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公开(公告)号：CN111243925A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201911192818.7
申请日：2019-11-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , H01J37/32
Abstract: 本公开实施例提供一种在一离子布植机的一源电弧室中使用的排斥电极。排斥电极包括一轴以及具有一排斥表面的一排斥体。排斥表面具有一表面形状，其实质上装配于定位有排斥体的源电弧室的内室空间的形状。排斥体的边缘和源电弧室的内侧壁之间的间隙被最小化到一阈值水平，维持此阈值水平可以避免导电的排斥体和源电弧室的导电的内侧壁之间的短路。
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