公开(公告)号：CN112540508A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202011414897.4

申请日：2020-12-04

Applicant: 厦门大学

Inventor： 林岳 ,  郑曦 ,  上官质彬 ,  吴挺竹 ,  陈国龙 ,  陈忠

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  C09K11/66

Abstract: 一种波长转换胶膜材料及其制备方法，涉及光功能材料。所述波长转换胶膜材料由光敏感聚合物、复合荧光转换材料、包覆基质组成，复合荧光转换材料制备时通过溶剂溶解，高温煅烧后所得粉末均匀分散在光敏感聚合物中。光敏感聚合物为对紫外光敏感的负性光刻胶；复合荧光转换材料为纳米晶发光中心的复合发光材料；包覆基质为二氧化硅多孔分子筛。通过与介孔分子筛混合高温烧结的方式，增强钙钛矿量子点的光、热、水稳定性，且在与负性光刻胶混合后仍具有高的量子产率。具有良好稳定性和紫外/蓝光下转换功能；采用光刻技术制备全彩化色转换层的方式降低工艺成本，有利于实际应用以及商业化；制备方法简单，可大批量制备，适于实际操作和应用。

公开(公告)号：CN112540508B

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN202011414897.4

申请日：2020-12-04

Applicant: 厦门大学

Inventor： 林岳 ,  郑曦 ,  上官质彬 ,  吴挺竹 ,  陈国龙 ,  陈忠

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  C09K11/66

Abstract: 一种波长转换胶膜材料及其制备方法，涉及光功能材料。所述波长转换胶膜材料由光敏感聚合物、复合荧光转换材料、包覆基质组成，复合荧光转换材料制备时通过溶剂溶解，高温煅烧后所得粉末均匀分散在光敏感聚合物中。光敏感聚合物为对紫外光敏感的负性光刻胶；复合荧光转换材料为纳米晶发光中心的复合发光材料；包覆基质为二氧化硅多孔分子筛。通过与介孔分子筛混合高温烧结的方式，增强钙钛矿量子点的光、热、水稳定性，且在与负性光刻胶混合后仍具有高的量子产率。具有良好稳定性和紫外/蓝光下转换功能；采用光刻技术制备全彩化色转换层的方式降低工艺成本，有利于实际应用以及商业化；制备方法简单，可大批量制备，适于实际操作和应用。