基底的表面并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2)，该散射盘的用途以及装配了该散射盘的波阵面测量设备。2.2.依据本发明，光散射层具有较空气更为光密集的并邻接基底的衬面的包埋介质(4)，并且该包埋介质将包围光散射活性颗粒。2.3.借助横向切变干涉仪将其用于例如用来测量大孔径显微光刻投影物镜的波阵面的设备中。

公开(公告)号：CN1938646B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200580002853.8

申请日：2005-01-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： A·埃尔曼 ,  U·韦格曼 ,  R·霍赫 ,  J·马尔曼 ,  K·H·舒斯特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70991

Abstract: 本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置，该装置包括为浸渍操作构造的投影透镜(20)。为此，将浸渍液(34)引入位于投影透镜(20)的图像侧的末级透镜(L5；54)与待曝光的感光层(26)之间的浸渍空间(44)内。为了减小由在浸渍液(34)内出现的温度梯度导致的折射率的波动，该投影曝光装置(10)包括传热元件(50；501；502；503；504)，通过该传热元件可以指定方式加热或冷却浸渍液(34)的区域。